一種真空鍍膜設備用真空緩沖室的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空鍍膜設備用真空緩沖室，包括真空緩沖室本體（1）、門（3），以及安裝在門（3）上分子泵（4），真空緩沖室還包括位于真空緩沖室本體（1）內部的氣體分割閥（2），氣體分割閥（2）由若干塊鏡面板組成，并通過螺栓安裝在真空緩沖室本體（1）的內部，氣體分割閥（2）的連接部位為腰形孔，通過螺栓與腰形孔的安裝位置調節氣體分割閥的寬度。具有上述結構的該種真空鍍膜設備用真空緩沖室，由于相鄰的真空緩沖室安裝有氣體分隔閥，氣體分隔閥利用其本身的長度和寬度來限制相鄰真空室氣氛的直接大面積流通，基本上避免相互之間的氣氛影響，從而大大減小了各自真空室的實際氣氛與理論氣氛的差距。
【專利說明】一種真空鍍膜設備用真空緩沖室
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空鍍膜設備，尤其是涉及一種真空鍍膜設備用真空緩沖室。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜工藝對各自真空緩沖室的氣氛有不同的要求，以此來控制鍍膜產品的需求。當前真空鍍膜設備對于真空緩沖室之間的連接是通過直接連接的方式，各個真空室之間的氣氛難免互相流通，因此，造成各個真空緩沖室的理論氣氛與實際氣氛相差比較大，這種現象直接影響了基片鍍膜的質量，增加了生產成本。
實用新型內容
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是針對現有技術中存在的問題提供一種真空鍍膜設備用真空緩沖室，其目的是通過在真空緩沖室內設置的氣體分割閥，保證了各自真空緩沖室所需的氣氛，從而保證了基片的鍍膜質量。
[0004]本實用新型的技術方案是該種真空鍍膜設備用真空緩沖室包括真空緩沖室本體、門，以及安裝在門上分子泵，所述的真空緩沖室還包括位于真空緩沖室本體內部的氣體分割閥，所述的氣體分割閥由若干塊鏡面板組成，并通過螺栓安裝在真空緩沖室本體的內部。
[0005]所述的氣體分割閥的寬度根據實際需要調節。
[0006]所述的氣體分割閥的連接部位為腰形孔，通過螺栓與腰形孔的安裝位置調節氣體分割閥的寬度。
[0007]具有上述結構的該種真空鍍膜設備用真空緩沖室，由于相鄰的真空緩沖室安裝有氣體分隔閥，氣體分隔閥利用其本身的長度和寬度來限制相鄰真空室氣氛的直接大面積流通，同時，分子泵一直處于工作狀態，對各自的真空室進行抽真空，通過兩者的配合，可以使相鄰的真空緩沖室內的氣氛不能直接大面積相接觸，因此，基本上避免相互之間的氣氛影響，從而大大減小了各自真空室的實際氣氛與理論氣氛的差距。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]下面結合附圖對本實用新型作進一步說明:
[0009]圖1為本實用新型打開狀態的結構示意圖。
[0010]圖2為圖1所示結構A-A方向的剖視圖。
[0011]圖3為本實用新型的立體結構示意圖。
[0012]圖4為多個真空緩沖室連接的立體結構示意圖。
[0013]在圖1-4中，1:真空緩沖室本體；2:氣體分割閥；3:門；4:分子泵。
【具體實施方式】
[0014]由圖1-4所示結構可知，該種真空鍍膜設備用真空緩沖室包括真空緩沖室本體1、門3，以及安裝在門3上分子泵4，真空緩沖室還包括位于真空緩沖室本體I內部的氣體分割閥2，氣體分割閥2由若干塊鏡面板組成，并通過螺栓安裝在真空緩沖室本體I的內部。
[0015]氣體分割閥2的寬度為可調式的，可以根據實際需要進行寬度的調節，具體是，氣體分割閥2的連接部位為腰形孔，通過螺栓與腰形孔的安裝位置調節氣體分割閥的寬度。當真空室處于正常工作狀態時候，由于相鄰的真空緩沖室安裝有氣體分隔閥2，氣體分隔閥2利用其本身的長度和寬度來限制相鄰真空室氣氛的直接大面積流通，同時分子泵4 一直處于工作狀態，對各自的真空室進行抽真空，通過兩者的配合，可以使相鄰的真空緩沖室內的氣氛不能直接大面積相接觸，因此基本上避免相互之間的氣氛影響，從而大大減小了各自真空室的實際氣氛與理論氣氛的差距。
[0016]本實用新型技術主要是利用氣體分隔閥的本身長度和寬度來限制相鄰的真空室內氣氛直接相互流通。當相鄰的真空室內的氣氛流通得到一定的限制，且各自的真空室均安裝有分子泵，分子泵處于高速抽真空狀態，所以彼此相鄰真空室的氣氛影響基本上可以消除，保證了各自真空室所需的氣氛，從而保證了基片的鍍膜質量。
【權利要求】
1.一種真空鍍膜設備用真空緩沖室，所述的真空緩沖室包括真空緩沖室本體(I)、門(3)，以及安裝在門(3)上分子泵(4)，其特征在于:所述的真空緩沖室還包括位于真空緩沖室本體(I)內部的氣體分割閥(2)，所述的氣體分割閥(2)由若干塊鏡面板組成，并通過螺栓安裝在真空緩沖室本體(I)的內部。
2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜設備用真空緩沖室，其特征在于:所述的氣體分割閥(2)的連接部位為腰形孔，通過螺栓與腰形孔的安裝位置調節氣體分割閥的寬度。
【文檔編號】C23C14/56GK203513791SQ201320199063
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年4月19日 優先權日:2013年4月19日
【發明者】薛輝, 昌江 申請人:蕪湖真空科技有限公司