1.一種首飾用硬質千足金的表面處理工藝，其特征在于，采用雙層輝光等離子表面處理技術，利用輝光放電所產生的低溫等離子體，使源級靶材中能使千足金硬化的合金原子，吸附和擴散在升溫至一定溫度且保溫一段時間的千足金飾品表面，形成硬質合金層。
2.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，源極靶材采用粉末冶金工藝制備，其合金重量比例為Au：60％～75％，Ti：5～35％，Dy：2％～18％，Te：1～10％。
3.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，硬質合金層厚度為5～15微米，其硬度達到HV190～250以上。
4.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，源級電壓為800～1000V。
5.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，工件極電壓為50～200V。
6.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，工作氣壓為100～1000Pa。
7.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，極間距為200mm～500mm。
8.如權利要求1所述的表面處理工藝，其特征在于，升溫溫度為500～800℃，保溫時間為10～30min的千足金飾品表面。
9.如權利要求1或2所述的表面處理工藝，其特征在于，源極靶材為一端封閉的層間距為1～3cm的雙層圓柱體結構，其上設置均勻分布的圓孔。
10.如權利要求9所述的表面處理工藝，其特征在于，圓孔直徑為5mm～10mm。