本發(fā)明涉及打磨拋光設備技術領域，具體而言，涉及一種打磨拋光裝置及打磨拋光的方法。

背景技術：

現(xiàn)有技術中，市面上成熟的打磨拋光機較少，而且大部分的打磨拋光機都采用硬限位安裝的方式進行安裝，使得在打磨拋光作業(yè)過稱中，打磨拋光壓力不恒定。進一步地，由于現(xiàn)有技術中，打磨拋光機采用硬限位的安裝方式，使得當需要被打磨拋光的工件在打磨拋光過程中，運送不到位，或是在打磨拋光過程中由于打磨拋光機和被打磨工件都處于固定的位置，在打磨拋光過程中由于工件不斷被打磨拋光會產(chǎn)生一定的磨損，繼而容易造成打磨拋光機與被打磨的工件的距離不斷增加，使得工件受到打磨拋光機提供的壓力不斷改變，從而影響工件打磨拋光的效果。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的在于提供一種打磨拋光裝置及打磨拋光的方法，以解決現(xiàn)有技術中打磨拋光機壓力不恒定的問題。

為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種打磨拋光裝置，包括：支撐部；打磨拋光部，用于對工件進行打磨拋光，打磨拋光部可活動地設置于支撐部上，打磨拋光部可根據(jù)其受到的工件的作用力而調(diào)整與支撐部的相對位置，以使打磨拋光部接觸工件進行打磨拋光。

進一步地，打磨拋光部包括：驅(qū)動部，驅(qū)動部與支撐部相連接；打磨拋光件，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件在支撐部上往復運動。

進一步地，打磨拋光件具有第一打磨拋光位置和第二打磨拋光位置，驅(qū)動部的推力為F1，打磨拋光件與工件接觸時受到工件的力為F2，當F1＜F2時，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件沿第一方向運動至第一打磨拋光位置，當F1≥F2時，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件沿與第一方向相反的第二方向運動至第二打磨拋光位置。

進一步地，支撐部包括：支撐架，驅(qū)動部與支撐架相連接；導軌，設置于支撐架上，打磨拋光件與導軌相連接，驅(qū)動部可驅(qū)動打磨拋光件沿導軌的長度方向滑動。

進一步地，支撐部還包括：支撐板，支撐板與導軌相連接，支撐板可相對導軌做相對運動，打磨拋光件設置于支撐板上，驅(qū)動部的驅(qū)動軸與支撐板相連接，驅(qū)動部通過驅(qū)動支撐板以使打磨拋光件滑動。

進一步地，打磨拋光裝置包括：打磨拋光件，打磨拋光件具有第一打磨拋光位置和第二打磨拋光位置；彈性件，彈性件的一端與支撐部相連接，彈性件的另一端與打磨拋光件相連接，彈性件朝向打磨拋光件施加預緊力以使打磨拋光件位于第一打磨拋光位置。

進一步地，預緊力為F3，打磨拋光件與工件接觸時受到工件的力為F2，當F3≥F2時，彈性件使打磨拋光件沿第三方向運動至第一打磨拋光位置，當F3＜F2時，彈性件使打磨拋光件沿與第三方向相反的第四方向運動至第二打磨拋光位置。

進一步地，打磨拋光件與支撐部可拆卸地設置，使打磨拋光件在支撐部具有第一安裝位置和第二安裝位置。

進一步地，打磨拋光裝置還包括：氣體過濾器，氣體過濾器設置于支撐部上。

進一步地，打磨拋光件包括：本體；打磨拋光頭，可轉(zhuǎn)動地設置于本體上。

進一步地，打磨拋光頭為多個，多個打磨拋光頭對稱地設置于本體上。

進一步地，打磨拋光頭呈圓盤結構。

進一步地，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件以使本體帶動圓盤結構沿圓盤結構的軸向方向移動，或者，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件以使本體帶動圓盤結構沿圓盤結構的徑向方向移動。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種打磨拋光的方法，方法采用上述的打磨拋光裝置進行打磨拋光，方法包括以下步驟：設定打磨拋光裝置的驅(qū)動部的推力為F1；將打磨拋光裝置的打磨拋光部對待打磨拋光的工件進行打磨拋光，打磨拋光件與工件接觸時受到工件的力為F2，當F1＜F2時，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件沿第一方向運動至第一打磨拋光位置，當F1≥F2時，驅(qū)動部驅(qū)動打磨拋光件沿與第一方向相反的第二方向運動至第二打磨拋光位置。

應用本發(fā)明的技術方案，采用打磨拋光部可活動地設置在支撐部上的方式，且在打磨拋光的過程中，打磨拋光部可根據(jù)受到工件的力調(diào)整打磨拋光部在支撐部上的打磨位置，以使打磨拋光部始終緊貼工件進行打磨拋光作業(yè)。該打磨拋光裝置取消了采用現(xiàn)有技術中硬限位的安裝方式，使得該打磨拋光部在打磨作業(yè)中可以通過調(diào)整自身的打磨位置以使打磨拋光裝置始終緊貼工件進行打磨拋光作業(yè)，保證了被打磨拋光的工件始終處于在一定恒力的作用下進行打磨拋光作業(yè)，提高了該打磨拋光裝置的打磨拋光效果。

附圖說明

構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的打磨拋光裝置的實施例的結構示意圖；

圖2示出了圖1中的打磨拋光裝置的實施例的另一視角的結構示意圖；

圖3示出了圖2中的A-A向的剖視結構示意圖；

圖4示出了圖3中的B-B向的剖視結構示意圖。

其中，上述附圖包括以下附圖標記：

10、支撐部；11、支撐架；12、導軌；13、支撐板；14、滑塊；20、打磨拋光部；21、驅(qū)動部；22、打磨拋光件；221、本體；222、打磨拋光頭；30、氣體過濾器；40、支撐板法蘭；50、氣缸固定板。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發(fā)明。

需要注意的是，這里所使用的術語僅是為了描述具體實施方式，而非意圖限制根據(jù)本申請的示例性實施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復數(shù)形式，此外，還應當理解的是，當在本說明書中使用術語“包含”和/或“包括”時，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。

需要說明的是，本申請的說明書和權利要求書及上述附圖中的術語“第一”、“第二”等是用于區(qū)別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應該理解這樣使用的術語在適當情況下可以互換，以便這里描述的本申請的實施方式例如能夠以除了在這里圖示或描述的那些以外的順序?qū)嵤４送猓g語“包括”和“具有”以及他們的任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒有清楚地列出的或?qū)τ谶@些過程、方法、產(chǎn)品或設備固有的其它步驟或單元。

為了便于描述，在這里可以使用空間相對術語，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用來描述如在圖中所示的一個器件或特征與其他器件或特征的空間位置關系。應當理解的是，空間相對術語旨在包含除了器件在圖中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為“在其他器件或構造上方”或“在其他器件或構造之上”的器件之后將被定位為“在其他器件或構造下方”或“在其他器件或構造之下”。因而，示例性術語“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方位)，并且對這里所使用的空間相對描述作出相應解釋。

現(xiàn)在，將參照附圖更詳細地描述根據(jù)本申請的示例性實施方式。然而，這些示例性實施方式可以由多種不同的形式來實施，并且不應當被解釋為只限于這里所闡述的實施方式。應當理解的是，提供這些實施方式是為了使得本申請的公開徹底且完整，并且將這些示例性實施方式的構思充分傳達給本領域普通技術人員，在附圖中，為了清楚起見，有可能擴大了層和區(qū)域的厚度，并且使用相同的附圖標記表示相同的器件，因而將省略對它們的描述。

結合圖1至圖4所示，根據(jù)本發(fā)明的實施例，提供了一種打磨拋光裝置。

具體地，該打磨拋光裝置包括支撐部10和打磨拋光部20。打磨拋光部20用于對工件進行打磨拋光，打磨拋光部20可活動地設置于支撐部10上，打磨拋光部20可根據(jù)其受到的工件的作用力而調(diào)整與支撐部10的相對位置，以使打磨拋光部20接觸工件進行打磨拋光。

在本實施例中，采用打磨拋光部可活動地設置在支撐部上的方式，且在打磨拋光的過程中，打磨拋光部可根據(jù)受到工件的力調(diào)整打磨拋光部在支撐部上的打磨位置，以使打磨拋光部始終緊貼工件進行打磨拋光作業(yè)。該打磨拋光裝置取消了采用現(xiàn)有技術中硬限位的安裝方式，使得該打磨拋光部在打磨作業(yè)中可以通過調(diào)整自身的打磨位置以使打磨拋光裝置始終緊貼工件進行打磨拋光作業(yè)，保證了被打磨拋光的工件始終處于在一定恒力的作用下進行打磨拋光作業(yè)，提高了該打磨拋光裝置的打磨拋光效果。

如圖1所示，打磨拋光部20包括驅(qū)動部21和打磨拋光件22。驅(qū)動部21與支撐部10相連接。驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22在支撐部10上往復運動。這樣設置能夠保證打磨拋光件22能夠可活動地在支撐部10上往復運動，有效地提高了打磨拋光件22的靈活性，使得打磨拋光件22可以根據(jù)自身的受力情況對打磨工件進行恒力補償，有效地增加了該打磨拋光裝置的實用性和可靠性。

其中，打磨拋光件22具有第一打磨拋光位置和第二打磨拋光位置。當驅(qū)動部21的推力為F1，打磨拋光件22與工件接觸時受到工件的力為F2，且當F1＜F2時，驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22沿第一方向運動至第一打磨拋光位置，當F1≥F2時，驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22沿與第一方向相反的第二方向運動至第二打磨拋光位置。這樣設置能夠使得打磨拋光件22能夠根據(jù)自身驅(qū)動部輸出的推力的大小和受到工件的力的大小進行恒力補償，使得打磨拋光件22在打磨拋光的工程中始終與工件貼合，采用該打磨拋光裝置打磨出來的工件效果好，使得工件的打磨面不會出現(xiàn)漏打或是少打或是打磨不均的以及打磨力度不到位而影響工件質(zhì)量的情況。

具體地，支撐部10包括支撐架11和導軌12。驅(qū)動部21與支撐架11相連接。導軌12設置于支撐架11上，打磨拋光件22與導軌12相連接，驅(qū)動部21可驅(qū)動打磨拋光件22沿導軌12的長度方向滑動。這樣設置能夠有效地增加打磨拋光件22在支撐架11上移動時的穩(wěn)定性。

為了進一步地提高打磨拋光件22在支撐架11上移動時的穩(wěn)定性，支撐部10還包括支撐板13。支撐板13與導軌12相連接，支撐板13可相對導軌12做相對運動，打磨拋光件22設置于支撐板13上，驅(qū)動部21的驅(qū)動軸與支撐板13相連接，驅(qū)動部21通過驅(qū)動支撐板13以使打磨拋光件22滑動。

如圖2至圖4所示，為了減小支撐板13與導軌12的接觸面積，可以在支撐板13的底部設置滑塊14，其中，導軌12設置成兩個，兩個導軌12相互平行地設置于支撐架11的頂部。優(yōu)選地，驅(qū)動部21為氣缸。為了進一步提高氣缸的穩(wěn)定性，在支撐板13上設置了氣缸固定板50，其中，在氣缸的活塞桿的一端設置了支撐板法蘭40，支撐板法蘭40與支撐板13相連接，通過控制氣缸的活塞桿驅(qū)動支撐板法蘭40以使支撐板13在導軌12上滑動，繼而達到驅(qū)動打磨拋光件22移動的目的。

在本實施例中，打磨拋光件22與支撐部10可拆卸地設置，使打磨拋光件22在支撐部10具有第一安裝位置和第二安裝位置。如圖1所示，可以將該打磨拋光件22沿導軌12的軸線方向設置，此時打磨拋光件22的軸線與導軌12的軸線相平行，此時，打磨拋光件22位于第一安裝位置。當然，也可以將打磨拋光件22的軸線設置成與導軌12的軸線相垂直的安裝方式，此時，打磨拋光件22位于第二安裝位置。

具體地，打磨拋光件22包括本體221和打磨拋光頭222。打磨拋光頭222可轉(zhuǎn)動地設置于本體221上。打磨拋光頭222為多個，多個打磨拋光頭222對稱地設置于本體221上。其中，如圖1至圖4所示，均示出了具有兩個打磨拋光頭222的實施例。

進一步地，打磨拋光頭222可以是呈圓盤結構。驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22以使本體221帶動圓盤結構沿圓盤結構的軸向方向移動，或者，驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22以使本體221帶動圓盤結構沿圓盤結構的徑向方向移動。即采用該設置方式還可以使得該打磨拋光裝置能夠?qū)崿F(xiàn)軸向打磨功能和徑向打磨功能，進一步地增加了該打磨拋光裝置的實用性，提高了該打磨拋光裝置的打磨拋光質(zhì)量。

根據(jù)本申請的另一個實施例，可以將驅(qū)動部設置成具有彈性功能的彈性件或是伺服電機。具體地，打磨拋光裝置包括打磨拋光件22和彈性件。打磨拋光件22具有第一打磨拋光位置和第二打磨拋光位置。彈性件的一端與支撐部10相連接，彈性件的另一端與打磨拋光件22相連接，彈性件朝向打磨拋光件22施加預緊力以使打磨拋光件22位于第一打磨拋光位置。其中，預緊力記為F3，打磨拋光件22與工件接觸時受到工件的力為F2，當F3≥F2時，彈性件使打磨拋光件22沿第三方向運動至第一打磨拋光位置，當F3＜F2時，彈性件使打磨拋光件22沿與第三方向相反的第四方向運動至第二打磨拋光位置。這樣設置同樣使得該打磨拋光裝置能夠?qū)崿F(xiàn)恒力補償?shù)拇蚰伖庾饔谩?/p>

為了進一步地提高該打磨拋光裝置的打磨拋光質(zhì)量，在支撐架上還設置了起到過濾管路中雜質(zhì)作用的氣體過濾器30。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種打磨拋光的方法，該方法采用上述實施例中的打磨拋光裝置進行打磨拋光。具體地，該方法包括以下步驟：設定打磨拋光裝置的驅(qū)動部21的推力為F1；將打磨拋光裝置的打磨拋光部20對待打磨拋光的工件進行打磨拋光，打磨拋光件22與工件接觸時受到工件的力為F2，當F1＜F2時，驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22沿第一方向運動至第一打磨拋光位置，當F1≥F2時，驅(qū)動部21驅(qū)動打磨拋光件22沿與第一方向相反的第二方向運動至第二打磨拋光位置。該打磨拋光方法中的打磨拋光裝置，采用打磨拋光部可活動地設置在支撐部上的方式，且在打磨拋光的過程中，打磨拋光部可根據(jù)受到工件的力調(diào)整打磨拋光部在支撐部上的打磨位置，以使打磨拋光部始終緊貼工件進行打磨拋光作業(yè)。該打磨拋光裝置取消了采用現(xiàn)有技術中硬限位的安裝方式，使得該打磨拋光部在打磨作業(yè)中可以通過調(diào)整自身的打磨位置以使打磨拋光裝置始終緊貼工件進行打磨拋光作業(yè)，保證了被打磨拋光的工件始終處于在一定恒力的作用下進行打磨拋光作業(yè)，提高了該打磨拋光裝置的打磨拋光效果。

具體地，該打磨拋光裝置在組裝時，首先將直線導軌即導軌12與拋光機底座即支撐架固定起來，然后將支撐板安裝在直線導軌上，接著將氣缸與支撐板法蘭以及氣缸固定板連接起來，最后完成安裝。

該打磨拋光裝置在工作時，打磨壓力會作用在拋光機打磨頭即打磨拋光頭上，由于拋光機連接在氣缸上，若壓力超過或者明顯小于氣缸的壓力閥值，拋光機即打磨拋光件都可以在直線導軌上滑動，以實現(xiàn)壓力補償，保證打磨壓力恒定。安裝時，只需將拋光機旋轉(zhuǎn)90度安裝，即可實現(xiàn)第一安裝位置和第二安裝位置的切換。其中，打磨圓盤可以是布輪或者尼龍輪。

氣缸復位是通過氣缸本身的通產(chǎn)生的力復位的，該打磨拋光裝置的工作原理為：開啟設備，拋光機不打磨產(chǎn)品不受力的情況下，由于氣缸通氣初始狀態(tài)下有力(比如通過調(diào)壓閥將氣缸推力調(diào)至50N)，這50N的力會將拋光機推到最遠處(比如氣缸行程為50mm，那此時活塞就在50mm的位置)，當拋光機工作時給予拋光機緩沖方向超過氣缸推力(50N)的力的時候，由于氣缸推力比外力要小，活塞桿就會被推回去。被推回去的行程就是氣缸的行程(50mm)，只要拋光機受力位置偏差小于50mm，那么由于氣缸推力一直存在，會將拋光機一直以50N的力頂住，也就是在氣缸0-50mm行程內(nèi)，始終能依靠自身活塞桿的壓力使拋光機以50N的壓力貼緊工件。這樣這套打磨系統(tǒng)就能通過調(diào)壓閥調(diào)整打磨所需要的拋光機與工件在打磨時需要的壓力，并在做任何路徑的時候一直保持此壓力，保證打磨產(chǎn)品表面的一致性。

除上述以外，還需要說明的是在本說明書中所談到的“一個實施例”、“另一個實施例”、“實施例”等，指的是結合該實施例描述的具體特征、結構或者特點包括在本申請概括性描述的至少一個實施例中。在說明書中多個地方出現(xiàn)同種表述不是一定指的是同一個實施例。進一步來說，結合任一實施例描述一個具體特征、結構或者特點時，所要主張的是結合其他實施例來實現(xiàn)這種特征、結構或者特點也落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。

在上述實施例中，對各個實施例的描述都各有側(cè)重，某個實施例中沒有詳述的部分，可以參見其他實施例的相關描述。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領域的技術人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。