1.一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，包括微型蒸發源陣列、基板傳動裝置，其特征在于：所述微型蒸發源陣列中的微型蒸發源蒸發口徑小，并通過快門開關控制蒸發。
2.根據權利要求1所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述微型蒸發源陣列由復數個微型蒸發源陣列排布而成。
3.根據權利要求2所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述微型蒸發源之間間距為5μm~5000μm，其排布方式為并列排布或交錯排布。
4.根據權利要求2所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述微型蒸發源包括一蒸發噴頭，其口徑為1μm~500μm，使得微型蒸發源具有小蒸發口徑。
5.根據權利要求4所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述蒸發噴頭上帶有所述快門開關。
6.根據權利要求2所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述快門開關能夠控制微型蒸發源的蒸發照射，且能夠在瞬間開合。
7.根據權利要求2所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述基板傳動裝置能夠帶動基板移動，所述基板與微型蒸發源陣列之間的距離為50μm~10000μm。
8.根據權利要求7所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：所述傳動裝置能夠帶動基板進行多維移動，具體的在空間直角坐標系xyz中，包括沿x軸移動、沿y軸移動、沿z軸移動以及在xy平面上繞w軸旋轉轉動。
9.根據權利要求8所述的一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置，其特征在于：基板沿x、y、z軸移動的速度為1μm/s~5000μm/s之間，基板在xy平面上繞w軸旋轉轉動的速度為1°/s~90°/s之間。