1.一種在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，包括如下步驟：
將磁控濺射鍍膜機的腔體抽至真空，通入氬氣，將透明塑料薄膜卷放于磁控濺射鍍膜機的轉動輥上，通過控制轉動輥進行轉動，在透明塑料薄膜表面進行磁控濺射沉積鍍膜，其中靶材包括靶材A和靶材B，形成ABAB或BABA交替疊加結構的多層光學膜，靶材A為高折射率靶材，靶材B為低折射率靶材。
2.根據權利要求1所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，靶材A為二氧化硅、氟化鎂或氟化鈣中的一種，靶材B為二氧化鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、氧化鈰或氧化鋅中的一種；
優選地，靶材A為二氧化硅，靶材B為二氧化鈦或五氧化三鈦中的一種；更優選地，靶材B為二氧化鈦。
3.根據權利要求1所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，腔體的真空度≤4.5×10-7Torr，通入氬氣后的真空度4.5×10-3～6.5×10-3Torr；
優選地，腔體的真空度≤3.5×10-7Torr，通入氬氣后的真空度為5.5×10-3Torr。
4.根據權利要求1-3任一項所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，磁控濺射鍍膜機設有1號靶機、2號靶機、3號靶機；1號靶機和3號靶機上設為靶材A，2號靶機上設為靶材B，或者，1號靶機和3號靶機上設為靶材B，2號靶機上設為靶材A。
5.根據權利要求1-3任一項所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，轉動輥正向轉動時，同時開啟1號靶機、2號靶機和3號靶機；轉動輥反向轉動時，同時開啟1號靶機和2號靶機，關閉3號靶機。
6.根據權利要求1-3所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，磁控濺射鍍膜機靶電流為2.5-8.1A。
7.根據權利要求1-3所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法，其特征在于，透明塑料薄膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對萘二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯或聚丙烯中的一種。
8.一種多層光學薄膜，其特征在于，在透明塑料薄膜上進行磁控濺射沉積鍍膜，以在其表面形成ABAB或BABA交替疊加結構的多層光學膜，其中A為高折射率靶材，B為低折射率靶材。
9.根據權利要求8所述的多層光學薄膜，其特征在于，A為二氧化硅、氟化鎂或氟化鈣中的一種，B為二氧化鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、氧化鈰或氧化鋅中的一種；
優選地，A為二氧化硅，B為二氧化鈦或五氧化三鈦中的一種；更優選B為二氧化鈦。
10.根據權利要求8或9所述的在塑料薄膜上制作多層光學膜的方法制得的多層光學薄膜，其特征在于，透明塑料薄膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對萘二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯或聚丙烯中的一種。