一種鍍膜機真空冷卻裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型的目的是提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括真空泵、油擴散泵和冷水槽，真空泵與油擴散泵連接在一起，真空泵與鍍膜室連接在一起，油擴散泵與鍍膜室連接在一起；幾根氣管上分別設置有前級閥門、預抽氣閥門、放氣閥門、高真空閥門和冷井；在冷井連接有第一水管和第二水管，其中第一水管連接循環水箱，第二水管連接著冷水槽，循環水箱和冷水槽通過第三水管也連接在一起構成一個循環冷卻系統；本裝置可以有效地保持鍍膜室的真空度，使冷井溫度可以有效地降低，使鍍膜室的油蒸汽回返率下降，排除了環境溫度對鍍膜的影響，提高了鍍膜室的真空潔凈度，鍍膜質量提高，適用于生產中。
【專利說明】一種鍍膜機真空冷卻裝置

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及真空鍍膜機領域，尤其涉及一種鍍膜機真空冷卻裝置。

【背景技術】
[0002] 真空鍍膜機顧名思義必須要在真空的環境下進行鍍膜，而除了抽真空，在抽真空 中還需進行冷卻，傳統的采用冷井冷卻，但是傳統的冷卻方式易受到外界環境溫度的影響， 況且生產中許多冷卻裝置采用同一循環冷卻水池進行冷卻，其必然對真空的冷卻達不到效 果，這樣就會引起油蒸汽反流油分子滯阻捕捉性能下降，會導致油分子反滲到鍍膜室的幾 率增加，對鍍膜元件造成污染，因此解決這一問題就顯得十分必要了。 實用新型內容
[0003] 本實用新型提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，采用真空泵和油擴散泵進行抽真空， 并設置一些閥門配合使用，采用單獨的冷卻循環裝置進行冷卻，解決了【背景技術】中出現的 問題。
[0004] 本實用新型的目的是提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵和冷水槽，所 述真空泵上方連接有第一氣管，第一氣管中間右側連接有第二氣管，第二氣管上設置有泄 氣閥門；第一氣管中間偏上左側設置有第三氣管，第三氣管的末端連接有油擴散泵，第三氣 管上設置有前級閥門；第一氣管的末端向左連接有第四氣管，第四氣管上設置有預抽氣閥 門；油擴散泵上方連接有第五氣管，第五氣管的末端連接有鍍膜室，第五氣管上中間偏下部 分從下到上依次設置有冷井和高真空閥門，第五氣管中間偏上右側連接著第四氣管，第五 氣管的上部向左連接有第六氣管，第六氣管上設置有放氣閥門；所述冷井左側從上到下依 次設置有第一水管和第二水管，第一水管的末端連接有循環水箱，第二水管的末端連接著 冷水槽，循環水箱和冷水槽之間設置有第三水管連接起來。
[0005] 進一步改進在于：所述冷水槽為半導體低溫冰箱。
[0006] 進一步改進在于：所述第二水管與冷水槽之間設置有熱交換器。
[0007] 進一步改進在于：所述第三水管上位于循環水箱內設置有水閥門，第三水管上中 間還設置水泵。
[0008] 本實用新型的有益效果：本裝置通過采用真空泵和油擴散泵進行抽真空，并設置 一些閥門配合使用，可以有效地保持鍍膜室的真空度，在冷井上通過水管連接循環水箱和 冷水槽構成一個循環冷卻系統，使冷井溫度可以有效地降低，使鍍膜室的油蒸汽回返率下 降，排除了環境溫度對鍍膜的影響，提高了鍍膜室的真空潔凈度，鍍膜質量提高，適用于生 產中。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009] 圖1是本實用新型的示意圖。
[0010] 其中：1-真空泵，2-冷水槽，3-第一氣管，4-第二氣管，5-泄氣閥門，6-第三氣管， 7-油擴散泵，8-前級閥門，9-第四氣管，10-預抽氣閥門，11-第五氣管，12-鍍膜室，13-冷 井，14-高真空閥門，15-第六氣管，16-放氣閥門，17-第一水管，18-第二水管，19-循環水 箱，20-第三水管，21-熱交換器，22-水閥門，23-水泵。

【具體實施方式】
[0011] 為了加深對本實用新型的理解，下面將結合實施例對本實用新型作進一步詳述， 該實施例僅用于解釋本實用新型，并不構成對本實用新型保護范圍的限定。
[0012] 如圖1所示，本實施例提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵1和油擴散泵 7進行抽真空，冷水槽2進行冷卻，真空泵1通過第三氣管6與油擴散泵7連接在一起，真空 泵1通過第一氣管3、第四氣管9和第五中間11與鍍膜室12連接在一起，油擴散泵7通過 第五氣管11與鍍膜室12連接在一起，在第一氣管3右側連接有帶有泄氣閥門5的第二氣 管4進行泄氣；在第三氣管6上設置有前級閥門8,第四氣管9上設置有預抽氣閥門10 ;第 五氣管11上設置有冷井13和高真空閥門14,在第五氣管11上還連接帶有放氣閥門16的 第六氣管15進行放氣；在冷井13連接有第一水管17和第二水管18,其中第一水管17連 接循環水箱19,第二水管18連接著冷水槽2,冷水槽2是半導體低溫冰箱；循環水箱19和 冷水槽2通過第三水管20也連接在一起；在第二水管18與冷水槽2之間還設置有設置有 熱交換器21進行熱交換；在第三水管20上的位于循環水箱19內的開頭部分設置有水閥門 22控制水的循環，在第三水管20上設置水泵23。本裝置通過采用真空泵1和油擴散泵7進 行抽真空，并設置一些閥門配合使用，可以有效地保持鍍膜室12的真空度，在冷井13上通 過水管連接循環水箱19和冷水槽2構成一個循環冷卻系統，使冷井13溫度可以有效地降 低，使鍍膜室12的油蒸汽回返率下降，排除了環境溫度對鍍膜的影響，提高了鍍膜室12的 真空潔凈度，鍍膜質量提高，適用于生產中。
【權利要求】
1. 一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵（1)和冷水槽（2)，其特征在于：所述真空 泵（1)上方連接有第一氣管（3)，第一氣管（3)中間右側連接有第二氣管（4)，第二氣管（4) 上設置有泄氣閥門（5);第一氣管（3)中間偏上左側設置有第三氣管（6)，第三氣管（6)的 末端連接有油擴散泵（7)，第三氣管（6)上設置有前級閥門（8);第一氣管（3)的末端向左 連接有第四氣管（9)，第四氣管（9)上設置有預抽氣閥門（10);油擴散泵（7)上方連接有第 五氣管（11)，第五氣管（11)的末端連接有鍍膜室（12)，第五氣管（11)上中間偏下部分從下 到上依次設置有冷井（13)和高真空閥門（14)，第五氣管（11)中間偏上右側連接著第四氣 管（9)，第五氣管（11)的上部向左連接有第六氣管（15)，第六氣管（15)上設置有放氣閥門 (16) ;所述冷井（13)左側從上到下依次設置有第一水管（17)和第二水管（18)，第一水管 (17) 的末端連接有循環水箱（19)，第二水管（18)的末端連接著冷水槽（2)，循環水箱（19) 和冷水槽（2)之間設置有第三水管（20)連接起來。
2. 如權利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于：所述冷水槽（2)為半導體 低溫冰箱。
3. 如權利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于：所述第二水管（18)與冷 水槽（2)之間設置有熱交換器（21)。
4. 如權利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于：所述第三水管（20)上位 于循環水箱（19)內設置有水閥門（22)，第三水管（20)上中間還設置水泵（23)。
【文檔編號】C23C14/56GK203904444SQ201420189774
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年4月18日 優先權日:2014年4月18日
【發明者】阮成武, 陳軍海, 王志邦 申請人:蕪湖市德寶新材料股份有限公司