技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種多路標(biāo)校裝置干涉處理與板面布局方法，其包括下列步驟：步驟一，根據(jù)防干涉要求、安裝板開孔、光學(xué)器件光路位置以及連接承力環(huán)受力特點(diǎn)，確定連接承力環(huán)開孔直徑大小、數(shù)量以及位置；步驟二，將連接承力環(huán)安裝在結(jié)構(gòu)板表面，注意開孔朝向應(yīng)與光學(xué)器件光路位置保持一致或?qū)R；步驟三，通過模型或布局仿真，確定光路起始控制點(diǎn)、光線通過路徑軸線以及多路光軸共面所在平面，在安裝板、連接承力環(huán)和載荷空心圓筒表面確定安裝接口等。本發(fā)明能有效解決了多路標(biāo)校裝置光軸互相干擾、指向不一致以及安裝位置狹小緊湊的布局。

技術(shù)研發(fā)人員：顧永坤;曲耀斌;黃業(yè)平;鄧武東;方無迪;張宗華;張國(guó)強(qiáng);陳雙全;龔迪;陳占勝;賴京
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海衛(wèi)星工程研究所
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.17
技術(shù)公布日：2017.09.08