技術特征：

1.一種用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法，其特征在于：首先通過陽極氧化法獲得TiO₂納米管陣列膜，而后再通過水熱法將ZnFe₂O₄納米顆粒負載于TiO₂納米管陣列膜上。

2.按權利要求1所述用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法，其特征在于：所述陽極氧化法指在電解液中以鉑片為對電極，將預處理后的鈦基體在20～30V電壓下進行陽極氧化0.5～1h，然后在400～450℃下煅燒后冷卻至室溫，即可在鈦表面制得TiO₂納米管陣列膜。

3.按權利要求2所述用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法，其特征在于：所述電解液為含有0.5～0.6wt％NH₄F，1～1.3vol％超純水的乙二醇溶液。

4.按權利要求2所述用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法，其特征在于：所述鈦基體的預處理是：將鈦基體依次在甲醇，丙酮，異丙醇，拋光液，去離子水中對鈦基體進行超聲清洗。

其中，拋光液的配比為HF:HNO₃:H₂O＝1:4:5～1:5:6(vol比)。

5.按權利要求1所述用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法，其特征在于：所述水熱法指將Zn(NO₃)₂和Fe(NO₃)₃按1:2～1:3的摩爾濃度比混合，而后調節混合液ph值為9～11，將所述TiO₂納米管陣列膜浸泡于混合液中，而后置于反應釜內，于100～180℃下熱處理10～12h，冷卻后，用無水乙醇和去離子水反復沖洗，再于60～80℃下烘干3～4h，即得到ZnFe₂O₄/TiO₂納米復合膜。

6.按權利要求5所述用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法，其特征在于：所述調節混合液ph值使用的是3～5M的NaOH溶液。

7.一種利用權利要求1用于光生陰極保護的納米復合膜的制備方法獲得納米復合膜的應用，其特征在于：所述獲得ZnFe₂O₄/TiO₂納米復合膜可作為光生陰極保護復合膜中的應用。