本發明涉及用于液晶顯示屏玻璃基板蝕刻預處理的組合物。
背景技術：
在制作超薄液晶顯示屏需要對顯示屏玻璃基板進行薄化處理時，而當前普遍采用的氫氟酸蝕刻薄化方法在薄化處理后玻璃基板表明往往會出現局部過蝕產生的凹坑，需要再對基板表明進行長時間的拋光處理，嚴重影響了生產效率，提高了加工成本。為了減少薄化處理出現的凹坑，需要在薄化處理前對液晶屏的玻璃基板進行預處理，現有預處理劑以濃硫酸為基礎加入少量的氫氟酸、鹽酸酸配制而成，雖然可以實現一定的減少薄化后玻璃基板凹坑的效果，但預處理的混合酸中加入了大量的濃硫酸，預處理工序后產生的廢液難于進行處理。因此提供一種新的液晶顯示屏玻璃基板薄化預處理用產品，在提高處理效果的基礎上降低污染排放，成為現有技術中亟待解決的問題。
技術實現要素：
為解決前述技術問題，本發明提供了液晶顯示屏玻璃基板薄化工藝預處理劑及其處理工藝，通過優化預處理劑的處方和處理工藝，成功的實現了避免了濃硫酸等造成嚴重污染且難于處理的原材料的使用。
本發明提供了液晶顯示屏玻璃基板薄化工藝預處理劑，其特征在于所述預處理劑由以下組分組成：
質量百分比含量8～12％的鹽酸(HCl)，質量百分比含量2％～5％的氫氟酸(HF)，質量百分比含量0.3％～0.5％的乙酸，質量比0.5％～1％的過氧化氫，質量百分比含量1～2％的羥丙基甲基纖維素(HPMC)，質量百分比含量1～2％的殼聚糖，及余量的水。
所述的液晶顯示屏玻璃基板薄化工藝預處理劑，其特征在于以如下方法配制，
1)將處方量鹽酸、氫氟酸混合，并加入適量水稀釋后，加入處方量的過氧化氫嗎，
2)將處方量的羥丙基甲基纖維素溶于適量水中至完全溶解；
3)將處方量乙酸配制成為1％的溶液中，加入處方量殼聚糖并溶解；
3)將步驟1)、2)得到的混合液分別緩慢加入步驟3)的混合液中，補足余量的水后攪拌至混合均勻。
所述的液晶顯示屏玻璃基板優選為TFT玻璃基板
在研究中我們發現，采用本發明提供的預處理劑對液晶顯示屏玻璃基板進行預處理時能夠顯著降低薄化工藝后基板表面的凹坑，大大減少再研磨工序的時間，從而在保證了預處理效果的同時，避免了現有技術中采用濃硫酸為主要成分的預處理劑在使用時的不安全性和廢液難于處理的問題。且經過處方篩選我們發現，采用優選組分及處方量才能產生較好的預處理效果，尤其是HPMC、殼聚糖、過氧化氫及配比，上述三種組分為能夠實現良好預處理效果的關鍵組分，缺少其中任何一種或或改變其配比都會顯著影響預處理效果。
具體實施方式
本發明提供的用于液晶顯示屏玻璃基板薄化工藝預處理劑，以如下方法配制，
1)將處方量鹽酸、氫氟酸混合，并加入適量水稀釋后，加入處方量的過氧化氫嗎，
2)將處方量的羥丙基甲基纖維素溶于適量水中至完全溶解；
3)將處方量乙酸配制成為1％的溶液中，加入處方量殼聚糖并溶解；
3)將步驟1)、2)得到的混合液分別緩慢加入步驟3)的混合液中，補足余量的水后攪拌至混合均勻。
實施例1～4配方見下表(質量百分比wt％)
本發明中采用的殼聚糖為符合GB 29941-2013的產品
本發明中采用的羥丙基甲基纖維素為安徽山河藥用輔料股份有限公司生產，規格為SHE50。
采用實施例1～4得到的產品進行薄化預處理的方法如下
取用原材料為板硝子AN100相同廠家同批次的用于TFT顯示屏的玻璃面板，其厚度為1.000mm，尺寸為730mm×920mm。所采用的蝕刻及拋光設備分別為東莞鴻村蝕刻機和湖南永創拋光機。先在CF面玻璃基板和TFT面玻璃基板四周間隙中滲透UV膠水，再用UV光照固化完成玻璃基板的封裝，將封裝完成的玻璃基板用于后續的預處理及薄化工序
預處理方法為
1)配制液晶顯示屏玻璃基板薄化工藝預處理劑1000L(以下簡稱預處理劑)
2)將預處理劑打入蝕刻機酸槽并將預處理劑溫度控制在40℃～45℃，把作為實驗組樣品的5片完成封裝的玻璃基板(編號為I～V)浸泡在預處理劑中，去除玻璃表面雙層60微米；在預處理時對預處理劑進行鼓泡攪拌。
3)用清水洗凈玻璃表面，在表面濕潤的條件下再進入氫氟酸蝕刻液中，濃度為9mol/L，溫度控制在30℃條件，薄化至0.5mm厚度。
另取5片完成封裝的玻璃基板(編號i～v)清水清洗后直接進入氫氟酸蝕刻液中濃度為9mol/L，溫度控制在30℃條件，薄化至0.5mm厚度，并作為對照組
在同一臺永創拋光機1300-3#上，壓力60g/cm2，下盤轉速50，上盤轉速40，研磨墊為環球LP-66型號，拋光粉為德樂士101型號，吸附墊為FUJIBO BPE211型號，實驗組每研磨2分鐘檢驗一次表面效果，對照組每研磨5分鐘檢驗一次表明效果，記錄研磨后檢驗沒有凹坑的累計研磨時間如表1所示
實驗結果表明，采用本發明提供的預處理劑進行預處理后的玻璃基板在進行薄化工藝處理后可以顯著減少面板上的凹坑。