專利名稱：一種具有輔助開口的掩模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種掩模板，具體涉及一種具有輔助開口的掩模板及其制作方法，屬于OLED掩模板制造領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
OLED相對(duì)其它顯示屏具有可視范圍寬、響應(yīng)快、功耗小等突出優(yōu)點(diǎn)，因此OLED顯示技術(shù)日益受到人們的關(guān)注。蒸鍍工序是OLED顯示技術(shù)的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，蒸鍍中需要用到蒸鍍用的掩模板，有機(jī)蒸鍍材料通過掩模板的開口蒸鍍淀積到ITO玻璃面，其中掩模板的開口精度會(huì)直接影響到蒸鍍質(zhì)量。目前常用的一種掩模用具，如圖1所示是一種具有掩模開口的掩模板，圖1中，11為掩模板主體，12為外框，13為掩模區(qū)域,14為焊點(diǎn),掩模板制作好后，需要將其繃網(wǎng)使板面及掩模區(qū)域均受到一定的拉力，其目的是使板面平整且使掩模區(qū)域開口間的狹長金屬絲繃緊(保證開口精度，防止下垂)，繃網(wǎng)的具體操作通常是:將掩模板通過固定孔固定到繃網(wǎng)機(jī)構(gòu)上一繃?yán)?使板面平整且使金屬絲繃緊)一激光焊接(將掩模板主體11固定到外框12上，焊點(diǎn)為14)—沿半刻線將半刻線(圖中未示出半刻線)以外的區(qū)域撕下，即已經(jīng)固定好掩模板。但固定后掩模區(qū)域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開口間的狹長金屬絲會(huì)下垂，致使兩邊的開口精度不高，從而影響蒸鍍質(zhì)量，為此有必要提出一種掩模板結(jié)構(gòu)解決此問題。
實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)。本實(shí)用新型提供了一種具有輔助開口的掩模板及其制作方法。一種具有輔助開口的掩模板，包括掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開口組成；輔助開口圖案，所述輔助開口圖案由輔助開口構(gòu)成，所述輔助開口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側(cè)，所述輔助開口長度方向與所說掩模開口長度方向平行。根據(jù)本專利背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，如圖1所示，將掩模板通過固定孔固定到繃網(wǎng)機(jī)構(gòu)上繃?yán)拱迕嫫秸沂菇饘俳z繃緊后進(jìn)行激光焊接(將掩模板主體11固定到外框12上，焊點(diǎn)為14)并沿半刻線將半刻線以外的區(qū)域撕下，即已經(jīng)固定好掩模板。但固定后掩模區(qū)域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開口間的狹長金屬絲會(huì)下垂，致使兩邊的開口精度不高，從而影響蒸鍍質(zhì)量，本實(shí)用新型提供的具有輔助開口的掩模板則加入一個(gè)輔助結(jié)構(gòu)，使受力較小的區(qū)域外移至輔助開口上，從而保證了掩模圖案區(qū)域中間和兩側(cè)達(dá)到預(yù)期的開口精度，保證蒸鍍質(zhì)量。另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開的掩模板的還具有如下附加技術(shù)特征:進(jìn)一步地，所述掩模圖案的數(shù)量大于等于1，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案數(shù)量比為2:1。可選地，當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案排成一列時(shí)，在所述掩模圖案之間有一組輔助開口，即兩個(gè)掩模圖案共用一組輔助開口。[0008]當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案排成一列時(shí)，基于掩模板及掩模圖案整體設(shè)計(jì)的考慮，可以將兩個(gè)所述掩模圖案之間兩組輔助開口圖案合并為一組輔助開口圖案，同時(shí)使輔助開口避開掩模淀積區(qū)域。優(yōu)選地，所述掩模開口和所述輔助開口的開口結(jié)構(gòu)相同且為通孔。如此，可以使掩模開口和輔助開口受力狀況一致，保證之后的蒸鍍質(zhì)量。 可選地，所述輔助開口和所述掩模開口的開口形狀相同但為封閉孔。輔助開口部分只在掩模板的一面蝕刻掉一定的厚度，另一面不進(jìn)行蝕刻，蒸鍍時(shí)有機(jī)材料不會(huì)通過輔助開口而淀積到襯底上，因此設(shè)置輔助開口到掩模開口的距離時(shí)不必考慮避開掩模區(qū)域，根據(jù)實(shí)際需要使其起到提高掩模區(qū)域邊緣的開口精度。進(jìn)一步地，所述 輔助開口間距和所述掩模開口間距是所述輔助開口寬度和所述掩模開口寬度的2倍。進(jìn)一步地，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離是所述掩模開口之間距離的I倍以上(包含I倍)，一定的距離能夠使輔助開口能夠形成更好的受力分布，使蒸鍍的效果更好，同時(shí)避開掩模區(qū)域。所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離要使輔助開口能夠完全避開蒸鍍掩模區(qū)域，同時(shí)也要起到輔助作用。進(jìn)一步地，所述輔助開口間距和所述掩模開口間距相同，保證兩者間距的一致也會(huì)使得受力分布更加均衡，保證好的蒸鍍效果。進(jìn)一步地，對(duì)于由銦瓦合金制成的掩模板輔助開口數(shù)為1-5 ；優(yōu)選地，掩模板輔助開口數(shù)為2-4 ；進(jìn)一步優(yōu)選地，所述輔助開口數(shù)量是3。其中所述掩模板開口數(shù)與繃網(wǎng)張力、蝕刻參數(shù)、掩模板質(zhì)地有關(guān)，對(duì)于不同參數(shù)及材質(zhì)可以通過實(shí)驗(yàn)確定最佳值。本實(shí)用新型還提供了相應(yīng)的制作方法，其特征包括:SI,將制作掩模板的基板的兩面壓貼感光干膜；S2,按照設(shè)計(jì)圖形通過曝光機(jī)對(duì)感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光；S3,將曝光后的基板通過顯影等工藝去除未曝光的干膜；S4,將顯影后的基板蝕刻即可形成所述具有輔助開口和掩模開口的掩模板。本實(shí)用新型附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從
以下結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:圖1所示為掩模板整體示意圖；圖2所示為具有輔助開口的掩模板整體示意圖；圖3所示為圖2中22部分放大示意圖；圖4所示為圖3中沿A-A方向的一種截面示意圖；圖5所示為圖3中沿A-A方向的另一種截面示意圖；[0033]圖6所示為貼感光膜截面示意圖；圖7所示為曝光模板截面示意圖；圖8所示為顯影后模板的截面示意圖；圖9所示為蝕刻后掩模板截面示意圖；圖10所示為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例示意圖；圖1中，11為掩模板主體，13為掩模圖案，14為固定孔，12為外框；圖2中，21為輔助開口圖案，22為待放大區(qū)域；圖3中，31為掩模開口，32為掩模開口間狹長金屬絲，A-A為待解剖方向，dl是開口的寬度，d2是開口之間的距離(即開口間距)，d3是輔助開口到掩模區(qū)域的距離，211為輔助開口 ；圖6中，61、62為感光膜；圖7中，61為未曝光的感光膜，71、72為曝光的感光膜；
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本實(shí)用新型，而不能解釋為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、
“內(nèi)”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連；“配合”可以是面與面的配合，也可以是點(diǎn)與面或線與面的配合，也包括孔軸的配合，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。本實(shí)用新型的發(fā)明構(gòu)思如下，由于掩模板在固定后掩模區(qū)域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開口間的狹長金屬絲會(huì)下垂，致使兩邊的開口精度不高，從而影響蒸鍍質(zhì)量，本實(shí)用新型提供的具有輔助開口的掩模板則加入一個(gè)分力結(jié)構(gòu)，使受力較小的區(qū)域外移至輔助開口上，從而保證了掩模圖案區(qū)域內(nèi)部和兩側(cè)達(dá)到預(yù)期的開口精度，保證蒸鍍質(zhì)量。下面將參照附圖來描述本實(shí)用新型的具有輔助開口的掩模板，其中圖1所示為掩模板整體示意圖；圖2所示為具有輔助開口的掩模板整體示意圖；圖3所示為圖2中22部分放大示意圖；圖4所示為圖3中沿A-A方向的一種截面示意圖；圖5所示為圖3中沿A-A方向的另一種截面示意圖。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，一種具有輔助開口的掩模板，如圖2所示，包括掩模板主體11，所述掩模板主體上有掩模圖案13，所述掩模圖案13由掩模開口 31組成；輔助開口圖案21，所述輔助開口圖案21由輔助開口 211構(gòu)成，所述輔助開口 211位于所述掩模板主體11上，并分布在所述掩模圖案13兩側(cè)，所述輔助開口 211長度方向與所述掩模開口 31長度方向平行。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述掩模圖案13的數(shù)量大于等于1，所述輔助開口圖案21與所述掩模圖案13數(shù)量比為2:1，如圖2所示。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案13排成一列時(shí)，在所述掩模圖案13之間有一組輔助開口 211，如圖10所示。當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案13排成一列時(shí)，基于掩模板及掩模圖案13整體設(shè)計(jì)的考慮，可以將兩個(gè)所述掩模圖案13之間兩組輔助開口圖案21合并為一組輔助開口圖案21。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述掩模開口 31和所述輔助開口 211的開口結(jié)構(gòu)相同且為通孔，如圖4所示。如此，可以使掩模開口 31和輔助開口 211受力狀況一致，保證之后的蒸鍍質(zhì)量。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述輔助開口 211和所述掩模開口 31的開口形狀相同但為封閉孔，如圖5所示。輔助開口 211部分只蝕刻掉一面一定的厚度，另一面不進(jìn)行蝕刻，蒸鍍時(shí)有機(jī)材料不會(huì)通過輔助開口 211而漏印，因此設(shè)置輔助開口 211到掩模開口 31的距離時(shí)不必考慮避開掩模區(qū)域，根據(jù)實(shí)際需要使其起到提高掩模區(qū)域邊緣的開口精度。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述輔助開口間距和所述掩模開口間距是所述輔助開口寬度和所述掩模開口寬度的大于等于I的整數(shù)倍。
根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離是所述掩模開口之間距離的3倍以上(包含3倍)，一定的距離能夠使輔助開口能夠形成更好的受力分布，使蒸鍍的效果更好，同時(shí)避開掩模淀積區(qū)域。所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離要使輔助開口能夠完全避開蒸鍍掩模區(qū)域，同時(shí)也要起到輔助作用。根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述輔助開口間距和所述掩模開口間距相同，保證兩者間距的一致也會(huì)使得受力分布更加均衡，保證好的蒸鍍效果。進(jìn)一步地，對(duì)于由銦瓦合金制成的掩模板輔助開口數(shù)為1-5 ；優(yōu)選地，掩模板輔助開口數(shù)為2-4 ；進(jìn)一步優(yōu)選地，所述輔助開口數(shù)量是3。一種具有輔助開口的掩模板的制作方法，作為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，圖5中所示的輔助開口的制作方法可由以下蝕刻工藝制成(不考慮其它圖形制作情況下):SI,貼膜:將制作掩模板的基板的兩面壓貼感光膜，如圖6所示，61、62為感光膜；S2,曝光:按照設(shè)計(jì)圖形通過曝光機(jī)對(duì)感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光，圖7中除61部分，其它部分(71、72)均為曝光區(qū)域；S3,顯影:將曝光后的基板經(jīng)顯影工藝將未曝光干膜區(qū)61部分的干膜去除，使待制開口區(qū)域的基板表面裸露，如圖8所示(圖中所示為一種輔助開口，即圖5中所示的輔助開口形式);S4,蝕刻:將顯影后的掩模板通過蝕刻液蝕刻即可在61區(qū)域形成圖9所示凹槽結(jié)構(gòu)，在蝕刻過程中，通過控制蝕刻液的溶液配比、蝕刻時(shí)對(duì)掩模板的壓力、蝕刻的時(shí)間等參數(shù)來控制掩模板的蝕刻厚度(即蝕刻的開口的深度);蝕刻后的掩模板通過褪膜將之前曝光區(qū)域的干膜去除，即可得到圖5所示掩模板輔助開口結(jié)構(gòu)的截面示意圖。根據(jù)本實(shí)用新型的一種實(shí)施例，在壓貼有感光膜的掩模板曝光工序中，可以針對(duì)不同類型的輔助開口結(jié)構(gòu)如圖4所示，進(jìn)行相應(yīng)的曝光圖案設(shè)置，得到對(duì)應(yīng)的輔助開口結(jié)構(gòu)。附圖中所示僅為結(jié)構(gòu)示意圖，圖中所展示的并不能完全真實(shí)的反映各種尺寸關(guān)系以及開口圖形的外貌，其中掩模板主體上的掩模開口及輔助開口處的棱邊存在一定倒角的，且其開口表面存在一定的弧度。 任何提及“ 一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說明書各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。 盡管參照本實(shí)用新型的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本實(shí)用新型原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本實(shí)用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物 限定。
權(quán)利要求1.一種具有輔助開口的掩模板，其特征在于，包括: 掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開口組成； 輔助開口圖案，所述輔助開口圖案由輔助開口構(gòu)成，所述輔助開口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側(cè)，所述輔助開口長度方向與所說掩模開口長度方向平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述掩模圖案的數(shù)量大于等于1，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案數(shù)量比為2:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案排成一列時(shí)，在所述掩模圖案之間有一組掩模開口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述輔助開口和所述掩模開口的開口結(jié)構(gòu)相同且為通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述輔助開口和所述掩模開口的開口形狀相同但為封閉孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離是所述掩模開口之間距離的I倍以上(包含I倍)，作為優(yōu)選為3倍。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述輔助開口間距和所述掩模開口間距相同。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述輔助開口數(shù)量是1-5。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的具有輔助開口的掩模板，其特征在于，所述輔助開口數(shù)量是2_4。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開口組成；輔助開口圖案，所述輔助開口圖案由輔助開口構(gòu)成，所述輔助開口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側(cè)，所述輔助開口長度方向與所說掩模開口長度方向平行。通過設(shè)置輔助開口，使繃網(wǎng)后的掩模板的掩模區(qū)域受力均衡，避免了因繃網(wǎng)后掩模區(qū)域邊緣處開口間狹長金屬絲因受力過小，產(chǎn)生下垂，而導(dǎo)致開口精度不高的缺陷，提高開口精度，從而提高蒸鍍質(zhì)量。
文檔編號(hào)C23C14/04GK203159696SQ201320094230
公開日2013年8月28日 申請(qǐng)日期2013年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月1日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 潘世珎, 劉學(xué)明 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司