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一種AMOLED屏導電氧化物復合膜材料的制備方法與流程

文檔序號:12030456閱讀:298來源:國知局

本發明涉及液晶顯示屏技術領域,具體涉及一種amoled屏導電氧化物復合膜材料的制備方法。



背景技術:

透明導電氧化物(tco)薄膜是功能薄膜材料中比較有特色的一類薄膜,具有在可見光區透明、電阻率低等優異的光電性能,被廣泛應用于各種光電器件中,例如:平面液晶顯示器、太陽能電池、節能視窗、反射熱鏡、氣體敏感器件、以及光電子、微電子、真空電子器件等領域。tco材料的電學和光學性能的改善將大幅度提高上述器件的效率和性能。

當選擇一個tco電極做光伏器件的時候,除了要考慮它的傳統的光透明和良好的電導率的特性以外,無毒、低成本和容易工業規模生產等其它特性也都必須考慮。此外,每一種光伏技術的使用都可以獲得某種特殊的性能,例如在一定過程下具有熱穩定性高、化學穩定性好、表面電化學性能優異或者室溫的可能性制作。由于這個原因,盡管tco在相當長的一段時間里已經被認識和使用,但是對這些材料的研究仍然很活躍,目的是改善它們的性能。

室溫制作和耐熱性這兩個特性對于tco電極來說都非常重要。此外,新一代的光伏器件,比如dssc或者有機太陽能電池的發展也要依賴基于tco的新電極的研發,即新電極在高溫制備工藝下必須能夠保持良好的透明度和電導率。這是因為在染料敏化太陽能電池中,通常情況下,納米晶tio2覆蓋在導電基材上,然后在450-500℃下進行燒結,這樣不僅是為了改善tio2粒子和導電基材之間的電接觸性能,而且也改善了tio2粒子之間的電接觸性能。但是在燒結過程中會出現燒結溫度與透明導電薄膜的耐熱性之間的矛盾。不幸的是,最廣為人知的tco材料的電導率或者ito(錫摻雜氧化銦)在這些苛刻條件下會降低。因此,我們的研究內容就是制備復合膜電極,是基于azo、ito和其他比如sno、fto(氟摻雜氧化錫)、ato)、nto(鈮摻雜二氧化鈦)幾個組合,像sno2/ito,fto/ito,ito/nto,ito/ato等復合電極,以此來改善熱穩定性和其他性能。



技術實現要素:

本發明旨在提供了一種amoled屏導電氧化物復合膜材料的制備方法。

本發明提供如下技術方案:

一種amoled屏導電氧化物復合膜材料的制備方法,包括以下步驟:

(1)將amoled玻璃基板置于乳液體系中進行超聲清洗15-25min;

(2)將上述超聲清洗后的amoled玻璃基板安裝到濺射腔內,通過抽真空,使濺射腔的背底真空度小于1.0×10-3pa;

(3)向濺射室中充入濺射氣體,調整氣體流量,使氧氣和氬氣的分壓比為10-2數量級,總壓力為0.5-1.5pa,濺射功率為90-300w,amoled玻璃基板溫度為室溫,濺射時間為30-90min;

(4)調整氣體流量,使氧氣和氬氣的分壓比為10-1數量級,總壓力為0.5-1.5pa,濺射功率為50-200w,基板溫度為室溫,濺射時間為30-60min;濺射后最終制得透明導電氧化物復合薄膜。

所述乳液體系由極性溶劑、非極性溶劑、表面活性劑和添加劑按3:2:3組成。

所述乳液體系中非極性溶劑為苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二氯甲烷、環己烷、己烷等與極性溶劑不相溶的非極性溶劑中的任一種或多種。

所述乳液體系中表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基硫酸鈉、雙琥珀酸磺酸鈉、四丁基溴化銨、蓖麻油聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯、曲拉通、吐溫等可形成水包油型乳液的表面活性劑中的任一種或多種。

與現有技術相比,本發明的有益效果是:本發明通過射頻磁控濺射法方法生長兩層復合薄膜,即在氬氣和氧氣氛圍中射頻濺射azo靶材制備底層薄層,射頻濺射ato靶材制備表面層薄膜,復合薄膜的制備要在有氧氣的氛圍下進行濺射以提高薄膜透光率和電阻率,在適量的氧分壓下,薄膜的透光率和電阻率會有很大的改善,制成的導電基板的復合透明導電膜具有厚度均勻性好、高的熱穩定性,高溫下光電性能穩定,與玻璃基材結合牢固等優點。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。

實施例一種amoled屏導電氧化物復合膜材料的制備方法,包括以下步驟:

(1)將amoled玻璃基板置于乳液體系中進行超聲清洗15-25min;

(2)將上述超聲清洗后的amoled玻璃基板安裝到濺射腔內,通過抽真空,使濺射腔的背底真空度小于1.0×10-3pa;

(3)向濺射室中充入濺射氣體,調整氣體流量,使氧氣和氬氣的分壓比為10-2數量級,總壓力為0.5-1.5pa,濺射功率為90-300w,amoled玻璃基板溫度為室溫,濺射時間為30-90min;

(4)調整氣體流量,使氧氣和氬氣的分壓比為10-1數量級,總壓力為0.5-1.5pa,濺射功率為50-200w,基板溫度為室溫,濺射時間為30-60min;濺射后最終制得透明導電氧化物復合薄膜。

所述乳液體系由極性溶劑、非極性溶劑、表面活性劑和添加劑按3:2:3組成。

所述乳液體系中非極性溶劑為苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二氯甲烷、環己烷、己烷等與極性溶劑不相溶的非極性溶劑中的任一種或多種。

所述乳液體系中表面活性劑為十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基硫酸鈉、雙琥珀酸磺酸鈉、四丁基溴化銨、蓖麻油聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯、曲拉通、吐溫等可形成水包油型乳液的表面活性劑中的任一種或多種。

對于本領域技術人員而言,顯然本發明不限于所述示范性實施例的細節,而且在不背離本發明的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實現本發明。因此,無論從哪一點來看,均應將實施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本發明的范圍由所附權利要求而不是所述說明限定,因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本發明內。此外,應當理解,雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領域技術人員應當將說明書作為一個整體,各實施例中的技術方案也可以經適當組合,形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。



技術特征:

技術總結
本發明公開了一種AMOLED屏導電氧化物復合膜材料的制備方法,包括以下步驟:(1)將AMOLED玻璃基板置于乳液體系中進行超聲清洗15?25min;(2)將上述超聲清洗后的AMOLED玻璃基板安裝到濺射腔內,通過抽真空,使濺射腔的背底真空度小于1.0×10?3Pa;(3)向濺射室中充入濺射氣體,調整氣體流量,使氧氣和氬氣的分壓比為10?2數量級,總壓力為0.5?1.5Pa,濺射功率為90?300W,AMOLED玻璃基板溫度為室溫,濺射時間為30?90min;(4)調整氣體流量,使氧氣和氬氣的分壓比為10?1數量級,總壓力為0.5?1.5Pa,濺射功率為50?200W,基板溫度為室溫,濺射時間為30?60min;濺射后最終制得透明導電氧化物復合薄膜。

技術研發人員:白航空
受保護的技術使用者:合肥市惠科精密模具有限公司
技術研發日:2017.06.19
技術公布日:2017.10.24
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