技術特征：

1.基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一：清洗基片；

步驟二：將基片與靶材置于真空腔內，抽真空；

步驟三：基底加熱，充入氣氛并調節氣體流量與壓強；

步驟四：在基片上濺射沉積薄膜；

步驟五：退火處理薄膜。

2.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟一中所用基片為SiO₂。

3.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟一中超聲清洗SiO₂基片依次采用丙酮、異丙醇、去離子水、無水乙醇，超聲清洗時間分別為10-15min。

4.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟二所述的靶材為CeYIG靶材，滿足化學式Ce_xY_3-xFe₅O₁₂，0.1≤x≤1，x為Ce³⁺離子含量。

5.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，靶材與基片之間的距離為4-8cm。

6.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟三所述的SiO₂基底的溫度為550℃-750℃。

7.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟三所述充入氣氛為O₂，氧壓選擇在5-10Pa之間。

8.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，激光能量范圍從160mJ到320mJ，激光頻率為2-10Hz。

9.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟五中退火氣氛選擇空氣、氬氣或氫氣。

10.根據權利要求1所述的基于石英襯底的摻雜釔鐵石榴石薄膜脈沖激光沉積方法，其特征在于，步驟五中退火晶化溫度為700-850℃，保溫時間10-30min。