技術總結
本實用新型涉及一種真空鍍膜離子鍍裝置的陰極磁控裝置，包括相互連接的電機和支架，支架中間設有至少一根與電機相連的轉動軸，轉動軸上設有圓柱體滾柱，該圓柱體滾柱上開設凹槽，凹槽內設有磁鐵。本實用新型在PVD涂層設備鍍膜過程中，通過調節陰極背后磁控系統的電機速度，來調節磁鐵轉動速度，最終調整陰極表面電弧的速度和刻蝕區域，從而減小鍍膜過程的液滴大小并達到提高靶材的利用率。

技術研發人員：單永賢
受保護的技術使用者：上海金科納米涂層技術有限公司
文檔號碼：201620652256
技術研發日：2016.06.28
技術公布日：2017.01.04