專利名稱：鍍膜支架及鍍膜機的制作方法
技術領域：
本發明涉及鍍膜裝置領域，尤其涉及一鍍膜支架及包括該鍍膜支架的鍍膜機。
背景技術：
濺鍍是利用高能粒子(如離子)轟擊濺鍍靶表面，使被轟擊出的粒子(如原子、離子等)沉積于鍍件表面。濺鍍因具有較佳沉積效率、精確控制成份以及較低制造成本等優點，于工業上被廣泛應用。于濺鍍工藝中通常采用支架固定鍍件。該支架包括主軸及多個沿主軸軸向間隔設于主軸的掛具。該主軸一端與驅動裝置相連。每個掛具自主軸沿平行于主軸徑向的方向延伸，其中軸線垂直于主軸的中軸線。該掛具未與主軸相連的一端，即懸空部，與濺鍍靶相對， 用于固持鍍件。濺鍍時，該主軸于驅動裝置的驅動下以濺鍍靶為中心旋轉，從而帶動固持于掛具懸空部的鍍件圍繞濺鍍靶旋轉，實現對多個鍍件批量鍍膜。現有鍍膜支架中，各掛具的懸空部與濺鍍靶的距離恒定。而濺鍍靶與掛具的懸空部的距離影響鍍膜效果。距離過大，由于濺鍍靶濺射范圍有限，鍍層的厚度可能未達到規定值；距離過小，鍍層可能未形成于鍍件的整個待鍍表面或出現與濺鍍靶正對的鍍件表面的鍍層較厚而離濺鍍靶稍遠的鍍件表面的鍍層較薄，造成鍍層厚度不均。因此，有必要提供一種可靈活調整掛具懸空部與濺鍍靶間距的濺鍍支架及鍍膜機來提高鍍層均勻性。

發明內容
以下以實施方式為例說明一種提高鍍層均勻性的鍍膜支架及鍍膜機。—種鍍膜支架，包括主軸、掛具及轉接體。該轉接體一端與主軸相連。該掛具可移動地與該轉接體的另一端相連。一種鍍膜機，其包括上述鍍膜支架。相較于現有技術，本技術方案的鍍膜支架及鍍膜機設有轉接體，通過相對于該轉接體移動該掛具來改變掛具露出轉接體的長度，實現掛具與靶材的間距實時可調，從而可提高鍍層均勻性。


圖1是本技術方案一實施方式提供的鍍膜支架的俯視圖。圖2是圖1所示鍍膜支架沿II-II線剖開后的剖視圖。圖3是本技術方案另一實施方式提供的鍍膜機的剖視圖。主要元件符號說明鍍膜支架100主軸110滑動件120
掛具130
卡位件140
套筒121
轉接體122
弟犧1221
Λ-Λ- ~·上山弟J而1222
外周面1211
收容腔1223
切口1224
連接部131
懸空部132
卡槽133
鍍膜機200
真空容器210
靶材220
轉盤230
具體實施例方式以下結合附圖及具體實施方式
對本技術方案提供的鍍膜支架及鍍膜機進行詳細說明。參見圖1及圖2，本技術方案一實施方式提供的鍍膜支架100包括呈桿狀的主軸 110、多個滑動件120、多個掛具130及多個卡位件140。請參見圖2，每個滑動件120包括一個套筒121及四個轉接體122。套筒121套穿主軸110，通過螺釘等常用固定元件固定于主軸110的適當位置，若擰開該固定元件，于外力作用下，套筒121可沿主軸110滑動，并可通過該固定元件再次固定于主軸110的適當位置。如此，相鄰兩滑動件120的間距可得以調節。套筒121具有外周面1211。每個轉接體 122呈管狀，其具有第一端1221及與第一端1221相對的第二端1222。第一端1221直接連接于套筒121的外周面1211。轉接體122自外周面1211朝垂直于套筒121軸向的方向延伸。請一并參閱圖1及圖2，四個轉接體122于外周面1211的投影位于同一圓周，每相鄰兩轉接體122形成大致90度角。每個轉接體122設有開口收容腔1223及與收容腔1223相通的切口 1224。切口 1224沿平行于轉接體122軸向的方向延伸，并終止于靠近轉接體122 的第二端1222處。掛具130包括連接部131及與連接部131相連的懸空部132。連接部131設有多個沿其軸向排布的卡槽133。連接部131可滑動地收容于轉接體122的收容腔1223內，于外力的作用下，連接部131可沿轉接體122的軸向于收容腔1223內移動至部分露出該轉接體122外，由此調節懸空部132與主軸110的間距。懸空部132用于固持待鍍工件，其與連接部131形成大致T字形結構。請一并參閱圖1及圖2，卡位件140可拆卸地設于轉接體122的切口 1224內。卡位件140為螺釘，其一端旋入卡槽133，用于將連接部131卡位于轉接體122的一指定位置。
另，鍍膜支架100的結構不限于此，舉例而言，轉接體122的切口 1224可改設為多個沿轉接體122軸向呈直線數組排布的通孔；或懸空部132與連接部131的間通過螺紋嚙合，通過相對連接部131旋轉該懸空部132可實現部分連接部131位于該轉接體122外；或者轉接體122內壁設有沿其軸向延伸的滑槽，連接部131可滑動地卡合于該滑槽；或者省去該卡位件140，連接部131直接可滑動地設于連接部131內；或者略去套筒121，轉接體122 直接固定于主軸110的周面。總而言之，只要該連接部131可通過相對該轉接體122運動， 改變其位于該轉接體122外的長度即可。請一并參閱圖1至圖3，一使用上述鍍膜支架100的鍍膜機200包括一具有鍍膜腔體的真空容器210、固定于該真空容器210腔體內的至少一靶材220、鍍膜支架100及轉盤230。該鍍膜支架100與靶材220相對設置，且其主軸110 —端與轉盤230相連。轉盤 230可圍繞自身中軸線旋轉，可理解，鍍膜支架100將隨轉盤230圍繞轉盤230中軸線轉動。 鍍膜支架100還與驅動裝置(圖未示)相連，于該驅動裝置的驅動下，鍍膜支架100于圍繞轉盤230中軸線轉動的同時還將自轉，即圍繞自身中軸線轉動。使用鍍膜機200時，一并參閱圖2及圖3，調節懸空部132與靶材220的間距，即擰開卡位件140，沿轉接體122移動連接部131至適當位置，擰緊卡位件140，將連接部131固定于該位置。然后，驅動轉盤230及鍍膜支架100，使鍍膜支架100自轉并圍繞轉盤230的中軸線轉動，即可進行鍍膜。另外，若完成對小尺寸鍍件鍍膜后，需對大尺寸鍍件鍍膜，則沿主軸110滑動套筒 121調節相鄰兩滑動件120的間距，以固持于掛具130的懸空部132的鍍件不相互遮擋為且。相較于現有技術，本實施方式提供的鍍膜機200設有轉接體122，掛具130 —端可移動地收容于該轉接體122內，通過于該轉接體122內移動該掛具130改變掛具130露出轉接體122的長度，實現掛具130與靶材220的間距實時可調，該鍍膜支架100可與不同靶材220配套使用，提高鍍層均勻性。另外，相鄰兩套筒121的間距亦可調，即相鄰兩排掛具 130的間距可調，使得該鍍膜機200可適用于對不同尺寸的鍍件鍍膜，應用范圍較廣，無需針對不同尺寸的鍍件對應設置不同的鍍膜支架，無疑節約了生產成本。可以理解的是，本領域技術人員還可于本發明精神內做其它變化等用于本發明的設計，只要其不偏離本發明的技術效果均可。這些依據本發明精神所做的變化，都應包含在本發明所要求保護的范圍內。
權利要求
1.一種鍍膜支架，包括主軸及掛具，其特征是，該鍍膜支架還包括轉接體，該轉接體一端與主軸相連，該掛具可移動地與該轉接體的另一端相連。
2.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征是，該轉接體具有收容腔，該掛具包括連接部及用于固持待鍍工件的懸空部，該連接部一端可移動地收容于該收容腔內，另一端與該懸空部相連。
3.如權利要求2所述的鍍膜支架，其特征是，該鍍膜支架還包括套筒，該套筒可滑動地套穿該主軸，該轉接體一端固定于該套筒外壁。
4.如權利要求3所述的鍍膜支架，其特征是，該鍍膜支架還包括卡位件，該轉接體設有與該收容腔相通的切口，該連接部表面設有多個沿該連接部軸向排布的卡槽，該卡位件一端穿過該切口并與該卡槽卡合。
5.如權利要求3所述的鍍膜支架，其特征是，該鍍膜支架還包括卡位件，該轉接體設有多個與該收容腔相通的通孔，該多個通孔沿該轉接體的軸向排布，該連接部表面設有多個沿該連接部軸向排布的卡槽，該卡位件一端穿過該多個通孔中的一個通孔并與與該通孔對應的卡槽卡合。
6.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征是，該轉接體設有滑槽，該掛具包括連接部及用于固持待鍍工件的懸空部，該連接部一端可滑動地設于該滑槽內，另一端與該懸空部相連。
7.如權利要求2所述的鍍膜支架，其特征是，該連接部一端與該轉接體螺紋嚙合。
8.一種鍍膜機，包括一個鍍膜腔體、設置于該鍍膜腔體內的至少一個靶材及一個如權利要求1至7任一項所述的鍍膜支架，該鍍膜支架與該至少一個靶材相對設置。
全文摘要
本發明涉及一種鍍膜支架及一種包括該鍍膜支架的鍍膜機。該鍍膜支架包括主軸、掛具及轉接體。該轉接體一端與主軸相連。該掛具可移動地與該轉接體的另一端相連。該鍍膜支架及鍍膜機設有轉接體，通過相對于該轉接體移動該掛具改變掛具露出轉接體的長度，實現掛具與靶材的間距實時可調，可提高鍍層均勻性。
文檔編號C23C14/34GK102220557SQ20101014762
公開日2011年10月19日 申請日期2010年4月15日 優先權日2010年4月15日
發明者吳佳穎 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司