技術特征：

技術總結
本發明涉及一種鍍膜系統及鍍膜方法，鍍膜系統包括基板、位于基板下方的鍍膜源、第一膜厚監控裝置和第二膜厚監控裝置，第一膜厚監控裝置位于基板與鍍膜源之間，第二膜厚監控裝置鄰近基板。兩個膜厚監控裝置可協同工作，提升了設備的穩定性和可靠性。第二膜厚監控裝置鄰近基板，其獲取的鍍膜速率及膜厚值與基板上的真實值相當接近，即修正因子近似為100％，具有修正誤差小的優點，由此可在需要時采用第二膜厚監控裝置來檢查并校正第一膜厚監控裝置；此校正方法雖不能完全代替制備樣品測試膜厚進行校正的傳統方法，但是可以大大減少采用傳統方式進行校準的頻率，不但節省了制作樣品及測試膜厚的時間，還節省了原材料開支。

技術研發人員：茆勝
受保護的技術使用者：茆勝
技術研發日：2017.05.22
技術公布日：2017.10.24