技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及一種掃描磁場(chǎng)的離子鍍陰極，它包括靶座、磁座、固定磁體、內(nèi)部磁體、氣體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、陰極和冷卻水；所述靶座內(nèi)的底部上設(shè)有氣體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，氣體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)上設(shè)有磁座，內(nèi)部磁體置于磁座的內(nèi)部邊緣，內(nèi)部磁鐵和磁座在氣體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的作用下在氣體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的內(nèi)壁之間圍繞靶座的縱向中心線做有規(guī)律的直線往返運(yùn)動(dòng)，固定磁體設(shè)于氣體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和靶座之間并位于靶座頂部下方，陰極設(shè)于靶座上部，陰極底部和靶座頂部之間形成冷卻水道。本實(shí)用新型可有效擴(kuò)大靶材的刻蝕區(qū)域，提高靶材的利用率，并且刻蝕均勻，涂層質(zhì)量好，大顆粒少。

技術(shù)研發(fā)人員：單永賢
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海金科納米涂層技術(shù)有限公司
文檔號(hào)碼：201620652877
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.28
技術(shù)公布日：2017.01.04