本發明涉及一種鍍膜玻璃，具體涉及一種高紅外反射鍍膜玻璃及其制備方法。

背景技術：

鍍膜玻璃具有節能減排及裝飾幕墻的雙重功效，推出市場后，深受人們喜愛，隨著人們對節能需求的不斷提高，人們在追求高的透光率的同時，對紅外反射率的要求越來越高，需求更高透過率的玻璃。

技術實現要素：

本發明的一種高紅外反射鍍膜玻璃，具有較高的可見光透過率和紅外反射率，有效阻止熱能透過玻璃進入室內。

本發明另一目的是提供一種高紅外反射鍍膜玻璃的制備方法。

本發明是通過以下技術方案實現的：

一種高紅外反射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次設有ITO層、Nb₂O₅層、AZO層、Ag層、Ti層、TIO_x層和Si₃N₄層。

優選的，所述ITO層為磁控濺射氧化銦錫靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15歐。

優選的，所述Nb₂O₅層為磁控濺射鈮靶，交流電源反應濺射，用Ar氣、O₂作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。

優選的，所述AZO層，為磁控濺射摻鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，交流電源反應濺射，用Ar氣、O₂作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～50nm。

優選的，所述Ag層，磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，膜厚8～12nm。

優選的，所述Ti層，磁控濺射Ti層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，膜厚0.8～2nm。

優選的，所述TIO_x層，磁控濺射氧化鈦靶，交流電源濺射，用Ar氣、O₂作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～35nm。

優選的，所述Si₃N₄層，磁控濺射硅鋁靶(Si:Al＝92:8(wt％))，交流電源濺射，用Ar氣、O₂作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。

優選的，所述玻璃基板為厚度為4～8mm的浮法玻璃。

一種制備綠色基調的低輻射鍍膜玻璃的方法，包括以下步驟：

A：選擇4～8mm玻璃基板，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基板進行清洗；

B：將玻璃基板送入鍍膜室磁控濺射ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，用Ar氣流量800SCCM，在玻璃基板上濺射120～135nm的ITO層；

C：繼續磁控濺射Nb₂O₅層，用交流電源，Ar氣、O₂作為保護氣體，磁控濺射鈮靶，用Ar和O₂氣體流量400SCCM:800SCCM，濺射20～50nm的Nb₂O₅層；

D：繼續磁控濺射第一AZO層，用交流電源，Ar氣、O₂作為保護氣體，磁控濺射鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O₂氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射20～50nm的AZO層；

E：繼續磁控濺射Ag層，用直流電源，Ar氣作為保護氣體，磁控濺射，用Ar氣體流量500～550SCCM，濺射8～12nm的Ag層；

F:繼續磁控濺射Ti層，用直流電源，Ar氣作為保護氣體，磁控濺射，用Ar氣體流量500～550SCCM，濺射0.8～2nm的第二Ti層；

G：繼續磁控濺射TIO_x層，用交流電源，Ar氣、O₂作為保護氣體，磁控濺射氧化鈦靶，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射20～35nm的TIO_x層；

H：繼續磁控濺射Si₃N₄層，用交流電源，Ar氣、O₂作為保護氣體，磁控濺射硅鋁靶(Si:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O₂氣體流量400SCCM:600SCCM，濺射50～85nm的Si₃N₄層。

與現有技術相比，本發明具有如下優點：

1、本發明的一種高紅外反射鍍膜玻璃，在紅外反射層外制備擴散阻擋層，金屬層和介質層間隔設置形成吸收層，在吸收層外制備減反射層，形成具有間隔設置的金屬層和介質層的吸收層，其工藝流程簡單，靶材成本低，可大規模制備生產，其制成的產品可見光透過率達60％以上，紅外反射率99％以上，實現高紅外光反射的特點，利于低輻射玻璃的推廣使用；

2、本發明的一種高紅外反射鍍膜玻璃制備方法，功能膜層依次沉積在玻璃基板上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結合力強的優點。

【附圖說明】

圖1是本發明結構示意圖。

【具體實施方式】

如附圖1所示的一種高紅外反射鍍膜玻璃，包括玻璃基板1，所述玻璃基板1上依次設有ITO層2、Nb₂O₅層3、AZO層4、Ag層5、Ti層6、TIOx層7和Si3N4層8。本發明的玻璃由一塊玻璃基片及多層鍍層復合而成，以獲得搞紅外反射率，可見光透過率達60％以上，紅外反射率99％以上，有效隔絕熱源透過玻璃進入室內，實現節能的效果。

所述ITO層2為磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15歐。

所述Nb₂O₅層3為磁控濺射鈮靶，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。該鍍層能夠提高膜層折射率，從而提高透過率。

所述AZO層4，為磁控濺射摻鋁氧化鋅靶ZnO:Al＝92:8(wt％)，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～50nm。該鍍層用來平整銀層，并降低面電阻，可進一步降低紅外的透過率。

所述Ag層5，磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，膜厚8～12nm。該鍍層用來作為功能層，反射紅外線。

所述Ti層6，磁控濺射Ti層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，膜厚0.8～2nm。該鍍層作為阻擋層，防止并減緩銀層被氧化。

所述TIOx層7，磁控濺射氧化鈦靶，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～35nm。該鍍層為玻璃提供高折射率，從而實現高的透過率，并且膜層耐磨、耐腐蝕。

所述Si₃N₄層8，磁控濺射硅鋁靶Si:Al＝92:8(wt％)，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。該鍍層提供高折射率，從而實現玻璃的高透過率，并使膜層具有較高的機械性能

所述玻璃基板1為厚度為4～8mm的浮法玻璃。

結合具體實施例，說明本發明制備高紅外反射鍍膜玻璃的方法：

實施例1-4

一種制備高紅外反射鍍膜玻璃的方法，包括以下步驟：

A：選擇玻璃基板，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基板進行清洗；

B：將玻璃基板送入鍍膜室內逐層進行磁控濺射，條件如表1所示；

表1：

如上條件所得的高紅外反射鍍膜玻璃，按照GB/T2680-94《建筑玻璃可見光透射比、太陽光直接透射比、太陽能總透射比、紫外線投射比及有關窗玻璃參數的測定》對實施例1-4制得的玻璃進行光學性能的測定，測試結果如表2所示：

表2：

本發明的一種高紅外反射鍍膜玻璃，功能膜層依次沉積在玻璃基板上，膜層具有耐磨性和耐腐蝕性能，較高折射率和透過率，產品成本低廉。