1.一種線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：包括架體和按處理順序依次設于架體上的物料擺放區、漂洗機、超聲波清洗機、第一等離子體清洗機、第二等離子體清洗機和真空等離子體刻蝕機，所述架體上沿處理順序方向還設有橫移模塊，所述橫移模塊上設有升降模塊，所述升降模塊上設有旋轉夾持機構，所述旋轉夾持機構上設有與其配合使用的組合托盤，所述第一等離子體清洗機和第二等離子體清洗機上方分別設有多個等離子體噴槍。
2.根據權利要求1所述的線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：所述架體上位于所述漂洗機、超聲波清洗機、第一等離子體清洗機和第二等離子體清洗機的正下方分別設有對應的廢水池。
3.根據權利要求1所述的線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：所述組合托盤包括固定支架、設于固定支架上部的夾持端頭和設于固定支架下部呈矩陣排列的鉤部。
4.根據權利要求1所述的線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：所述架體底部設有萬向輪。