本實用新型涉及一種涂布機器領域，尤其涉及一種懸浮涂布機。

背景技術：

涂布機可以將成卷的基材，涂上一層特定功能的流體，例如膠類、電池漿料等，并烘干后收卷。

將基材進行雙面涂布時，可以采用單面涂布完成后，再對另一面進行涂布的方法。傳統的涂布機，請參考圖1，涂布帶(基材)貼著涂布輥轉動，模頭的前面的出料口(模唇)對著涂布輥輥軸的中心線。當將基材進行異形涂布時，在基材的正面進行異形涂布后，對基材的反面進行涂布時，反面的涂層容易出現凸起，影響涂層的質量。

技術實現要素：

鑒于此，有必要提供一種異形涂布時，能夠提高基材反面涂層質量的懸浮涂布機。

一種懸浮涂布機，包括沿基材的傳送方向依次設置的涂布輥、涂布模頭和支撐輥，基材通過所述涂布輥和所述支撐輥傳送，所述基材包括第一表面和第二表面，所述涂布輥和所述支撐輥位于所述基材的第一表面，所述涂布模頭位于所述基材的第二表面，所述涂布模頭的出料口面對所述基材的第二表面，且所述涂布模頭的出料口設于涂布輥和支撐輥之間。

在其中一個實施例中，所述涂布模頭的出料口至所述基材與所述涂布輥相切處的距離不大于20mm。

在其中一個實施例中，所述支撐輥相對于所述涂布輥可移動。

在其中一個實施例中，所述涂布模頭出料口至基材的距離為0.005-0.5mm。

上述懸浮涂布機，基材從涂布輥傳送至支撐輥，涂布模頭的出料口設于涂布輥和支撐輥之間，因此，基材正對著涂布模頭出口料的位置懸空于涂布輥之外，沒有貼著涂布輥。當漿料從涂布模頭的出料口流出至基材上時，基材給予漿料的支撐力并不會發生變化，從而使漿料均勻涂布于基材上，提高涂層的質量。

附圖說明

圖1為傳統的涂布機的結構示意圖；

圖2為一實施方式的懸浮涂布機的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清晰，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

請參閱圖2，一實施方式的懸浮涂布機100，包括沿基材200的傳送方向依次設置的涂布輥10、涂布模頭20和支撐輥30，基材200通過涂布輥10和支撐輥30傳送，基材200包括第一表面202和第二表面204，涂布輥10和支撐輥30位于基材200的第一表面202，涂布模頭30位于基材200的第二表面204，涂布模頭20的出料口22面對基材200的第二表面204，且涂布模頭20的出料口22設于涂布輥10和支撐輥30之間。

基材200可以為銅箔、鋁箔、膠類薄膜等。

漿料從涂布模頭20的出料口22流出，涂布至基材200上。

涂布輥10和支撐輥30的直徑可以根據實際需要采用不同直徑。

涂布輥10和支撐輥30用于傳送基材200，并將基材200張緊。基材200的傳送方向為涂布輥10指向支撐輥30的方向。基材200經過涂布輥10傳送后，通過涂布模頭20涂布漿料，然后再傳送至支撐輥30。

支撐輥30相對于涂布輥10可移動。具體的，支撐輥30相對于涂布輥10可以向前或向后移動，使基材200傾斜不同的角度，適應不同涂布漿料的涂布。

涂布模頭20的出料口22設于涂布輥10和支撐輥30之間，基材200正對著涂布模頭出口料12的位置懸空于涂布輥10之外，沒有貼著涂布輥10。

在一個實施方式中，涂布模頭20的出料口22至基材200與涂布輥10相切處的距離不大于20mm。即涂布模頭20的出料口22至基材200與涂布輥10相切處的距離大于0mm，且不大于20mm。

在一個實施方式中，涂布模頭出料口22至基材200的距離0.005-0.5mm。

請參考圖1，傳統的涂布機400的涂布模頭42的出料口422正對著涂布輥44和基材500的相切處。當采用傳統的涂布機400對基材500進行異形涂布時，當基材500的第一表面502已經進行了異形涂布時，由于在第一表面502形成有未涂漿料區域，當基材500的第一表面502貼于涂布輥44上時，基材500上有涂層的區域直接貼于涂布輥44表面，而未涂漿料區域的基材表面與涂布輥44之間則有一定的距離。當漿料從涂布模頭42的出料口流出至基材500的第一表面504上時，漿料從反面涂布有涂層的區域涂布至未涂覆有涂層區域時，基材500給予漿料的支撐力突然發生變化，導致第二表面504進行涂布時涂層突然變厚，形成凸起，影響涂層質量。

相比于傳統的涂布機，上述懸浮涂布機100，基材200從涂布輥10傳送至支撐輥30，涂布模頭20的出料口22設于涂布輥10和支撐輥30之間，因此，基材200正對著涂布模頭出口料12的位置懸空于涂布輥10之外，沒有貼著涂布輥10。當漿料從涂布模頭20的出料口22流出至基材200上時，基材200給予漿料的支撐力并不會發生變化，從而使漿料均勻涂布于基材200上，提高涂層的質量。

以上所述僅是本實用新型的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本實用新型的保護范圍。