專利名稱：薄膜厚度傳感器和蒸鍍設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及蒸鍍工藝技術領域，尤其涉及一種薄膜厚度傳感器和蒸鍍設備。
背景技術：
目前，蒸鍍工藝廣泛應用于各種產品的制造中，蒸鍍是在真空中將待成膜的物質進行蒸發或升華，使之在工件或基片表面析出形成薄膜的過程。例如，有機發光二極管(Organic Light-Emitting Diode, 0LED)顯示器件的制作過程中，需要蒸鍍多層有機材料薄膜。在蒸鍍的過程中，需要使用薄膜厚度傳感器實時檢測薄膜的厚度并計算出蒸發速率，從而對蒸發進行控制。具體地，薄膜厚度傳感器中設置有晶體振子，由于晶體具有諧振頻率隨其質量變化的特性，在蒸鍍過程中晶體振子諧振頻率的變化反映了晶體振子上薄膜厚度的變化，因此檢測晶體振子的諧振頻率即可得到薄膜厚度，同時可以根據薄膜厚度的變化計算出蒸發速率。然而，如圖1所示，現有的薄膜厚度傳感器I只能檢測某一個方向上的蒸發源2形成的薄膜厚度，在具有多個蒸發源2時，需要使用多個薄膜厚度傳感器1，從而增加了成本。

實用新型內容本實用新型的實施例提供一種薄膜厚度傳感器和蒸鍍設備，實現一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度，從而降低了成本。為解決上述技術問題，本實用新型采用如下技術方案:一方面，提供一種薄膜厚度傳感器，用于蒸鍍工藝中薄膜厚度的檢測，包括:至少兩個導向管，每個所述導向管的第一端位于同一位置，每個所述導向管的第二端分別朝向不同方向；所述導向管的第一端處設置有晶體振子和用于檢測所述晶體振子諧振頻率的檢測裝置；或者，每個所述導向管中設置有晶體振子，所述導向管的第一端處設置有用于檢測每個所述導向管中晶體振子諧振頻率的檢測裝置。具體地，還包括與所述檢測裝置電連接的用于根據所述晶體振子諧振頻率計算獲得薄膜厚度或蒸發速率的處理器。具體地，還包括與所述處理器電連接的顯示裝置。可選地，所述顯示裝置為顯示多組數字的數字顯示器，所述數字顯示器所顯示的數字組數與所述導向管的數量相等；每組所述數字用于分別顯示根據每個所述導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率。可選地，所述顯示裝置為帶有刻度的表盤顯示器。具體地，所述表盤顯示器中的表盤分為多個顯示區域，所述表盤顯示器中的顯示區域的數量與所述導向管的數量相等；[0016]每個所述顯示區域用于分別顯示根據每個所述導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率。另一方面，提供一種蒸鍍設備，包括:上述的薄膜厚度傳感器；多個蒸發源；在所述薄膜厚度傳感器中，每個導向管的第二端分別朝向每個所述蒸發源。本實用新型提供的薄膜厚度傳感器和蒸鍍設備，通過在薄膜厚度傳感器中設置多個朝向不同的導向管，使得只需要使用一個檢測裝置即可檢測不同方向上的多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率，即實現了一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度，從而降低了 成本。

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現有技術中蒸鍍設備的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例中一種蒸鍍設備的結構示意圖；圖3為本實用新型實施例中一種數字顯示器的示意圖；圖4為本實用新型實施例中一種表盤顯示器的示意圖；圖5為本實用新型實施例中另一種蒸鍍設備的結構示意圖；圖6為本實用新型實施例中一種蒸鍍設備的側視圖；圖7為圖6中蒸鍍設備的俯視圖。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。如圖2所示，本實用新型實施例提供了一種薄膜厚度傳感器1，用于蒸鍍工藝中薄膜厚度的檢測，包括:至少兩個導向管11，每個導向管11的第一端位于同一位置，每個導向管11的第二端分別朝向不同方向；每個導向管11中分別設置有晶體振子12 ;導向管11的第一端處設置有用于分別檢測每個導向管11中晶體振子12諧振頻率的檢測裝置13。具體地，上述薄膜厚度傳感器I位于真空室內的基板上方，蒸鍍過程中的薄膜形成于該基板表面，導向管11的數量與蒸發源2的數量相同，每個導向管11的第二端分別朝向每個蒸發源2的方向，在蒸鍍過程中，對蒸發源2的材料進行加熱使其蒸發，蒸發后的材料在基板上形成薄膜，同時在導向管11內的晶體振子12上也形成薄膜，通過檢測裝置13檢測晶體振子12的諧振頻率，并根據該諧振頻率計算可以得到此時薄膜的厚度，同時，根據薄膜厚度的變化可以計算出蒸發速率。由于多個導向管11分別朝向多個蒸發源的方向，因此不同導向管11中的晶體振子的諧振頻率反映了不同蒸發源形成薄膜的厚度和蒸發速率。需要說明的是，上述多個導向管11中的晶體振子12可以在同一時間振動來同時檢測多個蒸發源2蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率，也可以每個導向管11中的晶體振子12分別在不同的時間振動來分別檢測多個蒸發源2蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率。本實用新型實施例中的薄膜厚度傳感器，通過設置多個朝向不同的導向管和多個晶體振子，使得只需要使用一個檢測裝置即可檢測不同方向上的多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率，即實現了一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度，從而降低了成本。具體地，上述薄膜厚度傳感器還包括:與檢測裝置13電連接的用于根據上述晶體振子諧振頻率計算獲得薄膜厚度或蒸發速率的處理器(圖2中未示出)。具體地，上述薄膜厚度傳感器還可以包括:與上述處理器電連接的顯示裝置(圖2中未示出)，用于顯示上述處理器根據晶體振子12的諧振頻率得到的薄膜厚度或蒸發速率，顯示裝置可以位于真空室外部，以方便查看。可選地，如圖3所示，上述顯示裝置可以為顯示多組數字的數字顯示器，數字顯示器所顯示的數字組數與上述導向管11的數量相等，每組數字用于分別顯示根據每個導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜 厚度或蒸發速率。可選地，如圖4所示，上述顯示裝置可以為帶有刻度的表盤顯示器。具體地，上述表盤顯示器中的表盤分為多個顯示區域，上述表盤顯示器中的顯示區域的數量與上述導向管的數量相等，每個顯示區域用于分別顯示根據每個導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率，每個顯示區域都有對應的指針，來指示具體需要顯示的刻度。例如，表盤顯示器周邊設置有數字刻度I至12，用來指示薄膜厚度或蒸發速率；薄膜厚度傳感器具體具有兩個導向管。其中，數字I至6為第一顯示區域，用于顯示根據其中第一導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率；數字7至12為第二顯示區域，用于顯示根據其中第二導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率。數字刻度可以根據需要設置為I至6或I至18等，顯示區域的劃分根據導向管的數量確定，一個導向管對應一個顯示區域。需要說明的是，薄膜厚度傳感器中導向管的數量可以根據需要具體設置為三個、四個或五個等多數個，不一定為圖中所示的兩個。上述的顯示裝置也可以為其他類型的顯示器，只要能夠分別顯示根據每個導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率即可，本實用新型實施例中的薄膜厚度傳感器，通過設置多個朝向不同的導向管和多個晶體振子，只需要使用一個檢測裝置即可檢測不同方向上的多個蒸發源的蒸鍍過程，可以只需要使用一個顯示裝置顯示多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率，即實現了一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度或蒸發速率，從而降低了成本。如圖5所示，本實用新型實施例還提供一種薄膜厚度傳感器1，用于蒸鍍工藝中薄膜厚度的檢測，包括:至少兩個導向管11，每個導向管11的第一端位于同一位置，每個導向管11的第二端分別朝向不同方向；導向管11的第一端處設置有晶體振子12和用于檢測所述晶體振子12諧振頻率的檢測裝置13。具體地，上述薄膜厚度傳感器I位于真空室內的基板上方，蒸鍍過程中的薄膜形成于該基板表面，導向管11的數量與蒸發源2的數量相同，每個導向管11的第二端分別朝向每個蒸發源2的方向。與上述根據每一個導向管中的晶體振子諧振頻率檢測不同蒸發源不同，本實施例中多個朝向不同的導向管11共用一個晶體振子12，但仍可以檢測不同位置的多個蒸發源，只需要在不同階段分別檢測不同蒸發源的蒸鍍情況即可，結構更加簡單。例如，在蒸鍍過程中，首先多個蒸發源2中只有第一蒸發源2工作，朝向第一蒸發源2方向的導向管11配合晶體振子12可以檢測出第一蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率，之后，第一蒸發源2停止工作，第二蒸發源2開始工作，朝向第二蒸發源2方向的導向管11配合晶體振子12可以檢測第二蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率，以此類推，可以通過一個薄膜厚度傳感器分別檢測不同位置的多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度和蒸發速率。本實用新型實施例中的薄膜厚度傳感器，通過設置一個晶體振子和多個朝向不同的導向管，只需要使用一個檢測裝置即可檢測不同方向上的多個蒸發源的蒸鍍過程，即實現了一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度或蒸發速率，從而降低了成本。如圖6所示，本實用新型實施例還提供一種蒸鍍設備，包括:支架3，支架3用于固定基板4，基板4的下表面用于形成薄膜；上述的薄膜厚度傳感器1，薄膜厚度傳感器I位于基板4附近；如圖7所示，多個蒸發源2 ;在薄膜厚度傳感器I中，每個導向管11的第二端分別朝向每個蒸發源2。具體地，本實施例中薄膜厚度傳感器的具體結構和工作原理與上述實施例相同，在此不再贅述。本實用新型實施例中的蒸鍍設備，通過在薄膜厚度傳感器中設置多個朝向不同的導向管，只需要使用一個檢測裝置即可檢測不同方向上的多個蒸發源的蒸鍍過程，即實現了一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度或蒸發速率，從而降低了成本。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領·域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。因此，本實用新型的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
權利要求1.一種薄膜厚度傳感器，用于蒸鍍工藝中薄膜厚度的檢測，其特征在于，包括: 至少兩個導向管，每個所述導向管的第一端位于同一位置，每個所述導向管的第二端分別朝向不同方向； 所述導向管的第一端處設置有晶體振子和用于檢測所述晶體振子諧振頻率的檢測裝置； 或者，每個所述導向管中設置有晶體振子，所述導向管的第一端處設置有用于檢測每個所述導向管中晶體振子諧振頻率的檢測裝置。
2.根據權利要求1所述的薄膜厚度傳感器，其特征在于，還包括與所述檢測裝置電連接的用于根據所述晶體振子諧振頻率計算獲得薄膜厚度或蒸發速率的處理器。
3.根據權利要 求2所述的薄膜厚度傳感器，其特征在于，還包括與所述處理器電連接的顯示裝置。
4.根據權利要求3所述的薄膜厚度傳感器，其特征在于， 所述顯示裝置為顯示多組數字的數字顯示器，所述數字顯示器所顯示的數字組數與所述導向管的數量相等； 每組所述數字用于分別顯示根據每個所述導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率。
5.根據權利要求3所述的薄膜厚度傳感器，其特征在于， 所述顯示裝置為帶有刻度的表盤顯示器。
6.根據權利要求5所述的薄膜厚度傳感器，其特征在于， 所述表盤顯示器中的表盤分為多個顯示區域，所述表盤顯示器中的顯示區域的數量與所述導向管的數量相等； 每個所述顯示區域用于分別顯示根據每個所述導向管中晶體振子諧振頻率獲得的薄膜厚度或蒸發速率。
7.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括: 如權利要求1至6中任意一項所述的薄膜厚度傳感器； 多個蒸發源； 在所述薄膜厚度傳感器中，每個導向管的第二端分別朝向每個所述蒸發源。
專利摘要本實用新型公開了一種薄膜厚度傳感器和蒸鍍設備，涉及蒸鍍工藝技術領域，實現一個薄膜厚度傳感器檢測多個蒸發源蒸鍍形成的薄膜厚度，從而降低了成本。該薄膜厚度傳感器，用于蒸鍍工藝中薄膜厚度的檢測，包括至少兩個導向管，每個所述導向管的第一端位于同一位置，每個所述導向管的第二端分別朝向不同方向；所述導向管的第一端處設置有晶體振子和用于檢測所述晶體振子諧振頻率的檢測裝置；或者，每個所述導向管中設置有晶體振子，所述導向管的第一端處設置有用于檢測每個所述導向管中晶體振子諧振頻率的檢測裝置。蒸鍍設備，包括上述的薄膜厚度傳感器；多個蒸發源；在所述薄膜厚度傳感器中，每個導向管的第二端分別朝向每個所述蒸發源。
文檔編號C23C14/24GK203112920SQ201320140108
公開日2013年8月7日 申請日期2013年3月26日 優先權日2013年3月26日
發明者元裕太, 李周炫, 梁逸南, 洪瑞 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司