技術總結
本實用新型公開了一種線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，依次通過噴淋清洗、超聲波清洗、等離子體清洗和等離子體滲氮完成處理工藝，其裝置包括架體和按處理順序依次設于架體上的物料擺放區(qū)、漂洗機、超聲波清洗機、第一等離子體清洗機、第二等離子體清洗機和真空等離子體刻蝕機，所述架體上沿處理順序方向還設有橫移模塊，所述橫移模塊上設有升降模塊，所述升降模塊上設有旋轉夾持機構，所述旋轉夾持機構上設有與其配合使用的組合托盤，所述第一等離子體清洗機和第二等離子體清洗機上方分別設有多個等離子體噴槍。本實用新型能夠徹底清除工件污染物，提高產品的綜合性能。

技術研發(fā)人員：劉鑫培;朱小剛;柳慧敏
受保護的技術使用者：蘇州創(chuàng)瑞機電科技有限公司
文檔號碼：201620732632
技術研發(fā)日：2016.07.13
技術公布日：2017.03.22