一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕涂層的方法
【專利摘要】一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕涂層的方法，涉及合金材料的表面處理。在鎂合金表面制備單層金屬鉿涂層的方法：試樣經基體前處理后，放入直流磁控濺射設備的內腔沉積室內，通入氬氣，預濺射金屬鉿靶材后使鎂合金基底正對鉿靶材，濺射沉積后得到表面鍍有單層金屬鉿涂層的鎂合金。在鎂合金表面制備多層金屬鉿涂層的方法：試樣經基體前處理后放入沉積室，通入氬氣，分別預濺射兩塊相同的金屬鉿靶材，記為鉿靶材A和B，預濺射后，使鎂合金基底正對鉿靶材A，濺射沉積得到第一層膜層；關閉直流電源，然后將樣品轉至鉿靶材B前，濺射沉積得第二層膜層；重復以上過程，調節鉿靶材A和B的濺射時間，即得到表面鍍有多層金屬鉿涂層的鎂合金。
【專利說明】一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕涂層的方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及合金材料的表面處理，尤其是涉及一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕涂層的方法。
【背景技術】
[0002]鎂合金作為最輕的工程金屬材料，擁有許多優異特點，例如比強度、比剛度高，導熱、導電性能好，并具有很好的電磁屏蔽、阻尼性、減振性和切削加工性。近年來，鎂合金被廣泛應用于汽車、摩托車、自行車等交通工具、儀器儀表、電子電器、化工冶金、航空航天、國防軍工、生物醫用材料等領域。但鎂的電極電位較負，極易于發生腐蝕，合金中的第二相或雜質相也會加速鎂合金的腐蝕，嚴重阻礙了鎂合金產品的工業化應用和推廣。所以鎂合金工件在使用前必須經過一定的防腐蝕表面處理來提供保護，才能使鎂合金在工業中發揮其優良的性能。
[0003]防止腐蝕發生最有效的方法是對基底材料進行涂覆。涂覆層阻止了基底和環境之間的接觸，防止了腐蝕的發生。為了達到充分的保護性能，涂覆層必須均勻、致密、與基底結合性好。鎂合金的表面防腐蝕處理方法包括化學鍍、電鍍、化學轉化膜、微弧陽極氧化、激光表面熔覆、表面滲層處理、氣相沉積、有機涂層等(Gray J E, Luan B.Journal of alloysand compounds, 2002, 336(1):88-113.)。物理氣相沉積(PVD)是通過氣相材料或使材料汽化后沉積于固體材料表面并形成薄膜，從而使材料獲得特殊表面性能的一種新技術。此種表面改性方法，技術上方便可控，環保無污染，特別適合于工業生產的綠色改性工程。
[0004]迄今為止，已有多種PVD涂層，包括金屬、氧化物、碳化物和氮化物等被用于提高鎂合金的耐蝕性。其中金屬膜層，有鋁、鈦、鋯、鉻和鎂等，由于此類金屬膜層存在晶界、空隙等缺陷結構，溶液離子可以沿晶界、空隙擴散至鎂合金基體；膜層和鎂合金存在電位差，一旦存在于腐蝕介質中，鎂合金基底和涂層構成腐蝕原電池，導致基體或膜層發生嚴重局部腐蝕，失去對鎂合金基體的保護(Wu G.Materials Letters, 2007，61 (18): 3815-3817)。對于PVD結晶態陶瓷膜層，如TiN、TiC、CrN,NbN等，這些金屬氮化物膜層具有典型的柱狀晶結構，柱狀晶之間存在晶界等缺陷結構，同樣可以作為溶液離子快速擴散的通道。隨著測試時間的增長，腐蝕介質到達基體，涂層和基體構成腐蝕原電池，從而失去對鎂合金基體的保護(Franco C V, Fontana L C，Bechi D, et al.Corrosion Science, 1998，40(I):103-112.)。相對而言，PVD非結晶態陶瓷膜層，如S1-N、A1203等，由于沒有晶界等缺陷結構的存在，溶液離子擴散較為困難，從而使得膜層耐蝕性得到提高。但是，陶瓷膜層的導電性能差，與鎂合金基體的結合強度弱，一般需要先沉積過渡層，從而導致工藝較為復雜(Awan S A, GouldR D.Thin Solid Films, 2003，423 (2):267-272.)。在儀器儀表、電子電器、航空航天、國防軍工、生物醫用材料等應用領域，鎂合金基體在使用過程中一旦產生靜電，防腐蝕涂層不能及時將靜電導出將造成嚴重后果(Landis Floyd H.1ndustry Applications Magazine, IEEE, 2012，18(3):57-60.)。鎂合金做為廣泛使用的金屬材料，開發既導電又耐蝕的鎂合金涂層對鎂合金的實際應用具有重要意義。
【發明內容】

[0005]本發明的目的在于提供利用直流磁控濺射沉積的一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕涂層的方法。
[0006]一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的單層金屬鉿涂層的方法的具體步驟如下:
[0007]將鎂合金試樣經基體前處理后，放入直流磁控濺射設備的內腔沉積室內，將內腔沉積室抽真空，再通入氬氣，預濺射金屬鉿靶材，預濺射后，轉動樣品臺，使鎂合金基底正對鉿靶材，打開擋板，濺射沉積后，得到表面鍍有單層金屬鉿涂層的鎂合金。
[0008]所述基體前處理，包括機械研磨拋光處理、超聲波清洗處理、離子源轟擊清洗處理；所述抽真空可抽至3.0X10_4Pa，以除去腔室內殘留的空氣及水；所述通入氬氣的條件可為:調節總流量為65Sccm，維持腔體壓力為1.5Pa ;所述預濺射金屬鉿靶材的條件可為:時間6min，設置鉿靶材的直流電源功率為125W，鎂合金基底與鉿靶材的距離為75mm，調節濺射腔體內壓力為0.4~0.5Pa，設定基體溫度為275°C，腔室溫度為125°C，將鉿靶材的直流電源功率調節至325W ;所述派射沉積的時間可分別為45min、65min、90min。
[0009]一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的多層金屬鉿涂層的方法的具體步驟如下:
[0010]鎂合金試樣經基體前處理后，放入沉積室，腔室抽真空后通入氬氣，分別預濺射兩塊相同的金屬鉿靶材，記為鉿靶材A和鉿靶材B，預濺射完成之后，轉動樣品臺，使鎂合金基底正對鉿靶材A，調節濺射腔體內壓力為0.4~0.5Pa，打開擋板，濺射沉積，得到第一層膜層；關閉直流電源，然后將樣品轉至鉿靶材B前，樣品臺與鉿靶材B正對，濺射沉積，得到第`二層膜層；關閉直流電源，停置3min ;重復以上過程，調節鉿靶材A和鉿靶材B的濺射時間，并控制總濺射時間為90min，即得到表面鍍有多層金屬鉿涂層的鎂合金。
[0011]所述抽真空可抽至3.0X 10_4Pa，以除去腔室內殘留的氧氣、水等雜質；所述通入氬氣，可調節總流量為65Sccm，維持腔體壓力為1.5Pa ;所述預濺射的時間可為6min，預濺射的直流電源功率可為125W ;所述基體與鉿靶材A之間的距離為75mm，所述濺射沉積的時間可為4.5~18min ;所述基體與鉿靶材B之間的距離為75mm。
[0012]現有具有柱狀結構的PVD鉿涂層，存在較多的貫穿性缺陷，采用多層金屬鉿涂層，可減少缺陷的出現，提高膜層對基體的防護作用。
[0013]本發明根據鎂合金表面涂層導電性和耐蝕性的要求，使用金屬鉿作為涂層材料，通過調控工藝參數，制備出導電且具有良好抗腐蝕性能的鉿涂層材料。
[0014]本發明使用金屬鉿作為鎂合金表面具有導電且良好耐腐蝕的防護涂層。在一定沉積壓力、溫度、氣體流量等條件下，通過改變濺射時間和濺射過程工藝，制備出具有導電且良好抗腐蝕性能的單層與多層金屬鉿涂層材料。AutOSigma3000電導率檢測儀測試結果表明，鉿金屬膜層的電阻率為3.10X10_5~3.22Χ10_5Ω.πι，具有良好的導電性。分別對鎂合金基體和表面覆蓋鉿金屬膜層的鎂合金進行了動電位極化曲線電化學測試和鹽霧試驗測試，結果顯示鎂合金的腐蝕電流密度為1.6Χ 10_4A/cm2，而表面涂覆金屬鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為2.5X 10_6~3.8X 10_6A/cm2，減少兩個數量級；經過48h鹽霧試驗后，表面涂覆金屬鉿涂層的鎂合金的腐蝕面積百分率只有0.7%，膜層表面僅出現兩個腐蝕點，表明表面覆蓋金屬鉿涂層的鎂合金具有良好的抗腐蝕性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1為在鎂合金表面沉積單層金屬鉿涂層的結構示意圖。
[0016]圖2為在鎂合金表面沉積多層金屬鉿涂層的結構不意圖。
[0017]圖3為實施例1~6的鉿涂層的XRD譜圖。在圖3中，曲線I為實施例1，曲線2為實施例2，曲線3為實施例3，曲線4為實施例4，曲線5為實施例5，曲線6為實施例6。
[0018]圖4為實施例1~6的鉿涂層的斷面SEM圖。
[0019]圖5為實施例1~6的鉿涂層的電阻率。
[0020]圖6為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的動電位極化曲線。在圖6中，曲線I為實施例1，曲線2為實施例2，曲線3為實施例3，曲線4為實施例4，曲線5為實施例5，曲線6為實施例6，曲線7為鎂合金基體。
[0021]圖7為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的48h鹽霧試驗結果。
【具體實施方式】
[0022]實施例1
[0023]1、基體前處理
[0024](I)機械打磨拋光處理，先將鎂合金在320目金剛石砂紙磨盤上以600r/min的轉速打磨至表面平整，置于丙酮中超聲波清洗15min ;接著在1000目金剛石磨盤上以600r/min的轉速打磨至表面平整，置于丙酮中超聲波清洗IOmin ;然后在2000目金剛石磨盤上以300r/min的轉速沿垂直上一步留下的劃痕打磨至表面平整，置于丙酮中超聲波清洗IOmin ;然后在3000目金剛石磨盤上以300r/min的轉速沿垂直上一步留下的劃痕打磨至表面劃痕方向一致，置于丙酮中超聲波清洗IOmin ;再用粒徑為2.5μπι的金剛石拋光劑在絨布上以無水乙醇為溶劑進行拋光處理，拋光至表面成光亮近鏡面，置于丙酮中清洗IOmin ；然后用粒徑為Iym的金剛石 拋光劑在絨布上以無水乙醇為溶劑進行拋光處理，拋光至表面成光亮近鏡面狀態。
[0025](2)超聲波清洗處理，置于丙酮中超聲波清洗20min，然后置于無水乙醇中超聲波清洗lOmin，之后移至樣品臺，放入腔體內，抽真空進行保護。
[0026](3)離子源轟擊清洗處理，采用Hall離子源對基體進行清洗，基體溫度為230°C，調節氬氣流量為15sccm，腔體內壓力為2.2X10_2Pa，調節偏壓為-110V，陰極電流為28A，陽極電流為8A,清洗4min。
[0027]2、靶材預濺射
[0028]將腔體環境溫度加熱至120~130°C，通入氬氣，流量設定為65sCCm，調節腔體內工作壓力為1.5Pa，將直流電源接至金屬鉿靶材，將功率調節至125W，預濺射6min ;此步驟的目的是去除靶材表面氧化物等雜質污染，活化靶材表面原子。
[0029]3、直流濺射沉積單層金屬鉿膜
[0030]在確認腔體環境溫度為125°C，鎂合金基體溫度為275°C后進行如下操作:調節氬氣流量至65sccm,調節腔體壓力至0.4~0.5Pa ;轉動樣品臺，使樣品正對金屬鉿祀材,兩者的距離為75mm ;將靶材直流電源功率升至325W，打開靶材擋板，開始計時，濺射沉積45min，之后關閉靶材擋板、直流電源。
[0031]4、鉿涂層材料的厚度表征采用Dektak3Series膜厚測量儀，膜厚為4.97 μ m。圖1和2為在鎂合金表面沉積單層/多層金屬鉿涂層的結構示意圖。圖3為實施例1~6的鉿涂層的XRD譜圖。表明制備的涂層是具有密排六方結構的鉿涂層；圖4為實施例1~6的涂層的斷面SEM圖，實施例1制備的薄膜呈現柱狀生長，并且排列緊密。圖5為實施例1~6的鉿涂層的電阻率，實施例1的鉿涂層電阻率為3.10Χ10_5Ω.m。
[0032]5、涂層耐蝕性測試
[0033]圖6為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的動電位極化曲線，實施例1的動電位極化曲線結果表明表面涂覆金屬鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為3.0X 10_5A/Cm2，相對于鎂合金基體的腐蝕電流密度1.6X 10_4A/cm2降低了 I個數量級；圖7為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的48h鹽霧試驗結果，實驗標準參照GBT6461-2002 ;實施例1的48h鹽霧試驗結果，相對于鎂合金表面的全面腐蝕，涂覆鉿涂層的鎂合金的腐蝕較輕，腐蝕面積比率為 6.3%ο
[0034]實施例2
[0035]1、基體前處理
[0036]( I)機械打磨拋光處理，同實施例1 ;
[0037](2)超聲波清洗處理，同實施例1 ;
[0038](3)離子源轟 擊清洗處理，同實施例1。
[0039]2、靶材預濺射
[0040]同實施例1。
[0041]3、直流濺射沉積單層金屬鉿膜
[0042]除沉積時間調整為65min，其他同實施例1。
[0043]4、鉿涂層材料的厚度表征采用Dektak3SerieS膜厚測量儀，膜厚為6.95 μ m。通過XRD分析可知實施例2制備的鉿涂層為具有密排六方結構的鉿涂層。實施例2制備的鉿涂層經過掃描電子顯微鏡觀察，圖4中其涂層斷面SEM圖片類似實施例1，呈現柱狀生長，排列致密。圖5為實施例1~6的鉿涂層的電阻率，實施例2的鉿涂層電阻率為3.22X 10_5Ω.πι。
[0044]5、涂層耐蝕性測試
[0045]實施例2的動電位極化曲線測試結果呈現在圖6中，結果顯示表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為1.8X 10_5A/Cm2，相對于未鍍膜鎂合金基體，表面覆蓋純鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度降低了 I個數量級；圖7中實施例2的48h鹽霧結果顯示，相對鎂合金基體的全面腐蝕，實施例2涂覆鉿膜層的鎂合金的耐蝕性有所改善，腐蝕面積比率為
2.4%。
[0046]實施例3
[0047]1、基體前處理
[0048]( I)機械打磨拋光處理，同實施例1 ;
[0049](2)超聲波清洗處理，同實施例1 ;
[0050](3)離子源轟擊清洗處理，同實施例1。
[0051]2、靶材預濺射
[0052]同實施例1。[0053]3、直流濺射沉積單層金屬鉿膜
[0054]除沉積時間調整為90min，其他同實施例1。
[0055]4、鉿涂層材料的厚度表征采用Dektak3Series膜厚測量儀，膜厚為10.0 μ m。圖3中實施例3鉿涂層的XRD譜圖表明，實施例3制備的涂層是具有密排六方結構的鉿涂層；圖4中實施例3的涂層斷面SEM圖片顯示，實施例3鉿膜層呈現柱狀生長，組織致密。圖5為實施例1~6的鉿涂層的電阻率，實施例3的鉿涂層電阻率為3.20X 10_5 Ω.m。
[0056]5、涂層耐蝕性測試
[0057]圖6中實施例3的電化學測試結果為表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為
2.5X10_6A/cm2，相比較未鍍膜鎂合金，表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度降低了 2個數量級；圖7為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的48h鹽霧試驗結果，相對鎂合金基體的腐蝕，實施例3涂覆鉿涂層的耐蝕性好，鹽霧試驗48h后出現了兩個腐蝕點，腐蝕面積為
0.7%,顯著改善了鎂合金的抗腐蝕性。
[0058]實施例4
[0059]1、基體前處理
[0060]( I)機械打磨拋光處理，同實施例1 ;
[0061](2)超聲波清洗處理，同實施例1 ;
[0062](3)離子源轟擊清洗處理，同實施例1。
`[0063]2、靶材預濺射
[0064]同實施例1。
[0065]3、直流濺射沉積多層金屬鉿膜
[0066]在確認腔體環境溫度為125°C，鎂合金基體溫度為275°C后進行如下操作:調節氬氣流量至65sccm,調節腔體壓力至0.4~0.5Pa ;轉動樣品臺，使樣品正對鉿金屬祀材A,兩者的距離為75mm ;將鉿靶材A的直流電源功率調節至325W，打開擋板，濺射沉積18min，關閉直流電源，停置3min，如此得到第一層膜層；然后將樣品臺轉至鉿靶材B前，樣品臺與靶材正對，基體與靶材之間距離為75mm，將鉿靶材B的直流電源功率調節至325W，濺射沉積18min，關閉直流電源，停置3min，如此得到第二層膜層；控制濺射總時間為90min，重復以上過程，可以制備5層的金屬鉿涂層。
[0067]4、純鉿涂層材料的厚度表征采用Dektak3SerieS膜厚測量儀，膜厚為9.8 μ m。圖3為實施例1~6的鉿涂層的XRD譜圖，表明實施例4制備的涂層是具有密排六方結構的鉿涂層；通過掃描電子顯微鏡觀察，圖4中實施例4鉿涂層的斷面SEM圖片類似實施例1，呈現柱狀生長，排列致密；圖5為實施例1~6的鉿涂層的電阻率，實施例4的鉿涂層電阻率為 3.18Χ10-5Ω.m。
[0068]5、涂層耐蝕性測試
[0069]圖6為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的動電位極化曲線，實施例4的電化學測試結果表明表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為3.5X10_6A/cm2，對比未鍍膜鎂合金，降低了 2個數量級；圖7為實施例1~6和AZ91D鎂合金基體的48h鹽霧試驗結果，相對鎂合金基體的腐蝕，實施例4涂覆鉿膜層的耐蝕性得到良好的改善，48h鹽霧試驗后僅出現了四個腐蝕點。
[0070]實施例5[0071]1、基體前處理
[0072]( I)機械打磨拋光處理，同實施例1 ;
[0073](2)超聲波清洗處理，同實施例1 ;
[0074](3)離子源轟擊清洗處理，同實施例1。
[0075]2、靶材預濺射
[0076]同實施例1。
[0077]3、直流濺射沉積多層金屬鉿膜
[0078]每次濺射時間改為9min，其他的同實施例4。
[0079]4、鉿涂層材料的厚度表征采用Dektak3SerieS膜厚測量儀，膜厚為10.4 μ m。圖3為實施例1~6的鉿涂層的XRD譜圖。表明實施例5制備的涂層是具有密排六方結構的鉿涂層；實施例5的涂層斷面形貌在圖4的SEM圖片顯示，呈現柱狀生長，排列致密。圖5為實施例1~6的鉿涂層的電阻率，實施例5的鉿涂層電阻率為3.15X 10_5 Ω.m。
[0080]5、涂層耐蝕性測試
[0081]圖6中實施例5的電化學測試結果表明表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為3.8X 10_6A/cm2,相對于未鍍膜鎂合金,表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度降低了2個數量級；圖7中實施例5的48h鹽霧試驗結果表明，相對鎂合金基體的腐蝕，48h鹽霧試驗后樣品表面僅出現了三個腐蝕點，實施例5`涂覆鉿膜層具有良好的耐蝕性。
[0082]實施例6
[0083]1、基體前處理
[0084]( I)機械打磨拋光處理，同實施例1 ;
[0085](2)超聲波清洗處理，同實施例1 ;
[0086](3)離子源轟擊清洗處理，同實施例1。
[0087]2、靶材預濺射
[0088]同實施例1。
[0089]3、直流濺射沉積多層金屬鉿膜
[0090]每次濺射時間變為4.5min,其他的同實施例4。
[0091]4、鉿涂層材料的厚度表征采用Dektak3SerieS膜厚測量儀，膜厚為10.5 μ m。圖3為實施例1~6的鉿涂層的XRD譜圖。表明實施例6制備的涂層是具有密排六方結構的鉿涂層；圖4中實施例6的涂層斷面SEM圖片顯示，膜層呈現柱狀生長，排列致密；圖5為實施例I~6的鉿涂層的電阻率，實施例6的鉿涂層電阻率為3.20X 10_5 Ω.m。
[0092]5、涂層耐蝕性測試
[0093]圖6中實施例6的動電位極化曲線結果表明實施例6表面覆蓋鉿涂層的鎂合金的腐蝕電流密度為3.8X10_6A/Cm2，相對于未鍍膜鎂合金，腐蝕電流降密度低了 2個數量級，擁有優良的抗腐蝕性能；對比圖7中實施例6和AZ91D鎂合金基體的48h鹽霧試驗結果，實施例6的鹽霧試驗結果顯示鹽霧試驗后樣品表面出現了二個腐蝕點，涂覆鉿膜層的鎂合金耐蝕性得到極大的改善。
【權利要求】
1.一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的單層金屬鉿涂層的方法，其特征在于其具體步驟如下: 將鎂合金試樣經基體前處理后，放入直流磁控濺射設備的內腔沉積室內，將內腔沉積室抽真空，再通入氬氣，預濺射金屬鉿靶材，預濺射后，轉動樣品臺，使鎂合金基底正對鉿靶材，打開擋板，濺射沉積后，得到表面鍍有單層金屬鉿涂層的鎂合金。
2.如權利要求1所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的單層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述基體前處理，包括機械研磨拋光處理、超聲波清洗處理、離子源轟擊清洗處理。
3.如權利要求1所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的單層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述抽真空是抽至3.0X 10_4Pa。
4.如權利要求1所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的單層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述通入氬氣的條件為:調節總流量為65Sccm，維持腔體壓力為1.5Pa。
5.如權利要求1所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的單層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述預濺射金屬鉿靶材的條件為:時間6min，設置鉿靶材的直流電源功率為125W，鎂合金基底與鉿靶材的距離為75mm，調節濺射腔體內壓力為0.4~0.5Pa，設定基體溫度為275°C，腔室溫度為125°C，將鉿靶材的直流電源功率調節至325W ;所述濺射沉積的時間可分別為45min、65min、90min。
6.一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的多層金屬鉿涂層的方法，其特征在于其具體步驟如下: 鎂合金試樣經基體前處理后，放入沉積室，腔室抽真空后通入氬氣，分別預濺射兩塊相同的金屬鉿靶材，記為鉿靶材A和鉿靶材B，預濺射完成之后，轉動樣品臺，使鎂合金基底正對鉿靶材A，調節濺射腔體內壓力為0.4~0`.5Pa，打開擋板，濺射沉積，得到第一層膜層；關閉直流電源，然后將樣品轉至鉿靶材B前，樣品臺與鉿靶材B正對，濺射沉積，得到第二層膜層；關閉直流電源，停置3min ;重復以上過程，調節鉿靶材A和鉿靶材B的濺射時間，并控制總濺射時間為90min，即得到表面鍍有多層金屬鉿涂層的鎂合金。
7.如權利要求6所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的多層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述抽真空是抽至3.0X 10_4Pa。
8.如權利要求6所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的多層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述通入氬氣，是調節總流量為65Sccm，維持腔體壓力為1.5Pa。
9.如權利要求6所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的多層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述預濺射的時間為6min，預濺射的直流電源功率為125W。
10.如權利要求6所述一種在鎂合金表面制備導電且耐腐蝕的多層金屬鉿涂層的方法，其特征在于所述基體與鉿靶材A之間的距離為75mm，所述濺射沉積的時間可為4.5~18min ;所述基體與鉿靶材B之間的距離為75mm。
【文檔編號】C23C14/16GK103774092SQ201410059666
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2014年2月21日 優先權日:2014年2月21日
【發明者】王周成, 蔣文法, 吳正濤, 祁正兵, 張東方 申請人:廈門大學