本申請涉及低輻射玻璃制備技術領域，更具體的說，涉及一種新型low-e玻璃及其制備方法。

背景技術：

low-e(lowemissivity)玻璃，又稱低輻射玻璃，是指在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產品。其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，使其與普通玻璃及傳統(tǒng)的建筑用鍍膜玻璃相比，具有優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

對于low-e玻璃而言，其輻射參數(shù)是衡量其低輻射特性優(yōu)劣的重要參數(shù)，具有越低輻射參數(shù)的low-e玻璃，其隔熱效果和透光性越好。因此，如何降低low-e玻璃的輻射參數(shù)成為相關領域研究人員努力的方向。

技術實現(xiàn)要素：

為解決上述技術問題，本發(fā)明提供了一種low-e玻璃及其制備方法，以實現(xiàn)制備輻射參數(shù)較低的low-e玻璃的目的。

為實現(xiàn)上述技術目的，本發(fā)明實施例提供了如下技術方案：

一種新型low-e玻璃的制備方法，包括：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上形成低輻射膜層；

利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層中的功能膜進行表面改性處理，以提升所述功能膜的低輻射性能。

可選的，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

利用磁控濺射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介質膜、功能膜和第二介質膜。

可選的，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

利用化學氣相沉積法在所述玻璃基板表面依次形成內層介質膜、過度膜和功能膜。

可選的，所述預設波長為976nm±50nm，包括端點值。

可選的，所述激光光源出射的激光光斑為線形激光光斑。

可選的，所述線形激光光斑的長度的取值范圍為150mm±50mm，包括端點值。

可選的，所述線形激光光斑的寬度的取值范圍為1mm±1mm，包括端點值。

一種新型low-e玻璃，利用上述任一項所述的low-e玻璃的制備方法制備，所述low-e玻璃包括：

玻璃基板；

位于所述玻璃基板表面的低輻射膜層；

所述低輻射膜層中的功能膜為經過預設波長的激光光源表面改性處理后的功能膜。

可選的，所述玻璃基板為浮法玻璃。

從上述技術方案可以看出，本發(fā)明實施例提供了一種新型low-e玻璃及其制備方法，其中，所述新型low-e玻璃制備方法利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層中的功能膜進行表面改性處理，以利用激光光源使所述功能膜產生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本申請的一個實施例提供的一種low-e玻璃的制備方法的流程示意圖；

圖2為本申請的另一個實施例提供的一種low-e玻璃的制備方法的流程示意圖；

圖3為本申請的一個實施例提供的一種low-e玻璃的結構示意圖；

圖4為本申請的又一個實施例提供的一種low-e玻璃的制備方法的流程示意圖；

圖5為本申請的另一個實施例提供的一種low-e玻璃的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本申請實施例提供了一種新型low-e玻璃的制備方法，如圖1所示，包括：

s101：提供玻璃基板；

所述玻璃基板可以是普通玻璃，也可以是鋼化玻璃，還可以是浮法玻璃，本申請對所述玻璃基板的具體種類并不做限定，具體視實際情況而定。

s102：在所述玻璃基板上形成低輻射膜層；

s103：利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層中的功能膜進行表面改性處理，以提升所述功能膜的低輻射性能。

在本實施例中，在low-e玻璃的基本結構形成后，利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層中的功能膜進行表面改性處理，以利用激光光源使所述功能膜產生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

需要說明的是，所述功能膜的電阻值越低，代表low-e玻璃的低輻射特性越好，通過測試功能膜的電阻值可以發(fā)現(xiàn)，在利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層中的功能膜進行表面改性處理后，其功能膜的電阻值明顯降低，這意味著激光光斑可以使功能膜產生明顯的相變硬化現(xiàn)象。

在實際的生產過程中，利用預設波長的激光光源直接照射low-e玻璃表面即可，預設波長的選擇特性會穿過所述低輻射膜層，從而實現(xiàn)選擇性地對所述功能膜進行表面改性處理的目的，這種方法整體操作簡便，對原有l(wèi)ow-e玻璃的生產流程改動較小。

在上述實施例的基礎上，在本申請的一個實施例中，如圖2所示，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

s1021：利用磁控濺射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介質膜、功能膜和第二介質膜。

在本實施例中，制備low-e玻璃的流程成為離線生產過程，具體地，在玻璃基板經過切割、清洗、干燥等預處理后，輸送進入真空濺射室中，真空濺射室中設有濺射靶。在對真空濺射室進行抽氣使其內部處于真空環(huán)境后，陰極接通負電壓，陽極接通正電壓，并向真空濺射室內充入工作氣體(一般采用惰性氣體，例如氬氣)。當真空濺射室真空度降低到工作壓強時，遵循陰極磁控濺射的原理，在玻璃基板表面上沉積大量的中性靶原子(或分子)而形成所述低輻射膜層。或在真空濺射室工作條件下，分階段向真空濺射室充入反應氣體(一般采用氧氣、氮氣、硫化氫、甲烷)，同純金屬靶材濺射出來的原子進行化學反應，繼而在玻璃基板表面上形成氧化物、氮化物、硫化物和碳化物膜層。

還可以選擇連續(xù)設置多個真空濺射室，以實現(xiàn)復合型多功能的低輻射膜層的low-e玻璃的生產。

利用該方法制備的low-e玻璃的結構如圖3所示，包括：玻璃基板100、第一介質膜210、功能膜220和第二介質膜230，其中，第一介質膜210、功能膜220和第二介質膜230構成所述低輻射膜層200。

在上述實施例的基礎上，在本申請的另一個實施例中，如圖4所示，所述在所述玻璃基板上形成低輻射膜層包括：

s1022：利用化學氣相沉積法在所述玻璃基板表面依次形成內層介質膜、過度膜和功能膜。

需要說明的是，化學氣相沉積法(chemicalvapordeposition簡稱cvd)是指利用流經襯底表面的氣態(tài)物料的化學反應，生成固態(tài)物質，在襯底表面形成薄膜的方法。在線cvd法生產low-e玻璃是制備在線low-e的主要方法，在線高溫熱解沉積法，具體是在玻璃基板(浮法玻璃)冷卻過程中完成的。液體金屬或金屬粉末直接噴射到熱玻璃基板表面上，隨著玻璃基板的冷卻，金屬膜層成為low-e玻璃的一部分。

利用該方法制備的low-e玻璃的結構如圖5所示，包括：玻璃基板100、內層介質膜240、過度膜250和功能膜220，其中，內層介質膜240、過度膜250和功能膜220構成所述低輻射膜層200。

在上述實施例的基礎上，在本申請的又一個實施例中，所述預設波長為976nm±50nm，包括端點值。

所述預設波長可以實現(xiàn)選擇性處理，即預設波長的激光源斑可以實現(xiàn)透過介質膜或過度膜對功能膜進行表面改性處理，以提升所述功能膜的低輻射性能。在本申請的一個實施例中，所述預設波長優(yōu)選為976nm。

優(yōu)選的，所述激光光源出射的激光光斑為線形激光光斑。所述線形激光光斑的長度的取值范圍為150mm±50mm，包括端點值。所述線形激光光斑的寬度的取值范圍為1mm±1mm，包括端點值。

在本申請的其他實施例中，利用激光光斑對功能膜進行表面改性處理的其他條件可以為：功率為1100w(cw)、光斑大小為150mm×1mm、功率密度880w/cm²，工作距離200mm。

相應的，本申請實施例還提供了一種新型low-e玻璃，如圖3和圖5所示，所述low-e玻璃利用上述任一實施例所述的新型low-e玻璃的制備方法制備，包括：

玻璃基板100；

位于所述玻璃基板100表面的低輻射膜層200；

所述低輻射膜層200中的功能膜220為經過預設波長的激光光源處理后的功能膜220。

所述玻璃基板100可以是普通玻璃，也可以是鋼化玻璃，還可以是浮法玻璃，本申請對所述玻璃基板100的具體種類并不做限定，具體視實際情況而定。

在圖3中，所述low-e玻璃為離線low-e玻璃，在該種類low-e玻璃中，所述低輻射膜層200包括：第一介質膜210、功能膜220和第二介質膜230；

在圖5中，所述low-e玻璃為在線low-e玻璃，在該種類low-e玻璃中，所述低輻射膜層200包括：內層介質膜240、過度膜250和功能膜220。

在本實施例中，在low-e玻璃的基本結構形成后，利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層200中的功能膜220進行表面改性處理，以利用激光光斑使所述功能膜220產生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

需要說明的是，所述功能膜220的電阻值越低，代表low-e玻璃的低輻射特性越好，通過測試功能膜220的電阻值可以發(fā)現(xiàn)，在利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層200中的功能膜220進行表面改性處理后，其功能膜220的電阻值明顯降低，這意味著激光光源可以使功能膜220產生明顯的相變硬化現(xiàn)象。

綜上所述，本申請實施例提供了一種新型low-e玻璃及其制備方法，其中，所述新型low-e玻璃制備方法利用預設波長的激光光源對所述低輻射膜層中的功能膜進行表面改性處理，以利用激光光源使所述功能膜產生激光相變硬化現(xiàn)象，從而降低制備的low-e玻璃的輻射參數(shù)，提升low-e玻璃的低輻射特性，進而使得制備的low-e玻璃具有更加優(yōu)異的隔熱效果和良好的透光性。

本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。

對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業(yè)技術人員能夠實現(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領域的專業(yè)技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。