1.一種真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，包括相互連接的電機和支架，其特征在于：所述支架中間設有至少一根與電機相連的轉動軸，轉動軸上設有圓柱體滾柱，該圓柱體滾柱上開設凹槽，凹槽內設有磁鐵。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，其特征在于：所述轉動軸的數量為兩根、四根或六根。
3.根據權利要求1或2所述的真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，其特征在于：所述轉動軸在電機帶動下的轉動方向為同向或相向，電機的轉速為50-120rpm。
4.根據權利要求3所述的真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，其特征在于：所述凹槽內磁鐵的深度小于等于圓柱體滾柱的直徑。
5.根據權利要求4所述的真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，其特征在于：所述凹槽內磁鐵的寬度為4-6mm。
6.根據權利要求5所述的真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，其特征在于：所述凹槽內磁鐵為單獨磁鐵或磁鐵組合。