1.一種化合物氟硼酸銨，其特征在于該化合物的化學(xué)式為NH4B4O6F，分子量為176.28，采用固相反應(yīng)法制備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物氟硼酸銨制備方法，其特征在于按下列步驟進行：
將含NH4化合物為NH4F，含B化合物為H3BO3和B2O3，含F(xiàn)化合物為NH4F或HF按摩爾比NH4∶B∶F＝0.5-2∶3-5∶0.5-2混合均勻，裝入水熱釜或石英管中密封，放到馬弗爐或干燥箱中，以溫度20-40℃/h的速率升溫至150-580℃，恒溫10-48小時，然后以溫度1-10℃/h的速率降至30℃，打開水熱釜或石英管，即得到化合物NH4B4O6F。
3.一種氟硼酸銨非線性光學(xué)晶體，其特征在于該晶體的化學(xué)式為NH4B4O6F，分子量為176.28，晶體屬正交晶系，空間群Pna21，晶胞參數(shù)為a = 7.615(3) ?，b = 11.207(4) ?，c = 6.604(3) ?, Z = 4，V = 563.6 ?3。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氟硼酸銨非線性光學(xué)晶體的制備方法，其特征在于采用助熔劑法，坩堝下降法，室溫溶液法和溶劑熱法生長晶體，具體操作按下列步驟進行：
a、將含NH4化合物為NH4F，含B化合物為H3BO3和B2O3，含F(xiàn)化合物為NH4F或HF按摩爾比NH4∶B∶F＝0.5-2∶3-5∶0.5-2混合均勻，裝入水熱釜或石英管中密封，放到馬弗爐或干燥箱中，以溫度20-40℃/h的速率升溫至150-580℃，恒溫10-48小時，然后以溫度1-10℃/h的速率降至30℃，打開水熱釜或石英管，即得到化合物NH4B4O6F；
b、將步驟a得到的化合物NH4B4O6F裝入水熱釜或石英管中密封，放到馬弗爐或干燥箱中，以溫度20-40℃/h的速率升溫至200-600℃，恒溫10-48小時，然后以溫度1-5℃/h的速率降至30℃，打開水熱釜或石英管，得到NH4B4O6F晶體的籽晶；
c、將步驟b得到的籽晶放在容器的底部，然后將步驟a得到的化合物NH4B4O6F放入容器中；
或?qū)⒉襟Eb得到的NH4B4O6F籽晶放在石英管的底部，然后將步驟a得到的化合物NH4B4O6F與助熔劑為NH4F、NH4F:H3BO3、NH4F:B2O3、H3BO3或B2O3按摩爾比1∶1-10混合，放入石英管中，將石英管抽真空，真空度達到1×10?3 Pa，用火焰槍真空封裝；
d、將步驟c中的容器密封或加入10-100mL溶劑為去離子水，無水乙醇，N,N-二甲基甲酰胺，N,N-二甲基乙酰胺或氫氟酸再密封，放到馬弗爐或干燥箱中，以溫度20-40℃/h的速率升溫至150-600℃，恒溫10-48小時，以溫度1-3℃/天的速率降溫50℃，再以溫度1-10℃/h的速率降至30℃，打開容器，即可獲得尺寸為1-20mm的NH4B4O6F晶體；
或?qū)⒉襟Ec中的容器密封并置于坩堝下降爐中，升溫至300-600℃，保溫10-20小時，調(diào)整容器位置，使自發(fā)成核溫度或接種溫度在350-600℃，再以溫度0.05-2mm/h的速度緩慢降低容器，同時，保持生長溫度不變或以溫度0-3℃/h的速率緩慢降溫，待生長結(jié)束后，將生長爐溫度降至30℃，取出容器，即得到尺寸為1-20mm的NH4B4O6F晶體；
或?qū)⒉襟Ec中的容器中加入10-100mL溶劑為去離子水，無水乙醇，N,N-二甲基甲酰胺，N,N-二甲基乙酰胺或氫氟酸，然后超聲波處理使其充分混合溶解，調(diào)節(jié)溶液pH值1-11，用定性濾紙過濾，再用聚氯乙烯薄膜封口，放在無晃動、無污染、無空氣對流的靜態(tài)環(huán)境中，將封口扎若干個小孔用以調(diào)節(jié)溶液中溶劑的揮發(fā)速率，在室溫下靜置，待生長結(jié)束，即得到尺寸為1-20mm的NH4B4O6F晶體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氟硼酸銨非線性光學(xué)晶體的制備方法，其特征在于步驟c中的助熔劑NH4F-H3BO3體系中NH4F與H3BO3的摩爾比為1-3∶1-5；NH4F-B2O3體系中NH4F與B2O3的摩爾比為1-2∶1-4。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氟硼酸銨非線性光學(xué)晶體在制備Nd: YAG激光器所輸出的1064 nm的基頻光進行2倍頻或3倍頻或4倍頻或5倍頻或6倍頻的諧波光輸出的用途。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氟硼酸銨非線性光學(xué)晶體在制備產(chǎn)生低于200nm 的深紫外倍頻光輸出中的用途。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氟硼酸銨非線性光學(xué)晶體在制備倍頻發(fā)生器、上或下頻率轉(zhuǎn)換器或光參量振蕩器中的用途。