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矢量強磁場下分子束外延及其原位表征裝置的制作方法

文檔序號:11147609閱讀:來源:國知局
技術總結
矢量強磁場下分子束外延及其原位表征裝置,涉及分子束外延及其原位表征。提供超高真空強磁場下,樣品生長平面與磁場夾角可調節的分子束外延生長,及以霍爾效應與磁阻測試為主的原位表征裝置。該裝置主要由結構緊致的倒T型超高真空生長與表征腔體和具有較小室溫腔的強磁體構成。其中置于強磁體室溫腔內的倒T型真空腔部分,包含緊致的外延生長樣品臺、可調節磁場與樣品臺夾角和原位表征裝置;置于強磁體下方部分包含蒸發源、等離子體源等分子束源部件以及抽真空系統,利用超高真空中分子束流自由程長的特點,使多束源能移出強磁場腔體。有效克服了強磁場腔體積小與生長測試系統部件多的技術難題,實現強磁場下分子束外延生長及原位表征。

技術研發人員:康俊勇;張純淼;吳志明;陳婷;高娜;吳雅蘋;李恒
受保護的技術使用者:廈門大學
文檔號碼:201611236161
技術研發日:2016.12.28
技術公布日:2017.05.10

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