蒸鍍裝置及蒸鍍方法
【專利摘要】在水平蒸鍍型的有機EL膜成膜用蒸鍍裝置中，極力降低蒸鍍源的無意義的蒸鍍時間。有機EL膜成膜用的蒸鍍裝置具備：配置有真空機器人的機器人搬送室；與該機器人搬送室連接的2個蒸鍍室；能夠放置2張基板且水平收放在蒸鍍室內的分度工作臺；使分度工作臺在水平方向上旋轉的旋轉單元；以及位于分度工作臺的下方，能夠在水平方向上移動地配置的蒸鍍源。真空機器人能夠在蒸鍍室與機器人搬送室之間在水平方向搬入、搬出基板，在使用蒸鍍源對放置在分度工作臺上的2張基板中的一方進行蒸鍍時，利用真空機器人將另一方的基板從蒸鍍室搬出到機器人搬送室，取而代之將新的基板從機器人搬送室搬入蒸鍍室。蒸鍍結束后，旋轉分度工作臺。
【專利說明】蒸鍍裝置及蒸鍍方法
【技術領域】[0001]本發明涉及蒸鍍裝置及蒸鍍方法，尤其涉及適宜有機EL膜的蒸鍍的蒸鍍裝置及蒸鍍方法。
【背景技術】
[0002]專利文獻1、2中記載了現有的有機EL膜成膜用蒸鍍裝置的例子。在這些公報中，為了提供材料損失小、經濟性好的有機EL器件制造裝置，在真空腔內能夠配置2張以上的基板。并且，在使用從蒸鍍源蒸鍍的蒸鍍材料蒸鍍第一張基板時，將其他基板搬入真空腔內，在使用蒸鍍材料蒸鍍第二張基板時，從真空腔搬出第一張基板。或者，在蒸鍍第一張基板時，結束其他基板的位置對準，在使用與第一張基板的蒸鍍中所使用的同一蒸鍍源對第二張基板進行蒸鍍時，從真空腔搬出第一張基板。在專利文獻2中，進而在搬送中將基板的蒸鍍面作為上側進行搬送。
[0003]專利文獻1:日本特開2010-86956號公報
[0004]專利文獻2:日本特開2010-62043號公報

【發明內容】

[0005]在作為制造有機EL器件的有利方法的真空蒸鍍法中，為了持續穩定的蒸鍍，需要進行控制以使得從蒸鍍源保持一定的材料蒸鍍速度。為此，使用電阻加熱或感應加熱等方法加熱蒸鍍材料進行物理蒸鍍(PVC)，但是為了使蒸鍍速度穩定需要一定的時間，不容易實現從蒸鍍源的材料蒸鍍恰似開關0N/0FF那樣的控制。另外，為了保持一定的材料蒸鍍速度，需要一直進行蒸鍍，因此在不需要蒸鍍的基板的搬出搬入工序和定位工序中也會進行蒸鍍，在這些工序中，從蒸鍍源蒸鍍的材料不會對蒸鍍工序產生任何貢獻，其結果造成了材料損失。
[0006]因此，在上述專利文獻1、專利文獻2中，在真空腔內以垂直地直立基板的狀態進行蒸鍍的垂直蒸鍍方式中，在真空腔內能夠收放多個基板，在對一方的基板進行蒸鍍時，搬入、搬出另一方的基板中的任意一個或定位另一方的基板中的任意一個。但是，即使在該專利文獻1、2所記載的方法中，在結束了一方的基板的蒸鍍后對搬入的另一方的基板進行蒸鍍時，也要將蒸鍍源從一方的基板的位置移動到另一方的基板的位置，因此，在移動期間需要用擋板等遮蔽蒸鍍源以防止向基板或基板外進行蒸鍍，并且向擋板等進行無意義地蒸鍍。
[0007]可是，由于有機EL材料昂貴，因此要尋求盡量避免無意義的使用。上述專利文獻
1、2與以往相比，雖然飛躍性地降低了蒸鍍物的無意義的使用，但是盡管如此也仍要尋求降低關系到產品價格的上升的有機EL材料的損失。此外，當損失材料變多時,還會出現材料的更換頻度變高、減少裝置的運轉時間這樣的缺陷。
[0008]并且，該專利文獻1、2中所記載的方案是將基板垂直放置來進行蒸鍍的方案，未考慮將基板保持為水平狀態從基板的下表面進行蒸鍍的、水平蒸鍍的情況。[0009]本發明是鑒于上述現有技術的缺陷而完成的，其目的在于，在水平蒸鍍型的有機EL膜成膜用蒸鍍裝置中，極力降低蒸鍍源的無意義的蒸鍍時間。本發明的另一目的在于，在上述目的的基礎上，提高蒸鍍源的有效運轉率、減少材料損失、降低有機EL器件的制造成本。
[0010]達成上述目的的本發明的特征在于，有機EL膜成膜用的蒸鍍裝置具備:配置有真空機器人的機器人搬送室；隔著閘閥與該機器人搬送室連接的I個或2個蒸鍍室；能夠放置多張基板且水平收放在所述蒸鍍室內的分度工作臺；使該分度工作臺在水平方向上旋轉的旋轉單元；以及位于所述分度工作臺的下方且與所述多張基板中的一張基板對置，能夠在水平方向上移動地配置的蒸鍍源，所述真空機器人能夠在所述蒸鍍室與所述機器人搬送室之間在水平方向上搬入、搬出基板，在使用所述蒸鍍源對放置在所述分度工作臺上的多張基板中的一張基板進行蒸鍍時，利用所述真空機器人將另一張基板從所述蒸鍍室搬出到所述機器人搬送室，取而代之將新的基板從所述機器人搬送室搬入所述蒸鍍室。
[0011]并且，在該特征中，優選所述旋轉機構利用磁性流體密封機構將配置在所述蒸鍍室外的馬達的旋轉驅動力傳遞給收放在所述蒸鍍室內的所述分度工作臺，也可以在放置于所述分度工作臺的基板的蒸鍍面的相反面側配置具有工件抬起部的壓板，并且具備:缸體，其配置在所述蒸鍍室的外部；波紋管，其連接于該缸體的一端；升降軸，其通過連接在該波紋管的內側的浮動接頭與所述波紋管連接其配置在所述蒸鍍室內；以及插口部，其設于該升降軸的下端部且能夠嵌入上述工件抬起部。
[0012]另外，優選所述分度工作臺能夠放置2個基板并形成有:在遠離所述機器人搬送室的一側實施利用所述蒸鍍源的蒸鍍的蒸鍍位置；以及在靠近所述機器人搬送室的一側利用所述真空機器人搬入、搬出基板的交接位置。
[0013]達成上述目的的本發明的另一特征在于，蒸鍍方法是利用在機器人搬送室內配置的真空機器人，對附設于所述機器人搬送室的蒸鍍室內配置的多張基板進行蒸鍍以及搬入、搬出的有機EL膜成膜基 板的蒸鍍方法，使用所述真空機器人將多張基板放置到水平配置的分度工作臺上，針對多張基板中的I張基板，使位于該基板下方且與基板相對配置的蒸鍍源移動來進行蒸鍍，在其蒸鍍中，利用所述真空機器人將另一張基板搬出到所述機器人搬送室，并且將新的基板搬入到所述蒸鍍室并放置到所述分度工作臺上，當所述蒸鍍中的基板的蒸鍍結束后，在水平方向上旋轉所述分度工作臺將未蒸鍍的基板定位于所述蒸鍍源的位置，此后重復上述步驟。
[0014]并且，在該特征中，優選在將所述基板搬入所述蒸鍍室時或將所述基板搬出到所述機器人搬送室時，將配置在與所述基板的蒸鍍面為相反面側上的工件抬起部，嵌入到通過波紋管與配置在所述蒸鍍室外的缸體連接的升降軸的前端的插口部中，從而將所述基板從所述分度工作臺抬起或將所述基板下放到所述分度工作臺上。
[0015]本發明的效果如下。
[0016]根據本發明，在水平蒸鍍型的有機EL膜成膜用蒸鍍裝置中，在同一真空腔內能夠配置多個基板，在蒸鍍一方的基板時，將其他基板搬入及搬出真空腔，在基板的蒸鍍結束后立即更換多個基板的位置，由此能夠極力降低蒸鍍源的無意義的蒸鍍時間。另外，由于提高了蒸鍍源的有效運轉率且減少了材料損失，因此降低了有機EL器件的制造成本。【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是本發明的有機EL蒸鍍線的一實施例的俯視圖。
[0018]圖2是示意性地表示圖1所示的有機EL蒸鍍線所具備的蒸鍍裝置的一部分的俯視圖。
[0019]圖3是說明基板在圖2所示的蒸鍍裝置內移動的狀態的俯視圖。
[0020]圖4是圖1所示的有機EL蒸鍍線所具備的蒸鍍裝置的局部俯視圖。
[0021]圖5是以主視剖視圖來表示圖4所示的蒸鍍裝置的一部分的圖。
[0022]圖6是圖5的T部的放大圖。
[0023]圖7是收放于圖5所示的蒸鍍室內的分度工作臺周圍的分解立體圖。
[0024]圖8是圖7的U部分放大圖。
[0025]圖9是圖7的V部分剖視圖。
[0026]圖中:
[0027]100—有機EL蒸鍍線，101~108—機器人搬送室，111~119—交接室，121a~128b—蒸鍍室，130~137—群組(蒸鍍裝置)，141a~148b —閘閥，211—蒸鍍位置，212—交接位置，213—分度工作臺，213b—開口，214a、214b—切換動作(反轉)，215—分度工作臺的干涉區域，216—交接位置，221—蒸鍍源折回位置，222—蒸鍍源移動方向，223—蒸鍛源折回位置，231a~238b —閘閥,401—真空機器人，402一機器人手，403—機器人臂，403a —上臂，403b —下臂，405—馬達，413—掩膜框，422—馬達，423—支架，424—滑輪，425一帶,426—滑輪,427—軸承,428—旋轉軸,429—旋轉臂，429a—孔,431一缸體，432—支架，433—浮動接頭，434—升降軸，434a—插口部，434b—槽，434c—卡定部，435—波紋管，436—直動導向件，437—工件抬起部，437a—貫通部，437b—鉤掛部，437c—頭部，441 一大氣箱，442—直動導向件，442a —導桿，442b—導軌，443—基座，444一馬達，445—連軸器，446—磁性流體密封件，447—小齒輪，448—齒條，449一配線、配管，450、450a~450c—配線臂，SO~S2—基板，VDS—蒸鍍源。
【具體實施方式】
[0028]以下，使用【專利附圖】

【附圖說明】本發明的有機EL蒸鍍線及其所具備的蒸鍍裝置的一實施例。圖1是通常所采用的有源矩陣型的有機EL蒸鍍線100的俯視圖。圖2及圖3是取出該有機EL蒸鍍線100所具備的多個蒸鍍裝置130~137中的I個的圖。圖2是取出機器人搬送室101~108及配置在各個該機器人搬送室101~108的兩側部的蒸鍍室121a~128b的一方的俯視圖。圖3是用于說明基板SO~S2在該取出的蒸鍍室121a和機器人搬送室101內的移動狀態的俯視圖。
[0029]然而，在制作具備有機EL蒸鍍膜的有機EL器件的情況下，不僅需要發光材料層(EL層)，還需要夾持EL層的電極層、在陽極上形成的空孔注入層、輸送層、在陰極上形成的電子注入層等各種各樣的薄膜。因此，雖然使用多個蒸鍍材料形成所需的層，但是各層是使每一蒸鍍材料蒸鍍而在基板上形成的蒸鍍膜層，多層層疊這些各層最終完成有機EL器件。
[0030]具體而言，在制作有源矩陣型的有機EL器件的情況下，在TFT基板(背面板)上，按照空孔注入層(HIL)、空孔輸送層(HTL)、紅色發光層(R)、綠色發光層(G)、藍色發光層(B)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)、陰極(cathode)的順序重疊層進行蒸鍍。圖1示意性地表示了該具體的例子。此外，為了提高有機EL器件的特性，也存在根據需要追加或省略任意的層的情況。
[0031]在本實施例中，由于有機EL蒸鍍線100在左右的蒸鍍室(例如，121a和121b)中對同一蒸鍍膜進行成膜，因此能夠作成8層蒸鍍膜層。在各機器人101~108的前后兩側配置閘閥141a~148b，在閘閥141a的上游側配置交接室111，在閘閥141b和閘閥142a之間配置交接室112，以下以同樣的方式在閘閥142b~148a之間配置交接室113~118。在閘閥148b的下游側配置交接室119。
[0032]在各機器人搬送室101~108中收放在后面將詳細敘述的真空機器人。在各機器人搬送室101~108的左右兩側部且在與交接室111~119大體垂直的方向上，通過閘閥231a~238b配置蒸鍍室121a~128b。
[0033]在這樣構成的有機EL蒸鍍線100中，利用安裝在各交接室111~119上的閘閥141a~148b，可以將機器人搬送室101~108和配置在其左右兩側的蒸鍍室121a~128b隔成8組群組(蒸鍍裝置)130~137。例如，第一蒸鍍裝置130具有機器人搬送室101及左右的蒸鍍室121a、121b，通過關閉閘閥141a、141b，可以將其與其他蒸鍍室122a~128b和機器人搬送室102~108隔開。
[0034]在該圖1所示的有機EL蒸鍍線100中，將經過了蒸鍍前的工序即退火工序、等離子清洗工序等的、未圖示的基板，供給到在圖1中位于上端的交接室111。另一方面，將經過了一系列的蒸鍍膜制作工序的基板從下端的交接室119輸送給下一工序。此外，在蒸鍍工序中，能夠利用未圖示的真空泵將圖1所示的所有機器人搬送室101~108及蒸鍍室121a~128b抽真空至10-6Pa的真空壓力。
[0035]首先，在打開閘閥141a后，通過搬送單元將供給到交接室111的基板SO搬送到機器人搬送室101。接著，關閉閘閥141a，打開在機器人搬送室101的左右任意一側設置的閘閥231a或231b，通過配置在機器人搬送室101內的真空機器人將該基板SO導入該打開的閘閥231a (231b)側的蒸鍍室121a (121b)。為了進行下一層的蒸鍍，利用配置在機器人搬送室101內的真空機器人從蒸鍍室121a (121b)取出在蒸鍍室121a (或121b)中結束了蒸鍍的基板S0。然后，為了形成下一蒸鍍層，打開閘閥141b，搬送單元將基板SO輸送到交接室112。以下，重復同樣的程序，將導入到交接室119的基板SO交付給下一工序。
[0036]下面，使用圖2及圖3說明作為本發明的特征的、在由I個真空腔構成的蒸鍍室121a內配置2張基板S0、SI對基板進行真空蒸鍍及將基板搬入、搬出蒸鍍室121a內的步驟。在該圖2及圖3中，僅示意性地表示了主要的構成要素。關于在蒸鍍工序中制作最初的層的蒸鍍裝置130，僅說明一側的蒸鍍室121a。在其他蒸鍍裝置131~137以及相反側的蒸鍍室121b中，也以同樣的方式實施對基板的蒸鍍以及基板的搬送、搬入。
[0037]在蒸鍍室121a中設置能夠并列配置2張基板的分度工作臺213。遠離機器人搬送室101的左側的基板位置為蒸鍍位置211，靠近機器人搬送室101的右側的基板位置為交接位置212。分度工作臺213能夠左右旋轉180°，在向蒸鍍室121a進行基板的搬入以及基板的搬出時，作為切換動作214a、214b進行反轉動作。即使分度工作臺213向左右旋轉，遠離機器人搬送室101的一側也總是蒸鍍位置211。通過分度工作臺213向左右旋轉180度，在蒸鍍室121a內形成分度工作臺干涉區域215。
[0038]如在后面詳細敘述的那樣，在蒸鍍位置211 —側，在分度工作臺213的下方且與基板相對地配置有蒸鍍源VDS。蒸鍍源VDS在基板的下表面側蒸鍍蒸鍍材料。蒸鍍源VDS以分度工作臺213的前后端部的附近作為蒸鍍源折回位置221、223，沿蒸鍍室121a的前后方向222進行往復運動。
[0039]圖3說明了在蒸鍍一方的基板SI時，利用分度工作臺213搬出另一方的基板SO并搬入新基板S2的情況。首先，在步驟(A)中，開始蒸鍍基板SI的準備。將已經結束了蒸鍍的基板SO (使用影線表示)定位于交接位置212，將蒸鍍前的基板SI定位于蒸鍍位置211。此時，蒸鍍源VDS位于基板S12的前端側附近即蒸鍍源折回位置221上。
[0040]接著，在步驟(B)中，使蒸鍍源VDS沿蒸鍍源移動方向222移動，在基板SI表面上形成蒸鍍膜。另一方面，利用配置在機器人搬送室101中的、未圖示的真空機器人，將已經形成了應該在該蒸鍍室121a中進行成膜的蒸鍍膜的基板SO從蒸鍍室121a搬出到機器人搬送室101。這里，在機器人搬送室101中形成有基板交接位置216，將形成了蒸鍍膜的基板SO配置在該基板交接位置216。之后，利用機器人搬送室101的未圖示的搬送單元，將基板SO輸送給下一工序。
[0041]在步驟(C)中，利用機器人搬送室101的搬送單元，代替結束了蒸鍍的基板SOdf新的基板S2放置在基板交接位置216。在這期間蒸鍍源VDS仍繼續對基板SI進行蒸鍍。機器人搬送室101的真空機器人將新的基板S2搬入到蒸鍍室121a內的交接位置212上。由此，完成了基板SO和基板S2的交替。之后，等待蒸鍍室121a內的基板SI的成膜完成。
[0042]接著，在步驟(D)中，當蒸鍍室121a中的基板SI的成膜完成后，使分度工作臺213向左右任意一個方向、在圖3中為214b即向右側旋轉180度。此時，蒸鍍源VDS位于后端側的蒸鍍源折回位置223上。由于分度工作臺213旋轉了 180°，因此返回到與步驟(A)的狀態同樣的狀態。但是，僅蒸鍍源VDS位置不同。之后，使蒸鍍源VDS沿蒸鍍源移動方向222移動，開始蒸鍍基板S2。與此并行，利用真空機器人從蒸鍍室121a搬出位于基板交接位置212上的基板SI。以下，重復上述步驟(A)~(D)的動作。
[0043]在以上的程序中，實質上不參`與蒸鍍基板面的時間僅是分度工作臺213旋轉的時間，提高了蒸鍍效率。尤其是，通過分配到分度工作臺213的基板的張數，唯一地決定了分度工作臺213的旋轉角度，因此能夠預先確定分度工作臺213的旋轉角，能夠顯著減少旋轉所需的時間。例如，也可以使用棘爪這樣的機構來機械性地確定旋轉角度。
[0044]下面，使用圖4至圖9說明蒸鍍室及機器人搬送室的具體結構。圖4是具備機器人搬送室101和2個蒸鍍室121a、121b的蒸鍍裝置130的俯視圖，關于左側的蒸鍍室121a和機器人搬送室101，其一部分使用剖視圖來表示。另外，圖5是左側的蒸鍍室121a和機器人搬送室101的主視圖，其中一部分使用剖視圖來表示。圖6是圖5中的T部分的放大圖。圖7是在蒸鍍室121a內收放的分度工作臺213周圍的分解立體圖。圖8、圖9分別是圖7的U部分放大圖及V部分剖視圖。
[0045]在機器人搬送室101和各蒸鍍室121a、121b之間設置閘閥231a、231b。在機器人搬送室101中配置縱軸的真空機器人401，該真空機器人401用于將基板SI (SO)搬入蒸鍍室121a，從蒸鍍室121a搬出基板S1(S0)。真空機器人401具備:由上臂403a及下臂403b構成的機器人臂403 ;以及安裝在機器人臂403的前端部的十字形狀的機器人手402。通過安裝在機器人搬送室101的下部的馬達405驅動真空機器人401。
[0046]在圖4中，以實線來表示的機器人臂403及機器人手402表示為了從蒸鍍室121a搬出基板SO而延伸到交接位置212的狀態，以點劃線表示的機器人臂403及機器人手402表示將基板SO搬送到設置在機器人搬送室101中的交接位置216上來向下一工序進行運送之前的狀態。此外，在右側的蒸鍍室121b中使用真空機器人401的情況下，在折疊機器人臂403的狀態下，使機器人臂403及機器人手402繞馬達405的軸旋轉180°。在機器人手401的上表面側形成有基板保持機構，以便使基板能夠穩定地保持在機器人手401的上表面。
[0047]如圖6所示，基板SI隔著掩膜框413放置在分度工作臺213上，壓板411保持在基板SI的上表面。這里，利用省略圖示的相互的對準標記預先定位掩膜框413和基板SI，在該狀態下進行利用機器人臂403的搬送。
[0048]在蒸鍍室121a內，在上部配置有分度工作臺213，在下部配置有蒸鍍源VDS。在蒸鍍源VDS的上表面形成有沿左右方向(與蒸鍍源VDS的移動方向222成直角的方向)呈列狀排列的多個開口(噴嘴)。即，蒸鍍源VDS在內部收放有作為蒸鍍材料的發光材料，從呈列狀排列的多個噴嘴噴射該發光材料。對收放在蒸鍍源VDS中的蒸鍍材料進行加熱，以獲得穩定的蒸鍍速度的方式進行控制。另外，根據需要，也可以同時加熱添加劑進行蒸鍍。
[0049]在蒸鍍源VDS的下側配置有大氣箱441。通過安裝在大氣箱441的底面的直動導向件442，大氣箱441和蒸鍍源VDS能夠一起沿蒸鍍源VDS的移動方向222移動。直動導向件442由一對導桿442a和該導桿442a可以在其上直線運動的導軌442b構成。導軌442b固定在安裝于蒸鍍室121a內的基座443上。為了使蒸鍍源VDS和大氣箱441移動，在大氣箱441的內部收放有馬達444。
[0050]馬達444的輸出軸通過連軸器445與磁性流體密封件446連接。磁性流體密封件446用于密封大氣狀態的大氣箱441和真空狀態的蒸鍍室121a。在磁性流體密封件446的真空側的前端安裝有小齒輪447，小齒輪447與齒條448嚙合，該齒條448與一對導軌442b平行配置并固定在基座443 上。
[0051]因此，配置在大氣側的馬達444的驅動力通過磁性流體密封件446傳遞給小齒輪447，通過小齒輪447和齒條448的嚙合，導桿442a在導軌442b上滑動。由此，蒸鍍源VDS能夠沿移動方向222移動。
[0052]馬達444等的配線、配管449保持在與大氣箱441密封連接的配線臂450(450a~450c)內。為了將配線、配管449引出到蒸鍍室121a外，配線臂450在一端側具有向大氣開放的開口。在圖4中，以虛線及實線表示的配線臂450為蒸鍍源VDS位于前端側的蒸鍍源折回位置221的場合，以點劃線表示的配線臂450為蒸鍍源VDS位于后端側的蒸鍍源折回位置223的場合。
[0053]在蒸鍍室121a的上部設置有將基板S1、SO保持在分度工作臺213上的基板保持機構。基板保持機構大致包括:在將基板SO(Sl)搬入蒸鍍室121a內或搬出到蒸鍍室121a外時用于抬起或下放基板SO (SI)及掩膜框413、壓板411的機構；以及使分度工作臺213旋轉的機構。
[0054]抬起或下放基板SO (SI)等的機構具有:固定在設置于蒸鍍室121a的外側上面的支架423上且用于驅動分度工作臺213的馬達422 ;傳遞馬達422的動力的旋轉傳遞機構(424、425、426);成為輸出軸的旋轉軸428 ;以及與旋轉軸428的前端部連接的平板狀的旋轉臂429。旋轉傳遞機構具有:安裝在馬達422的輸出軸上的滑輪424 ;卷繞于該滑輪424的帶；以及安裝在旋轉軸428的一端側上的滑輪426。另外，通過多個軸承427旋轉支承旋轉軸428。
[0055]如圖7所示，在旋轉臂429的相當于各基板S0、SI的中央部的部分上形成有孔429a，在配置于各基板S0、SI的背面側的具有磁性的壓板411的中央部上設置的工件抬起部437能夠貫通該孔429a。如圖8所示，工件抬起部437具有頭部437c、比該頭部437c小徑的鉤掛部437b以及貫通在旋轉臂429上形成的孔429a的貫通部437a。
[0056]如上所述，基板SI與掩膜框413、以及基板SO與掩膜框413分別被預先定位。在對基板SI等進行蒸鍍時，為了確保蒸鍍面，在分度工作臺213上左右形成一對比基板SI的蒸鍍面稍大的開口 213b。在該一對的開口 213b之間設有支柱213a，該支柱213a與旋轉臂429的下表面連接。因此，在旋轉臂429和分度工作臺213之間僅形成該支柱213a高度的間隙。
[0057]另一方面，用于抬起或下放由基板SO (SI)及掩膜框413、壓板411等構成的工件的機構具有:在前端安裝與設置在壓板411的上表面側的工件抬起部437卡定的插口部434a的升降軸434 ;安裝該升降軸的另一端的波紋管435 ;固定在波紋管435的外側的浮動接頭433 ;以及與浮動接頭433連接并安裝在固定于蒸鍍室121a的外側的支架432上的缸體431。該波紋管435對真空的蒸鍍室121a內與配置了缸體431的大氣側進行密封。與此同時，上下伸縮，從而能夠通過缸體431的動作使升降軸434上下運動。通過固定在蒸鍍室121a的直動導向件436引導升降軸434。
[0058] 如圖7所示，安裝在升降軸434的前端的插口部434a具有沿水平方向延伸的槽434b，該槽434b能夠與工件抬起部437的頭部437c嵌合。這里，工件抬起部437的頭部437c的上表面形狀為利用平行的2條直線切取圓的一部分而形成的近似長方形(參見圖8)。在將工件抬起部437的頭部437c與該槽434b嵌合后，如果將插口部434a相對于頭部437c旋轉90度，則頭部437c與卡定部434卡定。由此，通過缸體431的直動動作能夠抬起、下放基板SO (SI)。
[0059]此外，圖5示出了，當基板SO位于基板交接位置212時，利用工件抬起部437從機器人手402抬起包含基板SO的工件的狀態，或利用工件抬起部437將工件向機器人手402上進行移置之前的狀態。
[0060]在本實施例中，在對配置在蒸鍍室內的2張基板的一方進行蒸鍍時，驅動設置在大氣側的缸體，將包含另一方的基板的工件從分度工作臺抬起并下放到安裝在真空機器人的前端部的機器人手上來進行移置。另外，驅動真空機器人從蒸鍍室搬出另一方的基板。進而，同樣使用真空機器人搬入新基板，驅動缸體將新基板從機器人手抬起并下放到分度工作臺進行定位。然后，當一方的基板的蒸鍍完成后，立即驅動馬達旋轉分度工作臺。由此，能夠幾乎無間斷地連續蒸鍍基板。
【權利要求】
1.一種蒸鍍裝置，其為有機EL膜成膜用的蒸鍍裝置，并具備: 配置有真空機器人的機器人搬送室； 隔著閘閥與該機器人搬送室連接的I個或2個蒸鍍室； 能夠放置多張基板且水平收放在所述蒸鍍室內的分度工作臺； 使該分度工作臺在水平方向上旋轉的旋轉機構；以及 位于所述分度工作臺的下方且與所述多張基板中的一張基板對置，能夠在水平方向上移動地配置的蒸鍍源， 該蒸鍍裝置的特征在于， 所述真空機器人能夠在所述蒸鍍室與所述機器人搬送室之間在水平方向上搬入、搬出基板，在使用所述蒸鍍源對放置在所述分度工作臺上的多張基板中的一張基板進行蒸鍍時，使用所述真空機器人將另一張基板從所述蒸鍍室搬出到所述機器人搬送室，取而代之將新的基板從所述機器人搬送室搬入所述蒸鍍室。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 所述旋轉機構利用磁性流體密封機構，將配置在所述蒸鍍室外的馬達的旋轉驅動力傳遞給收放在所述蒸鍍室內的所述分度工作臺。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 在放置于所述分度工作臺的基板的蒸鍍面的相反面側配置具有工件抬起部的壓板， 所述蒸鍍裝置具備: 缸體，其配置在所述蒸鍍室的外部； 波紋管，其連接于該缸體的一端； 升降軸，其通過連接在該波紋管的內側的浮動接頭與所述波紋管連接且配置在所述蒸鍍室內；以及 插口部，其設于該升降軸的下端部且能夠嵌入所述工件抬起部。
4.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 在放置于所述分度工作臺的基板的蒸鍍面的相反側配置具有工件抬起部的壓板， 所述蒸鍍裝置具備: 缸體，其配置在所述蒸鍍室的外部； 波紋管，其連接于該缸體的一端； 升降軸，其通過連接在該波紋管的內側的浮動接頭與所述波紋管連接且配置在所述蒸鍍室內；以及 插口部，其設于該升降軸的下端部且能夠嵌入所述工件抬起部。
5.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 所述分度工作臺能夠放置2個基板，并形成有:在遠離所述機器人搬送室的一側實施利用所述蒸鍍源的蒸鍍的蒸鍍位置；以及在靠近所述機器人搬送室的一側利用所述真空機器人搬入、搬出基板的交接位置。
6.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 所述分度工作臺能夠放置2個基板，并形成有:在遠離所述機器人搬送室的一側實施利用所述蒸鍍源的蒸鍍的蒸鍍位置；以及在靠近所述機器人搬送室的一側利用所述真空機器人搬入、搬出基板的交接位置。
7.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 所述分度工作臺能夠放置2個基板，并形成有:在遠離所述機器人搬送室的一側實施利用所述蒸鍍源的蒸鍍的蒸鍍位置；以及在靠近所述機器人搬送室的一側利用所述真空機器人搬入、搬出基板的交接位置。
8.根據權利要求4所述的蒸鍍裝置，其特征在于， 所述分度工作臺能夠放置2個基板，并形成有:在遠離所述機器人搬送室的一側實施利用所述蒸鍍源的蒸鍍的蒸鍍位置；以及在靠近所述機器人搬送室的一側利用所述真空機器人搬入、搬出基板的交接位置。
9.一種蒸鍍方法，其是利用配置在機器人搬送室內的真空機器人，對配置在附設于所述機器人搬送室的蒸鍍室內的多張基板進行蒸鍍以及搬入、搬出的有機EL膜成膜基板的蒸鍍方法， 該蒸鍍方法的特征在于， 使用所述真空機器人將多張基板放置到水平配置的分度工作臺上，針對多張基板中的I張基板，使位于該基板下方且與基板相對配置的蒸鍍源移動來進行蒸鍍，在其蒸鍍中，利用所述真空機器人將另一張基板搬出到所述機器人搬送室，并且將新的基板搬入到所述蒸鍍室并放置到所述分度工作臺上，當所述蒸鍍中的基板的蒸鍍結束后，在水平方向上旋轉所述分度工作臺而將未蒸鍍的基板定位于所述蒸鍍源的位置，此后重復上述步驟。
10.根據權利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于， 在將所述基板搬入所述蒸鍍室時或者將所述基板搬出到所述機器人搬送室時，將配置在與所述基板的蒸鍍面的相反面側上的工件抬起部，嵌入到通過波紋管與配置在所述蒸鍍室外的缸體連接的升降軸的·前端的插口部中，從而將所述基板從所述分度工作臺抬起或將所述基板下放到所述分度工作臺上。
【文檔編號】C23C14/24GK103710678SQ201310339337
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年8月6日 優先權日:2012年9月28日
【發明者】若林雅, 加藤升, 石澤泰明, 圖師庵 申請人:株式會社日立高新技術