1.一種基板，包括襯底基板和設置在所述襯底基板上的信號線，其特征在于，所述信號線包括：至少兩個主膜層，以及設置在每相鄰的兩個主膜層之間的第一附加膜層；其中，
所述主膜層的導電率大于所述第一附加膜層的導電率；所述主膜層的結晶度低于所述第一附加膜層的結晶度。
2.如權利要求1所述的基板，其特征在于，所述信號線還包括：設置在所述信號線上靠近所述襯底基板一側的第二附加膜層；和/或，設置在所述信號線上背離所述襯底基板一側的第三附加膜層；其中，所述第二附加膜層和所述第三附加膜層為用于增加所述信號線附著力的膜層。
3.如權利要求2所述的基板，其特征在于，所述主膜層的刻蝕速率均小于所述第一附加膜層、所述第二附加膜層和所述第三附加膜層的刻蝕速率。
4.如權利要求2所述的基板，其特征在于，所述第二附加膜層和所述第三附加膜層的材料均與所述第一附加膜層的材料相同。
5.如權利要求2所述的基板，其特征在于，所述第一附加膜層、所述第二附加膜層或所述第三附加膜層的材料為下列材料之一或組合：
鉬、鉻或鎳。
6.如權利要求1所述的基板，其特征在于，所述主膜層的材料為下列材料之一或組合：
鋁、銀或銅。
7.如權利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一附加膜層的厚度為150埃-350埃。
8.如權利要求1所述的基板，其特征在于，所述信號線的方阻小于0.2歐姆。
9.如權利要求1-8任一項所述的基板，其特征在于，所述信號線包括以下之一或組合：
數據線、柵極線、電路補償調試線或其他連接線。
10.一種顯示裝置，其特征在于，該顯示裝置包括權利要求1-9中任一項所述的基板。