技術總結
本發明提供一種能夠得到良好的彎曲性，在施加應力的部分難以出現裂縫，并且不用擔心漏鍍的化學鍍鎳浴。本發明的化學鍍鎳浴含有下述式(1)所示的含硫苯并噻唑類化合物。式中，X為碳原子數2以上的烷基或其鹽，X也可以具有取代基。

技術研發人員：前田剛志;柴山文德;田邊克久;和田真輔
受保護的技術使用者：上村工業株式會社
文檔號碼：201610584716
技術研發日：2016.07.22
技術公布日：2017.02.15