1.微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層的原位制備方法，其特征在于：所述的微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層由第一組元成分和第二組元成分構成；
第一組元成分，包括低親氧性組元銅、鐵、鎳、鈷或其組合；
第二組元成分，包括高親氧性組元鉻、鋁、鋯、鈦、硅及稀土親氧元素如釔、鑭、鏑、鈰或其組合；
將上述組元通過熔煉或熱壓燒結制作成靶材，采用電弧離子鍍工藝，在低氧分壓氣氛中引燃電弧進行沉積，獲得前驅體涂層，然后在真空或惰性氣氛中進行高溫退火，涂層中吸附和固溶的氧與第二組成分發生原位反應，形成納米/亞微米級氧化物顆粒彌散分布于金屬母體中的復合涂層。
2.按照權利要求1所述微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層的原位制備方法，其特征在于：所述合金靶材中第一組元成分含量為15％-90％，質量比；此外，靶材中還可含有鎢、鉬、鉭、鈮高熔點組元。
3.按照權利要求1所述微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層的原位制備方法，其特征在于：制備前驅體涂層的電弧電流為50-400A；電流為直流或脈沖直流；當采用脈沖直流時，脈沖電流頻率優選為1-1000Hz，占空比為10％-90％。
4.按照權利要求1所述微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層的原位制備方法，其特征在于：基體施加直流或脈沖負偏壓；偏壓幅值為 10-800V；脈沖負偏壓頻率為100Hz-50kHz，占空比10％-80％。
5.按照權利要求1所述微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層的原位制備方法，其特征在于：所述電弧離子鍍低壓氧氣氣氛為1×10-2-8×10-2Pa的氧氣分壓。
6.按照權利要求1所述微晶氧化物顆粒彌散強化合金涂層的原位制備方法，其特征在于：所述真空或惰性氣氛中進行的高溫退火溫度范圍為500-1200℃，時間為1-6小時，采用真空退火時，為減少涂層表面氧化，真空度要優于8×10-2Pa。