本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電薄膜技術(shù)，特別涉及一種連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法，可實現(xiàn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的工業(yè)化大面積連續(xù)生產(chǎn)，還涉及實現(xiàn)該方法的專用設(shè)備。

背景技術(shù)：

目前，隨著觸摸屏、太陽能電池、智能窗戶以及平板顯示器等光電器件和設(shè)備的迅速發(fā)展，對于低電阻、高透光性能的透明電極材料的需求越來越大。

氧化銦錫(ITO)是一種N型氧化物半導(dǎo)體材料，是傳統(tǒng)透明電極主要材料之一。ITO的優(yōu)點在于：透光性好、化學(xué)穩(wěn)定性好、易蝕刻成電極圖形等，但是，ITO難以攻克的缺陷在于：⑴真空鍍膜成本高及其鍍膜速率低、前期固定資產(chǎn)投入大(需要建設(shè)大型真空鍍膜設(shè)備線)；⑵ITO的金屬氧化物脆性，而無法使用柔性器件和設(shè)備；⑶最重要的一點是ITO所用到的原材料為稀有金屬銦，銦的全世界儲量很低，使得ITO價格不斷隨之上漲，將會有告罄的危險；⑷ITO廢舊電子產(chǎn)品也不易回收，銦有毒性，且回收成本高昂。因此，類似石墨烯、Metal Mesh和納米金屬等ITO替代材料的發(fā)展進(jìn)程受到研究機(jī)構(gòu)和市場的密切關(guān)注。

與石墨烯、碳納米管、導(dǎo)電高聚物等替代材料相比，金屬納米線薄膜和金屬網(wǎng)格具有明顯的優(yōu)勢。納米金屬線薄膜適合采用液相法規(guī)模制備、適合柔性襯底，但是，大長徑比納米線的批量制備、納米線的均勻成模以及克服納米線之間接觸電阻等問題限制了金屬納米線的規(guī)模應(yīng)用。金屬網(wǎng)格主要采用各種物理方法制備(包括機(jī)械壓印、光刻、離子刻蝕等)，然而，昂貴的設(shè)備限制了其大面積和大規(guī)模制備工藝，另外由于目前采用物理方法制備的金屬網(wǎng)格尺寸較大(大于5微米)，造成在高像素下(通常大于200ppi)的莫瑞干涉波紋非常明顯。所以，研究亞微米級別金屬微納米金屬網(wǎng)絡(luò)電極材料、制備工藝以及其專用的設(shè)備是目前ITO替代材料的重要研究方向之一。

中國授權(quán)發(fā)明專利(ZL201310122824.1)公開了一種基于龜裂模板法制備多孔金屬薄膜透明導(dǎo)電電極的方法，雖然采用這種制備方法可以獲得微納米尺度金屬網(wǎng)線的透明導(dǎo)電薄膜，薄膜的光電性能超過傳統(tǒng)ITO電極，且具有很好的柔性，但是，該方法是亞微米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的實驗室小尺寸制備方法，這種制備方法僅限在實驗室小面積間歇式使用，生產(chǎn)周期長、生產(chǎn)效率低，且成本較高，無法適用于工業(yè)化自動連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線。

目前，市面上還未出現(xiàn)能夠?qū)崿F(xiàn)柔性透明導(dǎo)電薄膜大面積產(chǎn)業(yè)化的方法及設(shè)備，這不僅是當(dāng)前本行業(yè)亟待解決的技術(shù)難題，而且更是急需填補(bǔ)的一項技術(shù)空白。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的第一個目的是提供一種可實現(xiàn)大面積、工業(yè)化自動連續(xù)性生產(chǎn)、可明顯縮短生產(chǎn)周期、大幅度提高生產(chǎn)效率的連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法，由該方法制備得到的柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜可替代ITO導(dǎo)電電極。

本發(fā)明的第二個目的是提供一種實現(xiàn)上述連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法的設(shè)備。

本發(fā)明的第一個目的是通過以下的技術(shù)措施來實現(xiàn)：一種連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法，其特征在于包括以下步驟：

⑴制備具有龜裂縫模板的柔性襯底：連續(xù)輸送柔性襯底依次通過預(yù)清洗、風(fēng)干、常壓等離子體清洗、涂布龜裂液和加熱，在柔性襯底上形成龜裂縫模板，即制得具有龜裂縫模板的柔性襯底；

⑵制備柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜：

①將具有龜裂縫模板的柔性襯底放置在一真空腔中，對該真空腔抽真空；

②具有龜裂縫模板的柔性襯底經(jīng)過二級等離子體清洗后，鍍上致密的金屬薄膜，在鍍膜過程中，金屬薄膜材料填充到龜裂縫模板的龜裂縫中，制得柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜半成品；

③釋放真空，從真空腔中取出柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜半成品，去除柔性襯底上的龜裂縫模板，制得柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜。

本發(fā)明實現(xiàn)了柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的連續(xù)性、大面積生產(chǎn)。該鍍膜方式適用于工業(yè)化自動連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線，可大大縮短生產(chǎn)周期，大幅度提高生產(chǎn)率；采用本發(fā)明生產(chǎn)的柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜具有均勻性好、表面的薄膜附著力強(qiáng)、透射率高、電阻低、柔性等優(yōu)異的光電性能，從而實現(xiàn)了小而輕、柔性、透明、可彎折、高光電性能導(dǎo)電電極的制備，突破了傳統(tǒng)ITO等導(dǎo)電玻璃在可撓、透明、可彎折、重量等方面的局限性；本發(fā)明制備的導(dǎo)電電極的選材范圍廣泛，金屬薄膜材料可選用金屬，甚至可選用金屬合金，因而保證了生產(chǎn)高品質(zhì)、低成本的柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的多種工藝條件實現(xiàn)的可能性。

本發(fā)明所述柔性襯底是現(xiàn)有的材料，例如PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)、PI(聚酰亞胺)等柔性襯底。

本發(fā)明預(yù)清洗所采用的清洗劑可以是雙氧水或酒精等，作用是去除柔性襯底表面上的雜質(zhì)，即去除粉塵、顆粒等雜質(zhì)。

本發(fā)明所述常壓等離子體清洗和二級等離子體清洗是常規(guī)工藝，其中，常壓等離子體清洗用于對柔性襯底表面進(jìn)行清潔、改性和活化；二級等離子體清洗主要利用等離子燒掉表面的凸起物，特別是針狀雜質(zhì)殘留，提高金屬薄膜的平整性，同時也防止后期薄膜器件由于電極凸起而引起的器件失效，還有等離子活化作用，可提高金屬與柔性襯底之間的附著力。

本發(fā)明在所述步驟⑴中，成卷的柔性襯底放料，連續(xù)輸送柔性襯底，在輸送過程中，根據(jù)柔性襯底的張力大小，對柔性襯底的張力和速度進(jìn)行調(diào)節(jié)實現(xiàn)恒速和恒張力；制得具有龜裂縫模板的柔性襯底之后，對具有龜裂縫模板的柔性襯底糾正、收卷。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選實施方式，所述龜裂縫模板上的龜裂縫的寬度為0.5～10微米。

作為本發(fā)明的一種推薦方式，所述金屬薄膜的厚度是20～200納米。

作為本發(fā)明的一種推薦方式，所述柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜上的金屬線寬為0.5～10微米，高度為20～200納米。

作為本發(fā)明的一種實施方式，所述柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的透過率為70～95％，電阻為2～500歐姆。

作為本發(fā)明的一種實施方式，在所述步驟⑵中，采用可調(diào)超聲清洗去除柔性襯底上的龜裂縫模板。

作為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，所述金屬薄膜材料是金屬或者金屬合金。

本發(fā)明的第二個目的是通過以下的技術(shù)措施來實現(xiàn)：一種實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法的設(shè)備，其特征在于：包括柔性襯底涂膜設(shè)備和卷繞磁控鍍膜設(shè)備，所述柔性襯底涂膜設(shè)備包括用于連續(xù)輸送柔性襯底的輸送機(jī)構(gòu)、沿輸送機(jī)構(gòu)的輸送方向依次設(shè)置的用于預(yù)清洗柔性襯底的清洗槽、用于風(fēng)干清洗后的柔性襯底的風(fēng)刀、用于對柔性襯底表面進(jìn)行清潔、改性和活化的常壓等離子體清洗裝置、用于在柔性襯底表面上涂布龜裂液的涂布裝置和用于加熱涂布有龜裂液的柔性襯底的加熱裝置，所述輸送機(jī)構(gòu)連續(xù)輸送柔性襯底經(jīng)過清洗槽清洗、風(fēng)刀風(fēng)干、常壓等離子體清洗裝置清洗、涂布裝置涂布龜裂液和加熱裝置加熱涂布有龜裂液的柔性襯底，在柔性襯底上形成龜裂縫模板；所述卷繞磁控鍍膜設(shè)備包括真空腔、與真空腔相連的抽真空裝置、設(shè)于真空腔中的磁控濺射鍍膜裝置、卷繞機(jī)構(gòu)、二級等離子體清洗裝置，所述卷繞機(jī)構(gòu)主要由用于放置具有龜裂縫模板的柔性襯底的放卷機(jī)構(gòu)、用于收卷柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的收卷機(jī)構(gòu)、設(shè)于放卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)之間的輸送機(jī)構(gòu)組成，所述輸送機(jī)構(gòu)包括用于支承具有龜裂縫模板的柔性襯底進(jìn)行鍍膜的鍍膜支承輥，所述磁控濺射鍍膜裝置的濺射部分與鍍膜支承輥的輥面相對，所述鍍膜支承輥內(nèi)部中空且在鍍膜支承輥內(nèi)設(shè)有循環(huán)冷卻水，所述二級等離子體清洗裝置位于放卷機(jī)構(gòu)和鍍膜支承輥之間的輸送機(jī)構(gòu)的旁側(cè)，具有龜裂縫模板的柔性襯底放置在真空腔的放卷機(jī)構(gòu)上并放卷，通過等離子體清洗裝置清洗，由輸送機(jī)構(gòu)輸送經(jīng)過鍍膜支承輥進(jìn)行鍍膜，在制得柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜后由收卷機(jī)構(gòu)收卷。

本發(fā)明制備微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的專用設(shè)備屬于首創(chuàng)，結(jié)構(gòu)簡單，能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)性生產(chǎn)，節(jié)省時間，生產(chǎn)效率高、生產(chǎn)成本低；采用本發(fā)明生產(chǎn)的產(chǎn)品鍍膜均勻、產(chǎn)品效果好，適用于柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜連續(xù)性、大面積工業(yè)化生產(chǎn)。

作為本發(fā)明的一種實施方式，所述柔性襯底涂膜設(shè)備還包括用于放置柔性襯底的放卷機(jī)構(gòu)和用于收卷具有龜裂縫模板的柔性襯底的收卷機(jī)構(gòu)，所述收卷機(jī)構(gòu)上安裝有磁粉張力控制器和糾偏裝置，所述糾偏裝置具有光電傳感器，所述磁粉張力控制器具有張力傳感器，所述張力傳感器感受柔性襯底的張力大小，將張力信號反饋給磁粉張力控制器，磁粉張力控制器根據(jù)張力信號對柔性襯底的張力和速度進(jìn)行調(diào)節(jié)，實現(xiàn)恒速和恒張力；所述光電傳感器跟蹤物料反饋信號給收卷機(jī)構(gòu)使收料卷整齊。

本發(fā)明所述卷繞機(jī)構(gòu)的輸送機(jī)構(gòu)還包括數(shù)個在同一豎向平面上設(shè)置的過渡輥，各過渡輥沿著柔性襯底的輸送方向排列，靠近所述鍍膜支承輥的一對過渡輥的相對面供柔性襯底反向通過，且經(jīng)過該對過渡輥的柔性襯底的面是具有龜裂縫模板的那一面，而該面經(jīng)過所述鍍膜支承輥時面向所述磁控濺射鍍膜裝置的濺射部分；在所述真空腔內(nèi)還設(shè)有將真空腔分隔成兩個腔室的隔板，所述鍍膜支承輥處于其中一個腔室中，所述放卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)處于另一個腔室中，所述隔板具有通口，所述靠近鍍膜支承輥的那對過渡輥位于所述通口中。

本發(fā)明在所述清洗槽之前且靠近清洗槽設(shè)有展平輥，所述展平輥作為柔性襯底涂膜設(shè)備的輸送機(jī)構(gòu)的組成部分將柔性襯底穩(wěn)定過渡傳輸至后下方的清洗槽，柔性襯底涂膜設(shè)備的輸送機(jī)構(gòu)還包括前后依次設(shè)置的壓輥、傳動輥和輸送帶，所述壓輥設(shè)置在所述清洗槽中用于將展平輥傳送而來的柔性襯底下壓在清洗槽中，在所述清洗槽的后上方依次設(shè)有風(fēng)刀和傳動輥，經(jīng)過預(yù)清洗的柔性襯底向上通過風(fēng)刀風(fēng)干，再由所述傳動輥輸送至輸送帶上，在所述輸送帶的上方按照輸送方向依次設(shè)有所述的常壓等離子體清洗裝置、涂布裝置和加熱裝置，在所述輸送帶的后方設(shè)有所述收卷機(jī)構(gòu)，以便順次完成常壓等離子清洗、涂布龜裂液和加熱涂布有龜裂液的柔性襯底，從而在柔性襯底上形成龜裂縫模板后由所述收卷機(jī)構(gòu)收卷。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下顯著的效果：

⑴本發(fā)明實現(xiàn)了柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜連續(xù)性、大面積生產(chǎn)，填補(bǔ)了國內(nèi)大面積、連續(xù)性生產(chǎn)柔性金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的空白，解決了柔性金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜大面積連續(xù)性生產(chǎn)的問題，該鍍膜方式適合工業(yè)化自動連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線，可大大縮短生產(chǎn)周期、大幅度提高生產(chǎn)率和降低生產(chǎn)成本。

⑵采用本發(fā)明方法生產(chǎn)的柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜具有均勻性好、表面的薄膜附著力強(qiáng)、透射率高、電阻低等優(yōu)異的光電性能，從而實現(xiàn)了小而輕、柔性、透明、可彎折、高光電性能導(dǎo)電電極的制備，突破了傳統(tǒng)ITO等導(dǎo)電玻璃在柔性可撓、透明、可彎折、重量等方面的局限性。

⑶本發(fā)明生產(chǎn)薄膜的選材范圍廣泛(適合各種金屬，甚至金屬合金)，因而保證了生產(chǎn)高品質(zhì)的柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的多種工藝條件實現(xiàn)的可能性。

⑷采用本發(fā)明設(shè)備生產(chǎn)的產(chǎn)品鍍膜均勻、產(chǎn)品效果好，適用于柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜連續(xù)性、大面積工業(yè)化生產(chǎn)。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

圖1是本發(fā)明方法的工藝流程簡圖(柔性襯底在不同工序中的狀態(tài)采用光學(xué)顯微鏡圖片顯示)；

圖2是本發(fā)明設(shè)備的組成結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

一種連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法，包括以下步驟：

⑴制備具有龜裂縫模板的柔性襯底：成卷的柔性襯底放料，連續(xù)輸送柔性襯底依次通過預(yù)清洗、風(fēng)干、常壓等離子體清洗、涂布龜裂液和加熱，龜裂液選用雞蛋清、二氧化鈦等高聚物凝膠，在本實施例中，龜裂液選用雞蛋清凝膠，雞蛋清凝膠配比是雞蛋清與水體積比范圍為1:0.5～1:5，在柔性襯底上形成龜裂縫模板，即制得具有龜裂縫模板的柔性襯底，龜裂縫模板上的龜裂縫的寬度為0.5～10微米。在輸送過程中，根據(jù)柔性襯底的張力大小，對柔性襯底的張力和速度進(jìn)行調(diào)節(jié)實現(xiàn)柔性襯底恒速和恒張力，并在制得具有龜裂縫模板的柔性襯底之后，對具有龜裂縫模板的柔性襯底糾正、收卷。

⑵制備柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜：

①將具有龜裂縫模板的柔性襯底放置在一真空腔中，對該真空腔抽真空；

②具有龜裂縫模板的柔性襯底經(jīng)過二級等離子體清洗后，鍍上致密的金屬薄膜，在本實施例中，是采用磁控濺射金屬沉積工藝在具有龜裂縫模板的柔性襯底上沉積致密的金屬薄膜，沉積在龜裂縫模板上的金屬薄膜的厚度是20～200納米，在沉積過程中，金屬薄膜填充到龜裂縫模板的龜裂縫中，制得柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜半成品；金屬薄膜材料采用金屬或者金屬合金。

③釋放真空，從真空腔中取出柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜半成品，采用可調(diào)超聲清洗去除柔性襯底上的龜裂縫模板，留下龜裂縫中沉積的金屬，制得柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜，柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜上的金屬網(wǎng)絡(luò)的金屬線寬為0.5～10微米，高度為20～200納米，柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的透過率為70～95％，電阻為2～500歐姆。

如圖1所示，上述生產(chǎn)微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的過程可簡述為：柔性襯底通過涂布(噴涂)龜裂液形成龜裂縫模板，在龜裂縫模板上沉積金屬(連續(xù)金屬膜)，再去除龜裂模板，得到金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜(柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜)。

如圖2所示，一種實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的方法的專用設(shè)備，包括柔性襯底涂膜設(shè)備1和卷繞磁控鍍膜設(shè)備2，柔性襯底涂膜設(shè)備1包括用于放置柔性襯底10的放卷機(jī)構(gòu)11和用于收卷具有龜裂縫模板的柔性襯底的收卷機(jī)構(gòu)19、用于連續(xù)輸送柔性襯底10的輸送機(jī)構(gòu)、沿輸送機(jī)構(gòu)的輸送方向依次設(shè)置的用于預(yù)清洗柔性襯底10的超聲波清洗槽14、用于風(fēng)干清洗后的柔性襯底的風(fēng)刀15、用于對柔性襯底表面進(jìn)行清潔、改性和活化的常壓等離子體清洗裝置16、用于在柔性襯底表面上涂布龜裂液的涂布裝置和用于加熱涂布有龜裂液的柔性襯底的加熱裝置，常壓等離子體清洗裝置的清洗功率為600～1000w，涂布裝置采用涂布式刮刀17(標(biāo)配，包括噴頭系統(tǒng)和邁耶棒涂布裝置)，噴頭系統(tǒng)設(shè)置成一排或多排橫跨于柔性襯底上面，高度可調(diào)，噴涂壓力為10psi～20psi；邁耶棒涂布裝置設(shè)置一個邁耶棒或多個邁耶棒，噴涂凝膠后的柔性襯底經(jīng)過邁耶棒抹勻。在常壓等離子體清洗裝置16和噴頭系統(tǒng)之間設(shè)有隔板，用于隔開清洗區(qū)域和噴涂區(qū)域。加熱裝置采用加熱板18(標(biāo)配)，加熱板溫度為40℃～60℃，加熱板采用澆鑄成型工藝制作，面板選材不銹鋼，有優(yōu)越的抗腐蝕性能，高溫狀態(tài)無翹曲變形。超聲波清洗槽14的超聲強(qiáng)度大小可調(diào)，風(fēng)刀的風(fēng)幕大小可調(diào)。輸送機(jī)構(gòu)位于放卷機(jī)構(gòu)11和收卷機(jī)構(gòu)19之間，在本實施例中，輸送機(jī)構(gòu)由多組可轉(zhuǎn)動的輥組成，包括前后依次設(shè)置的展平輥13、壓輥、傳動輥和輸送帶20，展平輥13位于超聲波清洗槽14的前方且靠近超聲波清洗槽14，展平輥13穩(wěn)定過渡傳輸柔性襯底10至后下方的超聲波清洗槽14，壓輥設(shè)置在超聲波清洗槽14中用于將展平輥13傳送而來的柔性襯底下壓在超聲波清洗槽中，在清洗槽的后上方依次設(shè)有風(fēng)刀15和傳動輥，經(jīng)過預(yù)清洗的柔性襯底向上通過風(fēng)刀風(fēng)干，再由傳動輥輸送至輸送帶20(鐵氟龍皮帶)上，在輸送帶的上方按照輸送方向依次設(shè)有常壓等離子體清洗裝置16、涂布刮刀17和加熱板18，在輸送帶的后方設(shè)有收卷機(jī)構(gòu)19，以便順次完成常壓等離子清洗、涂布龜裂液和加熱涂布有龜裂液的柔性襯底，從而在柔性襯底上形成龜裂縫模板后由收卷機(jī)構(gòu)收卷，收卷機(jī)構(gòu)上安裝有糾偏裝置，糾偏裝置具有光電傳感器，光電傳感器跟蹤物料反饋信號給收卷系統(tǒng)，使得料邊始終保持與收卷卷軸垂直，最終使收料卷整齊，它可以對柔性襯底進(jìn)行糾正并收卷。

柔性襯底涂膜設(shè)備1的工作過程是：放卷機(jī)構(gòu)11放料，輸送機(jī)構(gòu)連續(xù)輸送柔性襯底經(jīng)過超聲波清洗槽清洗、風(fēng)刀風(fēng)干、常壓等離子體清洗裝置清洗、涂布刮刀涂布龜裂液和加熱板加熱涂布有龜裂液的柔性襯底，形成具有龜裂縫模板的柔性襯底，由收卷機(jī)構(gòu)糾正、收卷。

柔性襯底涂膜設(shè)備的收卷機(jī)構(gòu)上安裝有磁粉張力控制器，磁粉張力控制器具有張力傳感器12，張力傳感器12感受柔性襯底的張力大小，將張力信號反饋給磁粉張力控制器，磁粉張力控制器根據(jù)張力信號對柔性襯底的張力和速度進(jìn)行調(diào)節(jié)，實現(xiàn)恒速和恒張力?？刂品帕纤俣葹?.5m/min～2m/min。

卷繞磁控鍍膜設(shè)備2包括真空腔25、與真空腔25相連的抽真空裝置、設(shè)于真空腔25中的磁控濺射鍍膜裝置23、卷繞機(jī)構(gòu)和二級等離子體清洗裝置24，卷繞機(jī)構(gòu)主要由用于放置具有龜裂縫模板的柔性襯底的放卷機(jī)構(gòu)221、用于收卷柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜的收卷機(jī)構(gòu)222、設(shè)于放卷機(jī)構(gòu)221和收卷機(jī)構(gòu)222之間的輸送機(jī)構(gòu)組成，輸送機(jī)構(gòu)包括用于支承具有龜裂縫模板的柔性襯底進(jìn)行鍍膜的鍍膜支承輥26，磁控濺射鍍膜裝置23的濺射部分與鍍膜支承輥26的輥面相對，鍍膜支承輥26內(nèi)部中空且在鍍膜支承輥26內(nèi)設(shè)有循環(huán)冷卻水27，二級等離子體清洗裝置24位于放卷機(jī)構(gòu)221和鍍膜支承輥26之間的輸送機(jī)構(gòu)的旁側(cè)。在鍍膜支承輥26上設(shè)有冷卻水進(jìn)口和出口，循環(huán)冷卻水27對磁控鍍膜時經(jīng)過鍍膜支承輥26的柔性襯底起到冷卻作用。卷繞機(jī)構(gòu)的輸送機(jī)構(gòu)還包括數(shù)個在同一豎向平面上設(shè)置的過渡輥29組成，各過渡輥29沿著柔性襯底的輸送方向排列，靠近鍍膜支承輥26的一對過渡輥的相對面供柔性襯底反向通過，且經(jīng)過該對過渡輥的柔性襯底的面是具有龜裂縫模板的那一面，而該面經(jīng)過鍍膜支承輥26時面向磁控濺射鍍膜裝置的濺射部分，在本實施例中，放卷機(jī)構(gòu)221和收卷機(jī)構(gòu)222相互靠近且共同位于鍍膜支承輥26的上方；在真空腔25內(nèi)還設(shè)有將真空腔25分隔成上下兩個腔室的隔板28，鍍膜支承輥26處于其中一個腔室中，放卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)處于另一個腔室中，隔板28具有通口，靠近鍍膜支承輥26的那對過渡輥位于通口中，避免鍍膜時將金屬薄膜材料濺射到位于上方腔室的柔性襯底。

真空腔25的背面為可活動背板，活動背板與真空腔25的底面之間為滑動連接，卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)置在該活動背板的內(nèi)板面上。

卷繞磁控鍍膜設(shè)備2的工作過程是：拖出活動背板，將具有龜裂縫模板的柔性襯底放置在放卷機(jī)構(gòu)221上，并經(jīng)過鍍膜支承輥繞設(shè)在收卷機(jī)構(gòu)222上，將活動背板推進(jìn)真空腔，真空腔25通過抽真空系統(tǒng)21抽真空，具有龜裂縫模板的柔性襯底放卷，通過二級等離子體清洗裝置24清洗，清洗后的具有龜裂縫模板的柔性襯底由過渡輥29輸送經(jīng)過鍍膜支承輥26以便沉積致密的金屬薄膜，制得柔性微納米金屬網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電薄膜，再由收卷機(jī)構(gòu)222收卷。卷繞磁控鍍膜設(shè)備2的過渡輥可以根據(jù)實際情況進(jìn)行選用，鍍膜支承輥26的直徑相對較大，而其余過渡輥的直徑相對較小，為了便于在真空腔內(nèi)有限空間中設(shè)置輸送機(jī)構(gòu)，輸送機(jī)構(gòu)可以設(shè)置為如圖2所示的結(jié)構(gòu)，在其它實施例中，也可以為其它的結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的實施方式不限于此，按照本發(fā)明的上述內(nèi)容，利用本領(lǐng)域的普通技術(shù)知識和慣用手段，在不脫離本發(fā)明上述基本技術(shù)思想前提下，本發(fā)明還可以做出其它多種形式的修改、替換或變更，均落在本發(fā)明權(quán)利保護(hù)范圍之內(nèi)。