技術總結
本實用新型屬于納米涂層技術領域，具體涉及一種真空鍍膜設備，包括設置在真空腔室中的靶材、敲擊探頭和樣品基片，所述靶材與電源陰極相連，敲擊探頭與電源陽極相連，樣品基片與靶材平行相對設置，所述敲擊探頭位于靶材與樣品基片之間，所述敲擊探頭往復運動設置，并敲擊靶材表面，所述靶材與敲擊探頭相對轉動設置，使敲擊探頭能夠沿靶材圓周方向均勻敲擊靶材表面。本實用新型能夠實現敲擊點從某一固定點改變為360度的敲擊軌道，不管是金屬/合金，還是石墨靶材，都能夠使靶材表面達到穩定的、均勻的和高沉積速率的刻蝕，并提高了靶材利用率，增加了設備的維護周期，降低了成本。

技術研發人員：張心鳳;鄭杰;尹輝
受保護的技術使用者：安徽純源鍍膜科技有限公司
文檔號碼：201620512697
技術研發日：2016.05.31
技術公布日：2016.12.07