本實用新型涉及光學薄膜技術領域，尤其是一種防污膜鍍膜裝置。

背景技術：

防污（AS）膜在需要防污、防水和抗刮擦光電產品上的應用日益廣泛。同時，鍍膜技術的發展也促使對防污膜的鍍膜效率和鍍膜品質進行不斷提升。

目前，液態防污膜料在防污膜的自動化連續式鍍膜中使用較多，已有技術方案（“自動化連續式防污膜鍍膜裝置”，申請號：201410786581.6）通過設置防污膜的預熱室、蒸鍍室、閘閥、搬運機構，實現防污膜的自動化連續式鍍膜。

實際應用中，為了提升鍍膜效率，可采用大型的鍍膜腔體來實現防污膜的鍍膜。在這種大型鍍膜腔體內，為了實現膜厚均勻性，就需要在一個鍍膜腔室中設置多個防污膜蒸發源。

技術實現要素：

本實用新型的目的是根據上述現有技術的不足，提供了防污膜鍍膜裝置，通過蒸發源控制機構聯動控制多個蒸發源，實現大型鍍膜腔室中多個蒸發源的布置，滿足膜厚均勻性的要求。

本實用新型目的實現由以下技術方案完成：

一種防污膜鍍膜裝置，所述鍍膜裝置至少包括蒸發源、加液滴嘴和蒸發源控制機構，所述加液滴嘴的開口朝向所述蒸發源，所述蒸發源控制機構連接控制所述蒸發源移動，其特征在于：所述鍍膜裝置包括至少兩個蒸發源，所述蒸發源控制機構聯動控制所述蒸發源的移動。

所述蒸發源控制機構至少包括驅動裝置及推桿，所述推桿具有一個施力端以及與所述蒸發源的數量相對應的受力端，所述施力端與所述驅動裝置相連接，所述受力端與所述蒸發源相連接；所述驅動裝置通過所述推桿聯動控制至少兩個所述蒸發源的移動。

所述驅動裝置為無桿氣缸，所述蒸發源為坩堝。

本實用新型的優點是：滿足了大型鍍膜腔體鍍膜均勻性的需要，可實現在同一鍍膜腔室中設置多個防污膜蒸發源；簡化了結構，降低了成本，便于操作及維護。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖通過實施例對本實用新型特征及其它相關特征作進一步詳細說明，以便于同行業技術人員的理解：

如圖1所示，圖中標記1-13分別表示為：真空鍍膜室1、加液腔室2、加液機構3、加液滴嘴4、坩堝5、坩堝加熱頭6、無桿氣缸7、一拖三推桿8、分布腔9、閥門10、分布腔噴口11、排氣系統12、基板13。

實施例：如圖1所示，本實施例中防污膜鍍膜裝置包括真空鍍膜室1和加液腔室2，兩者的內部腔體之間通過閥門10的啟閉構成連通或隔斷。在真空鍍膜室1內設置有基板13，液體膜料通過分布腔9上的若干分布腔噴口11蒸鍍在基板13的表面。在真空鍍膜室1和加液腔室2的底部都設置有排氣系統12，排氣系統12用于在鍍膜完成后將真空鍍膜室1和加液腔室2內的氣體排出至外。

如圖1所示，本實施例中的加液裝置對三個蒸發源進行加液，蒸發源指的是盛放有液體膜料的坩堝5，坩堝5承載在坩堝加熱頭6上，坩堝加熱頭6用于對坩堝5進行加熱以對其盛放的液體膜料進行預熱。

加液裝置包括分別與每個坩堝對應的加液機構3和加液滴嘴4，加液機構3通過加液滴嘴4將液體膜料添加至坩堝5的鍋體內部。

蒸發源控制機構包括無桿氣缸7和一拖三推桿8，一拖三推桿指的是具有一個施力端，三個受力端的推桿，其中施力端與無桿氣缸7相連接，而三個受力端分別與三個蒸發源所對應的三個坩堝加熱頭6構成連接固定，這樣一來，在無桿氣缸7的驅動下，盛放有液體膜料的坩堝5可隨著坩堝加熱頭6的移動在加液腔室2和真空鍍膜室1之間往復移動。

本實施例在具體實施時：蒸發源的數量可根據實際需要進行選擇，只需要配備具有與蒸發源數量相對應的受力端的推桿即可。

雖然以上實施例已經參照附圖對本實用新型目的的構思和實施例做了詳細說明，但本領域普通技術人員可以認識到，在沒有脫離權利要求限定范圍的前提條件下，仍然可以對本實用新型作出各種改進和變換，如：蒸發源的數量、真空鍍膜室1或加液腔室2的具體結構等，故在此不一一贅述。