技術總結
本實用新型公開了一種PVD設備的反應氣體通入結構。在蒸發源法蘭上打孔，在外側焊接接氣扣，在真空室內側圍繞靶材焊接銅管；銅管上均勻打出氣孔，孔徑1mm；涂層設備在工作時，反應氣體通過銅管上的出氣孔孔通入真空室；反應氣體直接和靶材蒸發出來的金屬離子發生反應。由于直接通在每個蒸發源周圍，涂層的均勻性極大地提高；氣體會蒸發源周圍形成屏障，阻止大顆粒飛行到工件表面，從而極大地改善了涂層的致密性和涂層表面的粗糙度。

技術研發人員：盧國英;石昌侖;石武昌;蘭睿
受保護的技術使用者：常州夸克涂層科技有限公司
文檔號碼：201620704772
技術研發日：2016.07.05
技術公布日：2016.12.07