1.一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：包括制備步驟：
步驟1）：在基片上通過一次掩模光刻制備第一光刻膠層；
步驟2）：在第一光刻膠層間隔部分電鑄制備第一微型管材圖形；
步驟3）：在第一光刻膠層上進行二次掩模光刻制備第二光刻膠層；
步驟4）：在第二光刻膠層間隔部分繼續電鑄制備第二微型管材圖形；
步驟5）：在第二微型管材圖形上進行定向電鑄裝置制備加長微型管材。
2.根據權利要求1所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：所述第一光刻膠層厚度與第二光刻膠層厚度之和大于500μm，所述第二光刻膠層厚度不大于第一光刻膠層的厚度；所述第一光刻膠層厚度與第一微型管材圖形的高度相同，所述第二光刻膠層厚度與第二微型管材圖形的高度相同。
3.根據權利要求1所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：步驟1）中所述的第一光刻膠層，通過如下步驟制得：
步驟1）：勻膠，通過勻膠機將負性光刻膠甩涂到基片上；
步驟2）：曝光，負性光刻膠甩涂完畢后，利用熱板對負性光刻膠進行前烘熱處理，并在熱板上緩慢冷卻，最后將遮蓋有掩膜版的負性光刻膠基片進行紫外線曝光；
步驟3）：顯影，對紫外線曝光后的負性光刻膠在熱板上進行后烘熱處理，然后通過超聲顯影制得光刻膠微結構，并在熱板上進行固化得到第一光刻膠層；
所述的第二光刻膠層，通過如下步驟制得：
步驟1）：勻膠，通過勻膠機將負性光刻膠甩涂到第一光刻膠層上；
步驟2）：曝光，負性光刻膠甩涂完畢后，利用熱板對負性光刻膠進行前烘熱處理，并在熱板上緩慢冷卻，最后將遮蓋有掩膜版的負性光刻膠基片再次進行紫外線曝光；
步驟3）：顯影，對紫外線曝光后的負性光刻膠在熱板上進行后烘熱處理，然后通過超聲顯影制得光刻膠微結構，并在熱板上進行固化得到第二光刻膠層。
4.根據權利要求1所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：步驟5）中所述的定向電鑄裝置，包括渡槽和電源，所述渡槽內設有金屬鍍液，所述鍍液內設有陽極，所述鍍液上方設有陰極，所述陰極上方設有步進電機，所述電源負極通過導線與陰極相連接，所述電源正極通過導線與陽極相連接。
5.根據權利要求1所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：所述第一微型管材圖形和第二微型管材圖形，其截面為三角形、四邊形、圓形、異形中的一種或幾種。
6.根據權利要求1所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：步驟5）中所述加長微型管材，管材壁厚為5μm～1000μm，長度為3mm～10mm，管材材料選自銅、鎳、鈦、鐵中的任意一種。
7.根據權利要求1所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：步驟1）中所述基片，其材質選自304不銹鋼、45號鋼、鋁中的任意一種。
8.根據權利要求3所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：所述負性光刻膠選自Su 875、AZ 10XT、AZ PLP60、AZ P4903系列光刻膠中的任意一種。
9.根據權利要求3所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：
在一次掩模光刻制備光刻膠層的步驟中，步驟1）所述勻膠機的甩膠轉速為700～1000rpm、甩膠時間為30s；步驟2）中所述的前烘熱處理的條件為95～110℃、90s～200min；步驟3）中所述的后烘熱處理的條件為90～120℃、60s～40min；
在二次掩模光刻制備光刻膠層的步驟中，步驟1）所述勻膠機的甩膠轉速為1000～1100rpm、甩膠時間為30s；步驟2）中所述的前烘熱處理的條件為95～110℃、90s～90min；步驟3）中所述的后烘熱處理的條件為90～120℃、60s～30min。
10.根據權利要求4所述的一種金屬微型管材定向電鑄法，其特征在于：所述步進電機，其提拉速度為0.4μm/min～1.7μm/min；提拉時間為2014min～6823min。