本實用新型涉及一種提高電容薄膜性能的鍍膜設備。

背景技術：

電容薄膜的鍍膜設備，通常包括箱體、鍍鼓、卷繞裝置與蒸發裝置，所述卷繞裝置包括放卷機構與收卷機構，所述放卷機構設置有放卷軸，所述收卷機構設置有收卷軸，所述放卷軸與收卷軸分別與鍍鼓呈平行設置，所述蒸發裝置包括鋁蒸發機構與鋅蒸發器。然而現有的電容薄膜的鍍膜設備，其放卷時膜不夠平整，從容影響了電容薄膜性能。

技術實現要素：

針對現有技術存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種結構簡單、提高電容薄膜性能的鍍膜設備。

為實現上述目的，本實用新型提供了如下技術方案：一種提高電容薄膜性能的鍍膜設備，包括箱體、鍍鼓、卷繞裝置與蒸發裝置，所述卷繞裝置包括放卷機構與收卷機構，所述放卷機構設置有放卷軸，所述收卷機構設置有收卷軸，所述放卷軸與收卷軸分別與鍍鼓呈平行設置，所述蒸發裝置包括鋁蒸發機構與鋅蒸發器，所述放卷軸與鍍鼓之間設置有第一展平輥、第二展平輥、油屏蔽管以及若干數量的放卷導輥，所述第一展平輥設置在靠近放卷導輥一側位置，所述第二展平輥設置在靠近鍍鼓一側位置，所述油屏蔽管置于第一展平輥與第二展平輥之間位置。

通過采用上述技術方案，使得膜能夠更加平整，并且經過油屏蔽管，使得后續的鍍膜更加均勻，提高了電容薄膜性能。

本實用新型進一步設置為：所述收卷軸與鍍鼓之間設置有第一收卷導輥、第二收卷導輥、第三收卷導輥以及壓臂，所述壓臂的一端與所述第一收卷導輥鉸接連接，所述第二收卷導輥與第三收卷導輥呈軸向與徑向定位、周向可轉動設置在所述壓臂上。

通過采用上述技術方案，能夠對壓臂進行擺動調節，使得收卷工作能夠更加順利的進行。

本實用新型進一步設置為：所述鋁蒸發機構包括用于盤繞鋁絲的鋁絲盤、用于蒸發鋁絲的鋁蒸發器以及將鋁絲由鋁絲盤送入鋁蒸發器的送鋁絲器，所述鋅蒸發器對應鍍鼓一側設置有將蒸發鋅噴出的噴鋅板，所述鋁蒸發器呈水平方向設置，所述鋅蒸發器的頂部向鋁蒸發器方向傾斜設置。

通過采用上述技術方案，使得蒸發鋁與蒸發鋅能夠更加均勻的鍍在膜上，從而提高了電容薄膜性能。

本實用新型進一步設置為：所述送鋁絲器包括送鋁絲管、上座與下座，所述下座上設置有主動轉軸，所述上座對應主動轉軸位置設置有與主動轉軸配合的摩擦輪，所述送鋁絲管的一端置于主動轉軸與摩擦輪之間的一側位置，所述上座與下座之間設置有摩擦力調節組件，所述摩擦力調節組件包括調節桿、彈簧以及調節螺母，所述調節桿的一端與下座固定連接，所述調節桿的另一端穿過所述上座與調節螺母螺紋配合連接，所述彈簧的兩端分別與調節螺母以及上座相抵設置。

通過采用上述技術方案，對調節螺母進行調節，使得摩擦輪與主動轉軸之間的摩擦力得到調節，從而使得送鋁絲工作能夠更加順利進行。

本實用新型進一步設置為：所述送鋁絲器還包括導軌與導座，所述下座與導座固定連接，所述導座可沿導軌滑動設置。

通過采用上述技術方案，使得送鋁絲器能夠相對鋁絲盤進行移動，從而進一步使得送鋁絲工作能夠更加順利進行。

下面結合附圖對本實用新型作進一步描述。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例結構圖；

圖2為本實用新型的卷繞裝置實施例結構圖；

圖3為本實用新型的蒸發裝置實施例結構圖；

圖4為本實用新型的送鋁絲器實施例結構圖。

具體實施方式

參見附圖1至圖4，本實用新型公開的提高電容薄膜性能的鍍膜設備，包括箱體1、鍍鼓2、卷繞裝置3與蒸發裝置4，所述卷繞裝置3包括放卷機構31與收卷機構32，所述放卷機構31設置有放卷軸311，所述收卷機構32設置有收卷軸321，所述放卷軸311與收卷軸321分別與鍍鼓2呈平行設置，所述蒸發裝置4包括鋁蒸發機構41與鋅蒸發器42，所述放卷軸311與鍍鼓2之間設置有第一展平輥312、第二展平輥313、油屏蔽管314以及若干數量的放卷導輥315，所述第一展平輥312設置在靠近放卷導輥315一側位置，所述第二展平輥313設置在靠近鍍鼓2一側位置，所述油屏蔽管314置于第一展平輥312與第二展平輥313之間位置。通過采用上述技術方案，使得膜能夠更加平整，并且經過油屏蔽管314，使得后續的鍍膜更加均勻，提高了電容薄膜性能。

本實施例進一步設置為：所述收卷軸321與鍍鼓2之間設置有第一收卷導輥322、第二收卷導輥323、第三收卷導輥324以及壓臂325，所述壓臂325的一端與所述第一收卷導輥322鉸接連接，所述第二收卷導輥323與第三收卷導輥324呈軸向與徑向定位、周向可轉動設置在所述壓臂325上。通過采用上述技術方案，能夠對壓臂325進行擺動調節，使得收卷工作能夠更加順利的進行。

本實施例進一步設置為：所述鋁蒸發機構41包括用于盤繞鋁絲的鋁絲盤411、用于蒸發鋁絲的鋁蒸發器412以及將鋁絲由鋁絲盤411送入鋁蒸發器412的送鋁絲器413，所述鋅蒸發器42對應鍍鼓2一側設置有將蒸發鋅噴出的噴鋅板421，所述鋁蒸發器412呈水平方向設置，所述鋅蒸發器42的頂部向鋁蒸發器412方向傾斜設置。通過采用上述技術方案，使得蒸發鋁與蒸發鋅能夠更加均勻的鍍在膜上，從而提高了電容薄膜性能。

本實施例進一步設置為：所述送鋁絲器413包括送鋁絲管4131、上座4132與下座4133，所述下座4133上設置有主動轉軸4134，所述上座4132對應主動轉軸4134位置設置有與主動轉軸4134配合的摩擦輪4135，所述送鋁絲管4131的一端置于主動轉軸4134與摩擦輪4135之間的一側位置，所述上座4132與下座4133之間設置有摩擦力調節組件，所述摩擦力調節組件包括調節桿4136、彈簧4137以及調節螺母4138，所述調節桿4136的一端與下座4133固定連接，所述調節桿4136的另一端穿過所述上座4132與調節螺母4138螺紋配合連接，所述彈簧4137的兩端分別與調節螺母4138以及上座4132相抵設置。通過采用上述技術方案，對調節螺母4138進行調節，使得摩擦輪4135與主動轉軸4134之間的摩擦力得到調節，從而使得送鋁絲工作能夠更加順利進行。

本實施例進一步設置為：所述送鋁絲器413還包括導軌4139與導座41310，所述下座4133與導座41310固定連接，所述導座41310可沿導軌4139滑動設置。通過采用上述技術方案，使得送鋁絲器413能夠相對鋁絲盤411進行移動，從而進一步使得送鋁絲工作能夠更加順利進行。