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處理腔中晶圓位置檢測裝置及方法

文檔序號:7109013閱讀:141來源:國知局
專利名稱:處理腔中晶圓位置檢測裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工藝,更具體地說,本發(fā)明涉及一種處理腔中晶圓位置檢測裝置以及處理腔中晶圓位置檢測裝置方法。
背景技術(shù)
當(dāng)晶圓在處理腔中進(jìn)行加工處理時,由于傳輸或者托盤的問題可能會使得晶圓的位置發(fā)生偏移。當(dāng)晶圓位置偏移時,設(shè)備發(fā)出警報,以便將晶圓位置偏移的情況告知工程師或操作人員。但是,即使設(shè)備在晶圓位置發(fā)生偏移時發(fā)出了警報,工程師或操作人員仍無法獲知晶圓在處理腔中的實際位置。同時,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出警報時,需要使用機械手來移動處理腔中晶 圓,而由于工程師或操作人員無法獲知晶圓在處理腔中的實際位置,所以機械手在接觸晶圓時并不能精確拾取晶圓,從而會產(chǎn)生使晶圓破損的危險。但是,如果打開處理腔來取出發(fā)生偏移的晶圓,雖然能夠避免晶圓破損的危險,但是延長了晶圓處理時間。因此,在現(xiàn)有技術(shù)中,在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,要么會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,要么會延長晶圓處理時間。因此,希望能夠提供一種在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時既不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題也不會延長晶圓處理時間的解決方案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺陷,提供一種在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時既不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題也不會延長晶圓處理時間的處理腔中晶圓位置檢測裝置及方法。為了實現(xiàn)上述技術(shù)目的,根據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供了一種處理腔中晶圓位置檢測裝置,其包括攝像機、光源以及監(jiān)視器;其中,所述光源布置在所述晶圓處理腔內(nèi)或者布置在晶圓處理腔外以使得所述光源能夠照射所述晶圓處理腔內(nèi)部;并且其中,所述攝像機布置在所述晶圓處理腔內(nèi)或者布置在晶圓處理腔側(cè)壁以便能夠拍攝所述晶圓處理腔內(nèi)布置的待處理晶圓的位置;而且,所述監(jiān)視器布置在所述晶圓處理腔外部;并且所述監(jiān)視器通過纜線連接至所述攝像機,從而所述監(jiān)視器能夠?qū)崟r地顯示所述攝像機所拍攝的圖像。優(yōu)選地,在所述晶圓處理腔中容納了待處理晶圓時,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器實時地顯示所述攝像機所拍攝的圖像。優(yōu)選地,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時,在設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時啟動所述攝像機、所述光源以及所述監(jiān)視器;啟動后,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器顯示所述攝像機所拍攝的圖像。根據(jù)本發(fā)明的第二方面,提供了處理腔中晶圓位置檢測方法,其特征在于包括利用光源對晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射;利用攝像機對待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝;利用監(jiān)視器顯示所述攝像機所拍攝的圖像。優(yōu)選地,在所述晶圓處理腔中容納了待處理晶圓時,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器實時地顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
優(yōu)選地,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時,在設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時啟動所述攝像機、所述光源以及所述監(jiān)視器;啟動后,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器顯示所述攝像機所拍攝的圖像。根據(jù)本發(fā)明,工程師或操作人員能夠通過方便地查看所述監(jiān)視器來獲知所述待處理晶圓的實時位置。從而,即使在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,也不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,并且也不會延長晶圓處理時間。


結(jié)合附圖,并通過參考下面的詳細(xì)描述,將會更容易地對本發(fā)明有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點和特征,其中圖I示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的處理腔中晶圓位置檢測裝置。圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的處理腔中晶圓位置檢測方法的流程圖。需要說明的是,附圖用于說明本發(fā)明,而非限制本發(fā)明。注意,表示結(jié)構(gòu)的附圖可能并非按比例繪制。并且,附圖中,相同或者類似的元件標(biāo)有相同或者類似的標(biāo)號。
具體實施例方式為了使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚和易懂,下面結(jié)合具體實施例和附圖對本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)描述。<第一實施例>圖I示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的處理腔中晶圓位置檢測裝置。如圖I所示,根據(jù)本發(fā)明實施例的處理腔中晶圓位置檢測裝置包括攝像機4、光源6以及監(jiān)視器7。其中,例如,能量源2為晶圓處理提供能量。其中,所述光源6布置在所述晶圓處理腔I內(nèi)或者布置在晶圓處理腔I外以使得所述光源6能夠照射所述晶圓處理腔I內(nèi)部。具體地說,例如,在具體實施例中,所述光源6布置在所述晶圓處理腔I內(nèi),從而顯然能夠照射所述晶圓處理腔I內(nèi)部。或者,在另一具體實施例中,所述光源6布置在所述晶圓處理腔I外,但是能夠通過所述晶圓處理腔I的窗口向所述晶圓處理腔I內(nèi)進(jìn)行照射。并且其中,所述攝像機4布置在所述晶圓處理腔I內(nèi)或者布置在晶圓處理腔I側(cè)壁以便能夠拍攝所述晶圓處理腔I內(nèi)布置的待處理晶圓3的位置。而且,所述監(jiān)視器7布置在所述晶圓處理腔I外部,更具體地說,所述晶圓處理腔I布置在工程師或操作人員方便查看的位置;并且所述監(jiān)視器7通過纜線5連接至所述攝像機4,從而所述監(jiān)視器7能夠?qū)崟r地顯示所述攝像機4所拍攝的圖像。由此,例如,在具體實施例中,在所述晶圓處理腔I中容納了待處理晶圓3時,所述光源6對所述晶圓處理腔I內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機4對所述待處理晶圓3的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器7實時地顯示所述攝像機4所拍攝的圖像。從而,工程師或操作人員能夠通過方便地查看所述監(jiān)視器7來獲知所述待處理晶圓3的實時位置。從而,即使在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,也不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,并且也不會延長晶圓處理時間。進(jìn)一步優(yōu)選地,在具體優(yōu)選實施例中,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時,在設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時啟動所述攝像機4、所述光源6以及所述監(jiān)視器7。啟動后,所述光源6對所述晶圓處理腔I內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機4對所述待處理晶圓3的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器7顯示所述攝像機4所拍攝的圖像。從而,僅僅在發(fā)生晶圓偏移警報時啟動光源、攝像機和監(jiān)視器,從而節(jié)省能量;并且,工程師或操作人員能 夠在晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時通過方便地查看所述監(jiān)視器7來獲知所述待處理晶圓3的實時位置。從而,即使在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,也不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,并且也不會延長晶圓處理時間。<第二實施例>圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的處理腔中晶圓位置檢測方法的流程圖。如圖2所示,根據(jù)本發(fā)明實施例的處理腔中晶圓位置檢測方法包括利用光源6對晶圓處理腔I內(nèi)部進(jìn)行照射(步驟SI);利用攝像機4對待處理晶圓3的位置進(jìn)行拍攝(步驟S2);利用監(jiān)視器7顯示所述攝像機4所拍攝的圖像(步驟S3)。由此,例如,在具體實施例中,在所述晶圓處理腔I中容納了待處理晶圓3時,所述光源6對所述晶圓處理腔I內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機4對所述待處理晶圓3的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器7實時地顯示所述攝像機4所拍攝的圖像。從而,工程師或操作人員能夠通過方便地查看所述監(jiān)視器7來獲知所述待處理晶圓3的實時位置。從而,即使在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,也不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,并且也不會延長晶圓處理時間。進(jìn)一步優(yōu)選地,在具體優(yōu)選實施例中,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時,在設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時啟動所述攝像機4、所述光源6以及所述監(jiān)視器7。啟動后,所述光源6對所述晶圓處理腔I內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機4對所述待處理晶圓3的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器7顯示所述攝像機4所拍攝的圖像。從而,僅僅在發(fā)生晶圓偏移警報時啟動光源、攝像機和監(jiān)視器,從而節(jié)省能量;并且,工程師或操作人員能夠在晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時通過方便地查看所述監(jiān)視器7來獲知所述待處理晶圓3的實時位置。從而,即使在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,也不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,并且也不會延長晶圓處理時間。可以理解的是,雖然本發(fā)明已以較佳實施例披露如上,然而上述實施例并非用以限定本發(fā)明。對于任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾,或修改為等同變化的等效實施例。因此,凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。 ·
權(quán)利要求
1.一種處理腔中晶圓位置檢測裝置,其特征在于包括攝像機、光源以及監(jiān)視器;其中,所述光源布置在所述晶圓處理腔內(nèi)或者布置在晶圓處理腔外以使得所述光源能夠照射所述晶圓處理腔內(nèi)部;并且其中,所述攝像機布置在所述晶圓處理腔內(nèi)或者布置在晶圓處理腔側(cè)壁以便能夠拍攝所述晶圓處理腔內(nèi)布置的待處理晶圓的位置;而且,所述監(jiān)視器布置在所述晶圓處理腔外部;并且所述監(jiān)視器通過纜線連接至所述攝像機,從而所述監(jiān)視器能夠?qū)崟r地顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理腔中晶圓位置檢測裝置,其特征在于,在所述晶圓處理腔中容納了待處理晶圓時,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器實時地顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的處理腔中晶圓位置檢測裝置,其特征在于,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時,在設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時啟動所述攝像機、所述光源以及所述監(jiān)視器;啟動后,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
4.一種處理腔中晶圓位置檢測方法,其特征在于包括 利用光源對晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射; 利用攝像機對待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝; 利用監(jiān)視器顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理腔中晶圓位置檢測方法,其特征在于,在所述晶圓處理腔中容納了待處理晶圓時,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器實時地顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理腔中晶圓位置檢測方法,其特征在于,當(dāng)晶圓位置偏移而使設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時,在設(shè)備發(fā)出晶圓位置偏移警報時啟動所述攝像機、所述光源以及所述監(jiān)視器;啟動后,所述光源對所述晶圓處理腔內(nèi)部進(jìn)行照射,所述攝像機對所述待處理晶圓的位置進(jìn)行拍攝,并且所述監(jiān)視器顯示所述攝像機所拍攝的圖像。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種處理腔中晶圓位置檢測裝置及方法。本發(fā)明的處理腔中晶圓位置檢測裝置包括攝像機、光源以及監(jiān)視器;其中,光源布置在晶圓處理腔內(nèi)或者布置在晶圓處理腔外以使得光源能夠照射晶圓處理腔內(nèi)部;并且其中,所述攝像機布置在晶圓處理腔內(nèi)或者布置在晶圓處理腔側(cè)壁以便能夠拍攝晶圓處理腔內(nèi)布置的待處理晶圓的位置;而且,監(jiān)視器布置在晶圓處理腔外部;并且監(jiān)視器通過纜線連接至攝像機,從而監(jiān)視器能夠?qū)崟r地顯示攝像機所拍攝的圖像。根據(jù)本發(fā)明,工程師能夠通過方便地查看所述監(jiān)視器來獲知所述待處理晶圓的實時位置。從而,即使在處理腔中晶圓位置發(fā)生偏移時,也不會發(fā)生移動晶圓時損壞晶圓的問題,并且也不會延長晶圓處理時間。
文檔編號H01L21/66GK102856229SQ20121036686
公開日2013年1月2日 申請日期2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月27日
發(fā)明者周廣偉, 巴文林 申請人:上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司
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