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一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法
文檔序號:3467007
閱讀:749
來源:國知局
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無機化學及其化合物制造及其合成,應用技術
專利名稱
:一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法
技術領域
:
本發明涉及碳熱還原氧化鋁制備碳化鋁的方法,具體涉及一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法,屬于火法冶金技術領域。
背景技術
:
碳化鋁是一種淡黃棕色、堅硬、透明的菱形六面體的晶體,熔點2100°C。碳化鋁是金屬鋁工業技術領域中的一種重要的化合物,在冶金工業用于還原金屬氧化物,在化學工業用作化學反應催化劑,在陶瓷行業用于制氮化鋁作高溫、切割和模具及機械部件等高級陶瓷材料。另外,碳化鋁作為添加劑可以增強合成材料及合金(Al-Al4C3,Al-SiC-Al4C3, Al-Al3Ti-Al4C3 等)的強度。目前,碳化鋁一般通過純鋁與碳反應制備,還沒有應用于工業實踐的成熟工藝。
發明內容
為解決工業制備碳化鋁的工藝方法,本發明提供一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法,通過采用工業純氧化鋁為原料、石墨為還原劑,制得碳化鋁,通過下列技術方案實現。一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法,經過下列各步驟
A.按氧化鋁和石墨的質量比為3 5 1取氧化鋁和石墨,并將其混合均勻,在3 IOMpa的壓力下制成塊狀物;
B.將步驟A所得塊狀物料置于真空下,維持壓力為1 200Pa,經過60 120min升溫至1450 1600°C,再保溫30 120min,待冷卻后即得到碳化鋁。所述步驟A的氧化鋁為工業純氧化鋁粉。所述步驟A制成的塊狀物大小為Φ 20mmX 10mm。所得碳化鋁純度在90%以上,最高可達96. 38%。本發明具有下列優點
(1)真空環境下完成,所得碳化鋁純凈無雜質,反應生成氣體易控制;
(2)采用氧化鋁和石墨碳作為反應物料,反應物料較易獲得,成本低;
(3)制備碳化鋁工藝流程短、清潔無污染,且操作簡便。
圖1為本發明實施例1所得碳化鋁的X射線衍射(XRD)圖譜; 圖2為本發明實施例1所得碳化鋁的掃描電子顯微鏡(SEM)的照片。
具體實施例方式
下面將結合實施例進一步闡明本發明的內容,但這些實例并不限制本發明的保護范圍。實施例1A.按工業純氧化鋁粉和石墨的質量比為3 1取氧化鋁和石墨共80g,并將其混合均勻,在3Mpa的壓力下制成Φ 20mmX IOmm塊狀物;
B.將步驟A所得塊狀物料置于真空下,維持壓力為50Pa,經過120min升溫至1550°C, 再保溫60min,待冷卻后即得到碳化鋁41. Sg,經SEM、EDS分析碳化鋁純度達90%以上。實施例2
A.按工業純氧化鋁粉和石墨的質量比為5 1取氧化鋁和石墨共60g,并將其混合均勻,在8Mpa的壓力下制成 ^OmmX IOmm塊狀物;
B.將步驟A所得塊狀物杣置于真空下,維持壓力為200Pa,經過60min升溫至1600°C, 再保溫120min,待冷卻后即得到碳化鋁34. 6g,碳化鋁純度達94. 57%以上。實施例3
A.按工業純氧化鋁粉和石墨的質量比為4 1取氧化鋁和石墨共80g,并將其混合均勻,在IOMpa的壓力下制成Φ 20mmX IOmm塊狀物;
B.將步驟A所得塊狀物料置于真空下,維持壓力為lPa,經過SOmin升溫至1450°C,再保溫30min,待冷卻后即得到碳化鋁42. 6g,碳化鋁純度達92. 43%以上。
權利要求
1.一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法,其特征在于經過下列各步驟A.按氧化鋁和石墨的質量比為3 5 1取氧化鋁和石墨,并將其混合均勻,在3 IOMpa的壓力下制成塊狀物;B.將步驟A所得塊狀物料置于壓力為1 2001 下,經過60 120min升溫至1450 1600°C,再保溫30 120min,待冷卻后即得到碳化鋁。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于所述步驟A的氧化鋁為工業純氧化鋁粉。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于所述步驟A的塊狀物大小為 Φ 20mmX10mm。
全文摘要
本發明涉及一種由氧化鋁制備碳化鋁的方法,以工業純氧化鋁為原料,石墨為還原劑,混合后置于壓力為1~200Pa下,經過60~120min升溫至1450~1600℃,再保溫30~120min,待冷卻后即得到碳化鋁,碳化鋁的純度在90%以上,最高可達96.38%。本發明在真空環境下完成,所得碳化鋁純凈無雜質,反應生成氣體易控制;采用氧化鋁和石墨碳作為反應物料,反應物料較易獲得,成本低;制備碳化鋁工藝流程短、清潔無污染,且操作簡便。
文檔編號
C01B31/30GK102442668SQ20111029490
公開日
2012年5月9日 申請日期2011年10月8日 優先權日2011年10月8日
發明者
于文站, 劉大春, 劉永成, 周曉奎, 徐寶強, 戴永年, 朱富龍, 李永梅, 李艷, 楊斌, 蔣文龍, 鄧勇, 郁青春, 陳建云 申請人:昆明理工大學
完整全部詳細技術資料下載
該技術已申請專利。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系技術所有人。
技術研發人員:楊斌;蔣文龍;于文站;郁青春;戴永年;劉大春;徐寶強;鄧勇;劉永成;周曉奎;陳建云;李永梅;朱富龍;李艷
技術所有人:昆明理工大學
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