本申請(qǐng)涉及檢測(cè)設(shè)備,具體而言涉及一種膜厚量測(cè)設(shè)備。
背景技術(shù):
1、目前,膜厚量測(cè)設(shè)備的外壁上通常設(shè)置有開口,用以供待量測(cè)膜厚的晶圓進(jìn)出。
2、由于該開口長期處于打開狀態(tài),因此,設(shè)備的外部的顆粒物容易通過該開口進(jìn)入膜厚量測(cè)設(shè)備內(nèi)部,致使膜厚量測(cè)設(shè)備內(nèi)部產(chǎn)生顆粒污染,進(jìn)而,可能會(huì)導(dǎo)致進(jìn)入膜厚量測(cè)設(shè)備內(nèi)部的晶圓表面形成顆粒,嚴(yán)重時(shí)甚至?xí)斐删A報(bào)廢。
3、因此需要進(jìn)行改進(jìn),以至少部分地解決上述問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、在
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
部分中引入了一系列簡(jiǎn)化形式的概念,這將在具體實(shí)施方式部分中進(jìn)一步詳細(xì)說明。本實(shí)用新型的實(shí)用新型內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征,更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。
2、為了至少部分地解決上述問題,根據(jù)本實(shí)用新型的第一方面,提供了一種一種膜厚量測(cè)設(shè)備,其包括:
3、設(shè)備主體,所述設(shè)備主體包括外壁和膜厚量測(cè)器件,所述外壁圍合形成容納空間,且所述外壁上設(shè)置有與所述容納空間連通的開口,所述膜厚量測(cè)器件位于所述容納空間中;
4、接近傳感器,設(shè)置于所述外壁遠(yuǎn)離所述容納空間的一側(cè),用于對(duì)接近所述開口的物體進(jìn)行檢測(cè);
5、蓋板,所述蓋板的面積大于或等于所述開口的面積;
6、致動(dòng)器件,與所述蓋板連接,用于帶動(dòng)所述蓋板在第一位置和第二位置之間切換,所述蓋板處于所述第一位置時(shí)打開所述開口,所述蓋板處于所述第二位置時(shí)封閉所述開口;
7、控制器,與所述接近傳感器和所述致動(dòng)器件連接,用于根據(jù)所述接近傳感器的檢測(cè)結(jié)果,控制所述致動(dòng)器件帶動(dòng)所述蓋板在所述第一位置和所述第二位置之間切換。
8、示例性地,所述接近傳感器包括紅外發(fā)射器和紅外接收器,所述紅外發(fā)射器和所述紅外接收器分別設(shè)置于所述開口的兩側(cè)。
9、示例性地,所述接近傳感器為電容式接近傳感器、電感式接近傳感器或超聲波接近傳感器。
10、示例性地,所述蓋板設(shè)置于所述外壁朝向所述容納空間的一側(cè)、所述外壁遠(yuǎn)離所述容納空間的一側(cè)或所述外壁內(nèi)部。
11、示例性地,所述致動(dòng)器件包括供排氣組件和氣缸,所述氣缸與所述供排氣組件和所述蓋板連接。
12、示例性地,所述致動(dòng)器件包括電機(jī)和齒輪齒條傳動(dòng)結(jié)構(gòu),所述電機(jī)通過所述齒輪齒條傳動(dòng)結(jié)構(gòu)與所述蓋板連接。
13、示例性地,所述致動(dòng)器件包括電機(jī)和滾珠絲杠傳動(dòng)結(jié)構(gòu),所述電機(jī)通過所述滾珠絲杠傳動(dòng)結(jié)構(gòu)與所述蓋板連接。
14、示例性地,所述致動(dòng)器件包括直線電機(jī)。
15、示例性地,所述控制器為單片機(jī)。
16、根據(jù)本實(shí)用新型的膜厚量測(cè)設(shè)備,可通過接近傳感器檢測(cè)待量測(cè)膜厚的物體是否通過開口進(jìn)出設(shè)備主體的容納空間,進(jìn)而,可以在待量測(cè)膜厚的物體(例如晶圓)需要通過開口進(jìn)入容納空間進(jìn)行量測(cè)時(shí),控制致動(dòng)器件帶動(dòng)蓋板移動(dòng)至第一位置,以打開開口供待量測(cè)膜厚的物體進(jìn)入;在待量測(cè)膜厚的物體通過開口離開容納空間后,也即膜厚量測(cè)設(shè)備不進(jìn)行膜厚量測(cè)時(shí),控制致動(dòng)器件帶動(dòng)蓋板移動(dòng)至第二位置,以封閉開口,避免設(shè)備主體外部的顆粒物進(jìn)入容納空間中。從而,本實(shí)用新型的膜厚量測(cè)設(shè)備可以顯著降低設(shè)備主體內(nèi)的顆粒污染,避免進(jìn)入設(shè)備主體內(nèi)部的待量測(cè)膜厚的物體的表面形成顆粒。
1.一種膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜厚量測(cè)設(shè)備,其特征在于,