本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備和系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在基板上形成有機(jī)發(fā)光二級(jí)管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件通常采用蒸鍍工藝，具體地，是在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料，使蒸鍍材料升華成原子、分子或原子團(tuán)組成的蒸氣，然后凝結(jié)在基板表面成膜，從而形成OLED器件的功能層。

經(jīng)發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)中，在對(duì)真空條件下進(jìn)行材料蒸鍍時(shí)，存在能源浪費(fèi)和電源控制系統(tǒng)成本較高的問(wèn)題，除此之外，現(xiàn)有的蒸鍍?cè)O(shè)備無(wú)法實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸鍍過(guò)程的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和蒸鍍控制。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種蒸鍍?cè)O(shè)備和系統(tǒng)，通過(guò)對(duì)蒸鍍?cè)O(shè)備的巧妙設(shè)計(jì)，能夠提高蒸鍍效率，降低能源消耗，同時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)控。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

一種蒸鍍?cè)O(shè)備，所述蒸鍍?cè)O(shè)備包括反光罩、加熱絲和設(shè)備本體，所述設(shè)備本體包括底座和兩端開(kāi)口的中空加熱室，所述加熱室上開(kāi)設(shè)有第一通孔；

所述底座與所述加熱室的一端連接，所述反光罩套設(shè)于所述加熱室，且所述第一通孔暴露于所述反光罩外，所述加熱絲設(shè)置于所述加熱室。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述反光罩包括兩端開(kāi)口的中空罩體和支架，所述支架與所述罩體的一端連接。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述設(shè)備本體還包括開(kāi)設(shè)有多個(gè)第二通孔的蓋體，所述蓋體安裝于遠(yuǎn)離所述底座的所述加熱室的一端。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述加熱絲繞設(shè)于所述加熱室的外部。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述加熱室的外壁開(kāi)設(shè)有用于放置所述加熱絲的凹槽。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述底座設(shè)置有第三通孔，所述加熱絲繞設(shè)于所述加熱室的內(nèi)壁，且通過(guò)所述第二通孔延伸至所述加熱室外。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述加熱絲內(nèi)嵌于所述加熱室的側(cè)壁，且所述加熱絲的兩端穿透所述側(cè)壁，并延伸至所述加熱室外。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述底座設(shè)置有加熱絲。

在本實(shí)用新型實(shí)施例較佳的選擇中，上述所述加熱絲為鎢絲。

一種蒸鍍系統(tǒng)，所述蒸鍍系統(tǒng)包括監(jiān)控設(shè)備和上述所述的蒸鍍?cè)O(shè)備，所述監(jiān)控設(shè)備包括檢測(cè)探頭，所述檢測(cè)探頭設(shè)置于所述第一通孔處。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的蒸鍍?cè)O(shè)備和系統(tǒng)，通過(guò)對(duì)該蒸鍍?cè)O(shè)備的巧妙設(shè)計(jì)，能夠提高蒸鍍效率，降低能源消耗，同時(shí)，可實(shí)現(xiàn)蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)控，且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于操作。

進(jìn)一步地，通過(guò)在蒸鍍?cè)O(shè)備上設(shè)計(jì)帶有小孔的蓋體，能夠有效避免蒸鍍過(guò)程中由于材料受熱而噴出加熱室，進(jìn)而導(dǎo)致蒸鍍材料浪費(fèi)的問(wèn)題。

為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說(shuō)明如下。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本實(shí)用新型的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對(duì)范圍的限定，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1A為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖1B為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為圖1中所示的反光罩的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的設(shè)備本體與加熱絲的位置關(guān)系示意圖。

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的設(shè)備本體與加熱絲的另一位置關(guān)系示意圖。

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的設(shè)備本體與加熱絲的又一位置關(guān)系示意圖。

圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的另一結(jié)構(gòu)示意圖。

圖標(biāo)：100-蒸鍍?cè)O(shè)備；110-反光罩；112-罩體；114-支架；120-設(shè)備本體；122-加熱室；1222-第一通孔；124-底座；130-加熱絲；140-蓋體；142-第二通孔。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例只是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和示出的本實(shí)用新型實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來(lái)布置和設(shè)計(jì)。

因此，以下對(duì)在附圖中提供的本實(shí)用新型的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍，而是僅僅表示本實(shí)用新型的選定實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類(lèi)似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。在本實(shí)用新型的描述中，術(shù)語(yǔ)“第一、第二、第三、第四等僅用于區(qū)分描述，而不能理解為只是或暗示相對(duì)重要性。

在本實(shí)用新型的描述中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“設(shè)置”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。

請(qǐng)結(jié)合參閱圖1A和圖1B，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備100，主要用于熱蒸發(fā)真空鍍膜。其中，該蒸鍍?cè)O(shè)備100包括反光罩110、設(shè)備本體120和加熱絲130，所述設(shè)備本體120包括底座124和兩端開(kāi)口的中空加熱室122，所述加熱室122上開(kāi)設(shè)有第一通孔1222，所述底座124與所述加熱室122的一端連接，所述反光罩110套設(shè)于所述加熱室122，所述第一通孔1222暴露于所述反光罩110外，所述加熱絲130設(shè)置于所述加熱室122。

具體地，在蒸鍍過(guò)程中，所述反光罩110用于對(duì)所述加熱絲130產(chǎn)生的熱量進(jìn)行反射、使得熱量再次聚集至所述加熱室122，以提高蒸鍍過(guò)程中熱量的利用率。可選地，如圖2所示，所述反光罩110包括罩體112和支架114，所述罩體112為兩端開(kāi)口的中空結(jié)構(gòu)，所述支架114設(shè)置于該罩體112的一端。

可選地，在實(shí)際實(shí)施時(shí)，所述反光罩110套設(shè)于所述設(shè)備本體120，且所述罩體112與所述設(shè)備本體120之間可間隔設(shè)置。其中，所述反光罩110和所述設(shè)備本體120之間可采用固定式或可拆卸式連接，也可直接套設(shè)于所述設(shè)備本體120外，以便于在實(shí)際應(yīng)用中對(duì)所述反光罩110進(jìn)行靈活選用。

可選地，所述罩體112的內(nèi)表面可采用反光材料制成，以保證蒸鍍過(guò)程中的熱量最大范圍的反射至所述設(shè)備本體120。應(yīng)理解，所述反光罩110的形狀、材料、大小在此均不作限制。

可選地，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述支架114可以是，但不限于如圖2所示的三角支架114。

進(jìn)一步地，所述設(shè)備本體120用于放置蒸鍍材料并對(duì)其進(jìn)行加熱，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述設(shè)備本體120包括底座124和兩端開(kāi)口的中空加熱室122，所述底座124安裝于所述加熱室122的一端。在開(kāi)始蒸鍍時(shí)，所述蒸鍍材料通過(guò)遠(yuǎn)離所述底座124的一端加入所述加熱室122。其中，所述底座124與所述加熱室122的一端無(wú)縫安裝，所述無(wú)縫安裝的方式可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行靈活選擇，如一體成型、可拆式安裝等。

可選地，在實(shí)際實(shí)施時(shí)，所述加熱室122的尺寸大小、形狀均可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行靈活設(shè)計(jì)。其中，所述加熱室122采用耐高溫材料制成，如石英、氮化硼等。在實(shí)際實(shí)施時(shí)，所述加熱室122的材料可根據(jù)待蒸鍍材料進(jìn)行靈活選擇。

進(jìn)一步地，通過(guò)所述蒸鍍?cè)O(shè)備100對(duì)蒸鍍材料進(jìn)行加熱的過(guò)程中，采用所述加熱絲130加熱的方式實(shí)現(xiàn)。所述加熱絲130設(shè)置于所述加熱室122，其中，所述加熱絲130與所述加熱室122之間的位置關(guān)系根據(jù)實(shí)際過(guò)程中對(duì)蒸鍍材料的選擇以及其他因素大體分為以下幾種。

(1)所述加熱絲130繞設(shè)于所述加熱室122的外部。

具體地，在進(jìn)行金屬等材料的蒸鍍時(shí)，為避免蒸鍍過(guò)程中，可能發(fā)生蒸鍍材料與所述加熱絲130之間粘連等情況，從而造成加熱絲130的損壞等問(wèn)題出現(xiàn)，因此，如圖3所示，所述加熱絲130可均勻繞設(shè)于所述加熱室122的外表面，以避免所述加熱絲130與所述蒸鍍材料不發(fā)生直接接觸，例如，所述加熱絲130呈“Z”字形繞設(shè)于所述加熱絲130的外表面。

可選地，為保證所述加熱絲130與所述加熱室122外表面的充分接觸，以及二者之間的位置相對(duì)固定，所述加熱室122的外壁可開(kāi)設(shè)用于放置所述加熱絲130的凹槽。

(2)所述加熱絲130繞設(shè)于所述加熱室122的內(nèi)壁。

具體地，如圖4所示(圖4b為圖4a的剖面結(jié)構(gòu)示意圖)，當(dāng)蒸鍍材料為有機(jī)材料時(shí)，為了充分利用所述加熱絲130發(fā)出的熱量，所述加熱絲130可均勻設(shè)置于所述加熱室122的內(nèi)壁，并與蒸鍍材料直接接觸，其中，所述底座124設(shè)置有第三通孔，所述加熱絲130繞設(shè)于所述加熱室122的內(nèi)壁，且通過(guò)所述第三通孔延伸至所述加熱室122外。應(yīng)注意，所述第三通孔的位置可以位于，但不限于所述底座124。

(3)所述加熱絲130內(nèi)嵌于所述加熱室122的側(cè)壁。

具體地，如圖5所示(圖5b為圖5a的剖面結(jié)構(gòu)示意圖)，若在加熱過(guò)程中，對(duì)蒸鍍材料的受熱均勻度要求較高，所述加熱絲130可內(nèi)嵌于所述加熱室122的側(cè)壁，且所述加熱絲130的兩端穿透所述側(cè)壁，并延伸至所述加熱室122外。例如，當(dāng)所述加熱室122為陶瓷材料制備，可將所述加熱絲130燒結(jié)在所述加熱室122的側(cè)壁內(nèi)部，使得所述加熱絲130與所述加熱室122的側(cè)壁充分接觸，同時(shí)，將所述加熱絲130內(nèi)嵌于所述加熱室122側(cè)壁的方式也進(jìn)一步地增強(qiáng)了所述加熱絲130與所述加熱室122之間的牢固性。

應(yīng)理解，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述加熱絲130與所述加熱室122的實(shí)際設(shè)置位置可以是，但不限于上述所述(1)-(3)中任一種。在實(shí)際實(shí)施時(shí)，所述加熱絲130也可對(duì)所述設(shè)備本體120起到支撐作用。

進(jìn)一步地，為了增大所述加熱絲130與所述設(shè)備本體120的接觸面積，提高蒸鍍效率，保證加熱室122內(nèi)部的蒸鍍材料受熱均勻，所述底座124上也可均勻的設(shè)置有加熱絲130。其中，設(shè)置于所述底座124上的所述加熱絲130與設(shè)置于所述加熱室122的所述加熱絲130可以為一體成型，也可分別獨(dú)立設(shè)置。

進(jìn)一步地，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述加熱絲130可以是，但不限于為鎢絲，所述加熱絲130可根據(jù)加熱過(guò)程中的實(shí)際溫度需求以及發(fā)熱速度等情況進(jìn)行靈活選擇。其中，所述加熱絲130的長(zhǎng)度、形狀，在本實(shí)用新型實(shí)施例均不做限制。

進(jìn)一步地，由于所述加熱室122的體積較大，裝載的蒸鍍材料一般較多，造成在對(duì)所述蒸鍍?cè)O(shè)備100加熱過(guò)程中，蒸鍍材料受熱之后出現(xiàn)大塊蒸鍍材料噴出所述加熱室122，導(dǎo)致蒸鍍材料浪費(fèi)，同時(shí)，也存在一定的安全隱患，因此，針對(duì)上述問(wèn)題，如圖6所示，所述設(shè)備本體120還包括開(kāi)設(shè)有多個(gè)第二通孔142的蓋體140，所述蓋體140安裝于遠(yuǎn)離所述底座124的所述加熱室122的一端。

具體地，所述多個(gè)第二通孔142均勻的設(shè)置于所述蓋體140上，使得在蒸鍍過(guò)程中，所述蒸鍍材料可以均勻地通過(guò)多個(gè)所述第二通孔142蒸鍍出所述加熱室122外，而不會(huì)出現(xiàn)蒸鍍材料噴出，可有效避免對(duì)蒸鍍材料的浪費(fèi)。其中，所述第二通孔142的大小、數(shù)量、形狀在本實(shí)用新型實(shí)施例中不作限制。

可選地，為方便所述蒸鍍材料通過(guò)遠(yuǎn)離所述底座124的一端加入所述加熱室122內(nèi)，所述蓋體140與所述加熱室122之間采用非固定式安裝，例如，可拆卸式、通過(guò)水平轉(zhuǎn)軸或垂直轉(zhuǎn)軸連接。其中，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述蓋體140的材料、大小、形狀均可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行靈活選擇。

進(jìn)一步地，為了實(shí)現(xiàn)對(duì)所述蒸鍍?cè)O(shè)備100內(nèi)部的蒸鍍速率等進(jìn)行實(shí)時(shí)、快速的監(jiān)控，所述加熱室122上開(kāi)設(shè)有第一通孔1222，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，通過(guò)位于所述第一通孔1222處的監(jiān)控設(shè)備實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸鍍過(guò)程的有效監(jiān)控和控制。

在實(shí)際實(shí)施時(shí)，可在所述加熱室122的不同位置開(kāi)設(shè)多個(gè)所述第一通孔1222，以實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸鍍過(guò)程的多方位監(jiān)測(cè)，保證蒸鍍效果。其中，多個(gè)所述第一通孔1222的大小、形狀、位置在本實(shí)用新型實(shí)施例中均不做限制。應(yīng)注意，所述第一通孔1222暴露于所述反光罩110外。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種蒸鍍系統(tǒng)，該蒸鍍系統(tǒng)包括監(jiān)控設(shè)備和上述蒸鍍?cè)O(shè)備100。其中，所述監(jiān)控設(shè)備包括檢測(cè)探頭，所述檢測(cè)探頭設(shè)置于所述第一通孔1222處。可選地，所述監(jiān)控設(shè)備可以為膜厚儀。

具體地，所述檢測(cè)探頭用于監(jiān)測(cè)蒸鍍過(guò)程中蒸鍍材料的速率和厚度，并根據(jù)實(shí)際監(jiān)測(cè)結(jié)果進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)整。因此，所述檢測(cè)探頭設(shè)置于所述第一通孔1222的外側(cè)，且對(duì)準(zhǔn)所述第一通孔1222。

可選地，為了提高監(jiān)控過(guò)程的精確度，所述檢測(cè)探頭可以為多個(gè)。其中，所述檢測(cè)探頭的類(lèi)型可以選擇用于速率檢測(cè)的專(zhuān)用探頭，如速率傳感器等，本實(shí)用新型實(shí)施例在此不再贅述。

綜上所述，本實(shí)用新型提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備100和系統(tǒng)，其中，通過(guò)該蒸鍍?cè)O(shè)備100的巧妙設(shè)計(jì)，能夠有效降低蒸鍍過(guò)程中的能源浪費(fèi)，提高蒸鍍效率，且保證加熱室122受熱均勻。

同時(shí)，通過(guò)檢測(cè)設(shè)備和設(shè)置于加熱室122上的第一通孔1222，實(shí)現(xiàn)了對(duì)蒸鍍?cè)O(shè)備100中的蒸鍍狀態(tài)的實(shí)時(shí)監(jiān)控。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白，上述的本實(shí)用新型實(shí)施例的功能可以用通用的計(jì)算裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)，它們可以集中在單個(gè)的計(jì)算裝置上，或者分布在多個(gè)計(jì)算裝置所組成的網(wǎng)絡(luò)上，可選地，它們可以用計(jì)算裝置可執(zhí)行的現(xiàn)有程序代碼或算法來(lái)實(shí)現(xiàn)，從而，可以將它們存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置中由計(jì)算裝置來(lái)執(zhí)行，或者將它們分別制作成各個(gè)集成電路模塊，或者將它們中的多個(gè)模塊或步驟制作成單個(gè)集成電路模塊來(lái)實(shí)現(xiàn)。這樣，本實(shí)用新型的功能實(shí)現(xiàn)不限制于任何特定的硬件和軟件結(jié)合。

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。