1.一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，包括背板(1)及可拆卸地設(shè)于所述背板(1)上的第一靶材(21)、第二靶材(22)、第三靶材(23)及第四靶材(24)；所述四個(gè)靶材均為矩形結(jié)構(gòu)，且四個(gè)靶材呈田字形結(jié)構(gòu)拼接在一起。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，所述背板(1)為矩形結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，四個(gè)靶材呈田字形結(jié)構(gòu)拼接在一起時(shí)的尺寸與背板(1)的尺寸相匹配。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，四個(gè)靶材及背板(1)均為正方形結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，背板(1)上設(shè)有用于對(duì)四個(gè)靶材進(jìn)行定位的定位結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，所述定位結(jié)構(gòu)為設(shè)于背板(1)中心的十字形定位線。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，所述定位結(jié)構(gòu)為設(shè)于背板(1)上的邊框。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，四個(gè)靶材及背板(1)上均設(shè)有金屬結(jié)構(gòu)，靶材與背板(1)通過金屬結(jié)構(gòu)焊接連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種利用率高的離子源濺射靶材裝置，其特征在于，所述背板(1)上設(shè)有水路冷卻系統(tǒng)。