技術總結
本發明涉及光譜學與光譜分析技術領域，具體涉及一種磷酸二氫鉀插層改性高嶺土復合物的制備方法。一種磷酸二氫鉀插層改性高嶺土復合物的制備方法，包括以下步驟：（1）高嶺土?二甲基亞砜K?DMSO制備；（2）高嶺土?醋酸鉀K?KAc制備；（3）高嶺土?磷酸二氫鉀K?KDP制備。本發明以K?DMSO為前驅體，K?KAc為預插層體，通過插層取代的方法最終將KDP插入到高嶺土層間，制備了K?KDP插層復合物，產物的插層率可以達到81.3％。高嶺土的層間距由原來的0.716nm增加到1.56nm，比原始高嶺土的顆粒更為均勻，粒徑更小，基本沒有團聚現象。

技術研發人員：王耀斌
受保護的技術使用者：陜西盛邁石油有限公司
文檔號碼：201611015084
技術研發日：2016.11.18
技術公布日：2017.05.31