技術總結
本發明涉及一種高均勻度圖形化多點源陣列蒸發鍍膜裝置。包括微型蒸發源陣列、基板傳動裝置，所述微型蒸發源陣列中的微型蒸發源蒸發口徑小，并通過快門開關控制蒸發；所述微型蒸發源陣列由復數個微型蒸發源陣列排布而成。本發明裝置，使用微型蒸發源陣列有效加快了蒸發成膜的速度、并且保持了原有的高可控性，保證了材料的節約有效使用，實現了大型面板的蒸鍍可能和高均勻性，特別的具有了無掩模板蒸鍍圖形化，免除了掩模板所帶來的不足。

技術研發人員：郭太良;葉蕓;張永愛;嚴群;徐中煒;呂珊紅
受保護的技術使用者：福州大學
文檔號碼：201611137800
技術研發日：2016.12.12
技術公布日：2017.03.15