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一種真空電鍍機(jī)的制作方法

文檔序號(hào):41737710發(fā)布日期:2025-04-25 17:11閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種真空電鍍機(jī),其特征在于:包括有:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述電鍍自適應(yīng)電場(chǎng)電極控制組件(12)包括有:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述外徑連接線圈(121)和內(nèi)徑連接線圈(122)的間隙處環(huán)繞等分設(shè)置有多組微型橫向電磁導(dǎo)軌(124),多組所述微型橫向電磁導(dǎo)軌(124)的底部均滑動(dòng)連接有位置光纖傳感器滑動(dòng)塊(125),所述位置光纖傳感器滑動(dòng)塊(125)的底部安裝設(shè)置微調(diào)驅(qū)動(dòng)器(126),所述微調(diào)驅(qū)動(dòng)器(126)的側(cè)端設(shè)置陰電極接觸件(127)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述傳動(dòng)控制組件(9)包括有:

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)控制電機(jī)(91)的輸出端連接設(shè)置錐形驅(qū)動(dòng)齒輪(98),所述錐形驅(qū)動(dòng)齒輪(98)的底端和錐形齒牙邊(95)形成嚙合連接,所述內(nèi)轉(zhuǎn)環(huán)(94)的內(nèi)部安裝設(shè)置連接定位塊(99),所述連接定位塊(99)的底部緊固連接有線管連接端(97),所述線管連接端(97)的底部和電極控制線管(120)的頂部形成連接設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述真空控制組件(7)包括有:

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述雙級(jí)真空泵(71)和低溫吸附泵(72)架設(shè)安裝在真空電鍍罐體(2)頂部的承載架體表面上,所述雙級(jí)真空泵(71)由初級(jí)真空泵和次級(jí)真空泵組成,使得初級(jí)真空泵先將真空電鍍罐體(2)內(nèi)的氣壓降低到一定程度,次級(jí)真空泵進(jìn)一步提高真空度并維持在高精度水平,所述雙級(jí)真空泵(71)和安裝在真空電鍍罐體(2)內(nèi)壁表面上的高精度壓力傳感器形成信號(hào)連接,使得高精度壓力傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)真空度的變化,并將數(shù)據(jù)反饋給控制處理器(5),控制處理器(5)根據(jù)壓力反饋信息,自動(dòng)調(diào)整雙級(jí)真空泵(71)的轉(zhuǎn)速和啟停時(shí)間的工作參數(shù),確保真空度始終穩(wěn)定在設(shè)定的工藝要求范圍內(nèi),所述低溫吸附泵(72)用于通過(guò)低溫表面對(duì)氣體分子的吸附作用,去除真空電鍍罐體(2)內(nèi)部的大部分雜質(zhì)氣體。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述真空電鍍罐體(2)的外壁側(cè)端連通有閉環(huán)式氣體循環(huán)管路(8),所述真空電鍍罐體(2)的外壁表面連通有循環(huán)連接閥管(6),所述閉環(huán)式氣體循環(huán)管路(8)的底端和循環(huán)連接閥管(6)的內(nèi)部側(cè)端通過(guò)連接管形成連通,所述循環(huán)連接閥管(6)的外部側(cè)端通過(guò)連接導(dǎo)送管和雙級(jí)真空泵(71)的底部輸出端連通設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述真空電鍍罐體(2)的外壁表面上分別連通有電鍍液排送管(3)和電鍍液導(dǎo)送進(jìn)管(10),所述電鍍液導(dǎo)送進(jìn)管(10)通過(guò)內(nèi)置在真空電鍍罐體(2)內(nèi)部腔體的管路和鍍液噴頭(17)形成連通。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍機(jī),其特征在于:所述支撐底進(jìn)入支架(1)的底部?jī)?nèi)部安裝有推動(dòng)車(chē)(4),所述推動(dòng)車(chē)(4)用于使得晶圓掛具(15)從真空電鍍罐體(2)的底部開(kāi)啟口進(jìn)入,并形成調(diào)節(jié)更換。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空電鍍機(jī),涉及真空晶圓電鍍機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,包括有:真空電鍍罐體,其安裝在支撐底進(jìn)入支架的頂部,用于形成真空環(huán)境保障電鍍的穩(wěn)定性,通過(guò)在電鍍自適應(yīng)電場(chǎng)電極控制組件配合下,在晶圓邊緣區(qū)域電場(chǎng)強(qiáng)度不足,通過(guò)調(diào)整陰電極接觸件的調(diào)整,能夠讓其與陽(yáng)電極接觸件之間的相對(duì)距離和角度發(fā)生可控變化,實(shí)現(xiàn)對(duì)電場(chǎng)強(qiáng)度和方向的精確控制,使晶圓表面的電鍍速率更加均勻,精確改變局部區(qū)域電場(chǎng)強(qiáng)度,有效解決晶圓邊緣及特殊位置電場(chǎng)不均勻問(wèn)題,并進(jìn)一步優(yōu)化電場(chǎng)分布,使中心區(qū)域的電場(chǎng)更加均勻,有效調(diào)整晶圓整體電場(chǎng)分布形態(tài),實(shí)現(xiàn)了從局部到整體全方位的電場(chǎng)均勻性優(yōu)化,極大提高了電鍍層厚度均勻性。

技術(shù)研發(fā)人員:郭鑫,周訓(xùn)丙,劉瑞
受保護(hù)的技術(shù)使用者:蘇州智程半導(dǎo)體科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/4/24
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