一種金屬棚架結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】一種金屬棚架結(jié)構(gòu)，包括設(shè)有四個(gè)支撐腳的金屬棚架，其中，還包括設(shè)置在至少一個(gè)所述支撐腳下方的腳墊。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于在金屬棚架的支撐腳下安裝有腳墊，腳墊使用絕緣材料聚乙烯塑料薄膜，該材料與無塵地板不起化學(xué)反應(yīng)，地板干凈清潔，腳墊與支撐腳采用化學(xué)膠粘結(jié)，在高性能化學(xué)膠的作用下，腳墊與金屬棚架粘結(jié)牢固，在安裝中只裝對(duì)角兩只腳墊，使得該金屬棚架足夠的穩(wěn)定性和導(dǎo)電性。
【專利說明】一種金屬棚架結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種金屬棚架，尤其涉及一種能夠增加穩(wěn)定性和導(dǎo)電性的金屬棚架結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)室的金屬棚架的支撐腳一般是不銹鋼金屬的，在使用過程中發(fā)現(xiàn)金屬棚架的支撐腳在地板上極易滑動(dòng)，毫無粘附力，對(duì)存放在金屬棚架上的部品存在安全隱患，并且，在金屬棚架滑動(dòng)的過程中會(huì)對(duì)地板造成劃傷，劃傷破損的地板會(huì)對(duì)無塵室環(huán)境造成污染，雖然有些金屬棚架的支撐腳設(shè)置了腳墊，但當(dāng)4個(gè)腳都安裝了腳墊之后，金屬棚架的導(dǎo)電良性就變差，另外，一些腳墊所用的材料容易與地板起化學(xué)反應(yīng)，造成地板不干凈，當(dāng)腳墊與支撐腳簡單連接后還容易脫落，造成資源的浪費(fèi)。
[0003]中國專利(CN202514202U)公開了一種儀器支撐腳組合結(jié)構(gòu)，包括儀器本體、支撐腳、減震防滑腳墊，支撐腳和減震防滑腳墊位于儀器本體下部，儀器本身包括儀器本體后殼、儀器本體前面板，且支撐腳設(shè)置在儀器本體前面板的一側(cè)，即位于儀器本體的底部，減震防滑腳墊設(shè)置在儀器本體后殼的一側(cè)，即位于儀器本體的底后部。
[0004]中國專利(CN103277641A)公開了一種萬向減滑支撐腳以及拐杖，該萬向減滑支撐腳包括一支撐底座和設(shè)置在支撐底座上的連接件，其中，所述支撐底座具有支撐面，支撐底座的上表面設(shè)有一球形凹部，所述連接件的底部設(shè)有與球形凹部對(duì)應(yīng)的球形連接部，且所述球形連接部設(shè)置在球形凹部內(nèi)形成可轉(zhuǎn)動(dòng)式活動(dòng)連接。該發(fā)明萬向減滑支撐腳中支撐底座與連接件形成可轉(zhuǎn)動(dòng)式活動(dòng)連接，因此，無論被連接的外部主體處于豎直狀態(tài)還是傾斜狀態(tài)，下方的萬向減滑支撐腳的支撐底面可始終保持與地面或其他支撐面呈平面平行式接觸，即確保支撐底座始終與支撐面的接觸面積最大化，從而實(shí)現(xiàn)減滑防滑的效果。
[0005]上述兩個(gè)專利并未解決不易脫落、不留痕跡、且使金屬棚架的導(dǎo)電性良好的問題，也不能確保金屬棚架的穩(wěn)定性和部品的安全，以及對(duì)無塵地板的破壞和杜絕對(duì)Fab (工廠)的環(huán)境污染的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)提供一種能利用最低的成本，制作不易脫落、不留痕跡、防滑效果好和有良好導(dǎo)電性的腳墊，確保金屬棚架的穩(wěn)定性和部品的安全，避免對(duì)無塵地板的破壞和杜絕對(duì)Fab (工廠)的環(huán)境污染。
[0007]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為:
[0008]一種金屬棚架結(jié)構(gòu)，包括設(shè)有四個(gè)支撐腳的金屬棚架，其中，還包括設(shè)置在至少一個(gè)所述支撐腳下方的腳墊。
[0009]上述的結(jié)構(gòu)，其中，所述腳墊設(shè)有兩個(gè)，且分別安裝于斜對(duì)角位置的兩個(gè)所述支撐腳的下方。
[0010]上述的結(jié)構(gòu)，其中，所述腳墊的面積略大于所述支撐腳底部面積。[0011]上述的結(jié)構(gòu)，其中，所述腳墊采用透明絕緣材料聚乙烯塑料膜。
[0012]上述的結(jié)構(gòu)，其中，所述腳墊與所述支撐腳采用化學(xué)膠粘結(jié)。
[0013]上述的結(jié)構(gòu)，其中，所述腳墊為圓柱形。
[0014]上述的結(jié)構(gòu)，其中，所述腳墊為正方體。
[0015]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于在金屬棚架的支撐腳下安裝有腳墊，腳墊使用絕緣材料聚乙烯塑料薄膜，該材料與無塵地板不起化學(xué)反應(yīng)，地板干凈清潔，腳墊與支撐腳采用化學(xué)膠粘結(jié)，在高性能化學(xué)膠的作用下，腳墊與金屬棚架粘結(jié)牢固，在安裝中只裝對(duì)角兩只腳墊，使得該金屬棚架足夠的穩(wěn)定性和導(dǎo)電性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]通過閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型及其特征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按照比例繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本實(shí)用新型的主旨。
[0017]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2是圖1中A處的局部放大圖；
[0019]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例中腳墊為正方體的示意圖。
[0020]參見圖1-3，I為金屬棚架；11為支撐腳；2為腳墊。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明，但是不作為本實(shí)用新型的限定。
[0022]實(shí)施例:
[0023]本實(shí)施例涉及一種金屬棚架結(jié)構(gòu)，包括設(shè)有四個(gè)支撐腳11的金屬棚架1，還包括設(shè)置在至少一個(gè)支撐腳11下方的腳墊2。
[0024]其中，腳墊2采用透明絕緣材料聚乙烯塑料膜，該材料與無塵地板不起化學(xué)反應(yīng)，使得地板干凈清潔；在腳墊2與支撐腳11連接時(shí)使用高性能化學(xué)膠，高性能化學(xué)膠對(duì)不同材料粘接在一起有很強(qiáng)的粘接力，不易脫落。
[0025]較佳地，腳墊2設(shè)有兩個(gè)，且分別安裝于斜對(duì)角位置的兩個(gè)支撐腳的下方；采用兩個(gè)腳墊2，使腳墊2與地板有足夠的摩擦力，金屬棚架I也會(huì)有良好的導(dǎo)電性，同時(shí)又確保了防靜電的效果。
[0026]如圖2、圖3所示，在腳墊2的外觀上采用圓柱形或者正方體設(shè)計(jì)，與地板的接觸面積略大于支撐腳底部面積且足夠支撐金屬棚架1，使金屬棚架I能夠更穩(wěn)定，不容易晃動(dòng)。
[0027]以上對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本實(shí)用新型并不局限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例，這并不影響本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種金屬棚架結(jié)構(gòu)，包括設(shè)有四個(gè)支撐腳的金屬棚架，其特征在于:還包括設(shè)置在至少一個(gè)所述支撐腳下方的腳墊； 其中，所述腳墊設(shè)有兩個(gè)，且分別安裝于斜對(duì)角位置的兩個(gè)所述支撐腳的下方； 所述腳墊采用透明絕緣材料聚乙烯塑料膜，且所述腳墊與所述支撐腳采用化學(xué)膠粘結(jié)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述腳墊的面積略大于所述支撐腳底部面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述腳墊為圓柱形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述腳墊為正方體。
【文檔編號(hào)】F16M11/00GK203703515SQ201320657866
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年10月23日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月23日
【發(fā)明者】瞿正華, 顧曉熠, 方俊磊 申請人:上海華力微電子有限公司