一種不銹鋼吸盤裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于：由不銹鋼基盤和不銹鋼吸盤構成，不銹鋼基盤中心制有真空排氣孔，不銹鋼基盤的上表面制有嵌裝不銹鋼吸盤的淺槽，不銹鋼吸盤上均勻制有吸孔，不銹鋼吸盤嵌裝于所述淺槽內并與不銹鋼基盤采用圓周間隔布置的定位銷固定安裝。本實用新型結構設計科學合理，采用不銹鋼基盤與不銹鋼吸盤進行結合，不銹鋼基盤可便于與其他設備進行安裝，不銹鋼吸盤加工出微小的吸孔，具有吸力大且均勻，易于加工，耐高溫，耐腐蝕，使用壽命長的優點。
【專利說明】
一種不銹鋼吸盤裝置
技術領域
[0001]本實用新型屬于硅晶片生產設備領域，特別是一種不銹鋼吸盤裝置。【背景技術】
[0002]在半導體集成電路制造過程中，硅晶片需要在貼合、劃片等多達幾百種工藝設備之間來回傳輸并進行加工檢測。在加工檢測過程中，需要將硅晶片十分平穩、固定地安放在工藝設備上。目前市場上通用的是靜電吸盤，靜電吸盤以其作用力分布均勻，硅晶片不會翹曲、非直接接觸、污染少及可用于高真空環境中而得到應用。然而現有的靜電吸盤存在不耐高溫、易于損耗、不耐酸堿和有機溶劑、不易清洗、易污染晶圓片，要經常更換的缺點。目前， 也有陶瓷吸盤，其采用陶瓷材質，制造難度大、成本高、易碎。
【發明內容】

[0003]本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供一種易于生產制造，且具有耐高溫、耐酸堿、使用壽命長的不銹鋼吸盤裝置。
[0004]本實用新型解決其技術問題是通過以下技術方案實現的:
[0005]—種不銹鋼吸盤，其特征在于:由不銹鋼基盤和不銹鋼吸盤構成，不銹鋼基盤中心制有真空排氣孔，不銹鋼基盤的上表面制有嵌裝不銹鋼吸盤的淺槽，不銹鋼吸盤上均勻制有吸孔，不銹鋼吸盤嵌裝于所述淺槽內并與不銹鋼基盤采用圓周間隔布置的定位銷固定安裝。
[0006]而且，所述的不銹鋼吸盤上所制的吸孔為激光打孔，每個吸孔由靠近不銹鋼吸盤正面的粗孔段及靠近不銹鋼吸盤背面的細孔段構成。
[0007]而且，所述的吸孔的粗孔段直徑為1.2mm，細孔段直徑為0.4mm。
[0008]而且，所述的不銹鋼吸盤直徑為150-160mm，吸孔數量為1390-1400個。
[0009]而且，所述的不銹鋼基盤的上表面刻制有多道平行排布的凹槽，該凹槽與所述不銹鋼吸盤的背面之間形成真空氣體通道。
[0010]而且，所述的不銹鋼基盤的四周制有安裝孔。
[0011]而且，所述的不銹鋼基盤的下表面制有1-3道密封環。
[0012]而且，所述的不銹鋼基盤的外周間隔嵌裝有磁鐵。
[0013]本實用新型的優點和有益效果為:
[0014] 1、本不銹鋼吸盤裝置，采用不銹鋼鋼基盤與不銹鋼吸盤進行嵌裝，不銹鋼材質具有易于加工的優點，在不銹鋼吸盤上采用激光打孔加工出吸孔，使其具有高密度，高精度， 吸附效果可靠。
[0015]2、本不銹鋼吸盤裝置，不銹鋼吸盤直徑為150-160mm，吸孔數量為1390-1400個，直徑大可適用于大面積的硅晶片加工檢測，吸孔數量多，吸附力度均勻。
[0016]3、本不銹鋼吸盤裝置，不銹鋼基盤內表面制有平行排布的凹槽，該凹槽與所述不銹鋼吸盤的下表面之間形成真空氣體通道，有利于氣體的均勻排布，提高吸附力的均勻性。
[0017]4、本不銹鋼吸盤裝置，不銹鋼基盤的四周制有安裝孔，不銹鋼基盤的下表面制有1-3道密封環，不銹鋼基盤的外周間隔嵌裝有磁鐵，有利于不銹鋼基盤與其他設備的固定安裝。
[0018]5、本實用新型結構設計科學合理，采用不銹鋼基盤與不銹鋼吸盤進行結合，不銹鋼基盤可便于與其他設備進行安裝，不銹鋼吸盤加工出微小的吸孔，具有吸力大且均勻，易于加工，耐高溫，耐腐蝕，使用壽命長的優點。
【附圖說明】

[0019]圖1為本實用新型的不銹鋼基盤的主視圖；
[0020]圖2為圖1的后視圖；
[0021]圖3為圖1的A-A向視圖；
[0022]圖4為本實用新型的不銹鋼吸盤的主視圖；
[0023]圖5為圖4的B-B向視圖；
[0024]圖6為圖5的C部放大圖。
[0025]附圖標注說明:
[0026]1-不銹鋼基盤、2-淺槽、3-凹槽、4-真空排氣孔、5定位銷孔、6-安裝孔、7-磁鐵、8-密封環、9-不銹鋼吸盤、I O-吸孔、11 -粗孔段、12-細孔段。
【具體實施方式】
[0027]下面通過具體實施例對本實用新型作進一步詳述，以下實施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本實用新型的保護范圍。
[0028]—種不銹鋼吸盤裝置，其由不銹鋼基盤I和不銹鋼吸盤9構成，不銹鋼基盤中心制有真空排氣孔4，不銹鋼基盤的上表面制有嵌裝不銹鋼吸盤的淺槽2，不銹鋼吸盤上均勻制有吸孔10，不銹鋼吸盤上制有定位銷孔5。不銹鋼吸盤嵌裝于淺槽內并與不銹鋼基盤采用圓周間隔布置的定位銷固定安裝。
[0029]不銹鋼吸盤上所制的吸孔為激光打孔，每個吸孔由靠近不銹鋼吸盤正面的粗孔段11及靠近不銹鋼吸盤背面的細孔段12構成。吸孔的粗孔段直徑為1.2mm，細孔段直徑為0.4mm。不銹鋼吸盤直徑為150-160mm，吸孔數量為1390-1400個。
[0030]不銹鋼基盤的上表面刻制有多道平行排布的凹槽3，該凹槽與所述不銹鋼吸盤的背面之間形成真空氣體通道。不銹鋼基盤的四周制有安裝孔6。不銹鋼基盤的下表面制有1-3道密封環8。不銹鋼基盤的外周間隔嵌裝有磁鐵7。有利于不銹鋼基盤與其他設備的固定安裝。
[0031]采用不銹鋼鋼基盤與不銹鋼吸盤進行嵌裝，不銹鋼材質具有易于加工的優點，在不銹鋼吸盤上采用激光打孔加工出吸孔，使其具有高密度，高精度，吸附效果可靠。
[0032]盡管為說明目的公開了本實用新型的實施例和附圖，但是本領域的技術人員可以理解:在不脫離本實用新型及所附權利要求的精神和范圍內，各種替換、變化和修改都是可能的，因此，本實用新型的范圍不局限于實施例和附圖所公開的內容。
【主權項】
1.一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:由不銹鋼基盤和不銹鋼吸盤構成，不銹鋼基盤中心制有真空排氣孔，不銹鋼基盤的上表面制有嵌裝不銹鋼吸盤的淺槽，不銹鋼吸盤上均勻制有吸孔，不銹鋼吸盤嵌裝于所述淺槽內并與不銹鋼基盤采用圓周間隔布置的定位銷固定安裝。2.根據權利要求1所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的不銹鋼吸盤上所制的吸孔為激光打孔，每個吸孔由靠近不銹鋼吸盤正面的粗孔段及靠近不銹鋼吸盤背面的細孔段構成。3.根據權利要求2所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的吸孔的粗孔段直徑為1.2mm，細孔段直徑為0.4mm。4.根據權利要求1或2或3所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的不銹鋼吸盤直徑為150-160mm，吸孔數量為1390-1400個。5.根據權利要求1所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的不銹鋼基盤的上表面刻制有多道平行排布的凹槽，該凹槽與所述不銹鋼吸盤的背面之間形成真空氣體通道。6.根據權利要求1所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的不銹鋼基盤的四周制有安裝孔。7.根據權利要求1所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的不銹鋼基盤的下表面制有1-3道密封環。8.根據權利要求1所述的一種不銹鋼吸盤裝置，其特征在于:所述的不銹鋼基盤的外周間隔嵌裝有磁鐵。
【文檔編號】H01L21/683GK205692816SQ201620610580
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年6月17日 公開號201620610580.0, CN 201620610580, CN 205692816 U, CN 205692816U, CN-U-205692816, CN201620610580, CN201620610580.0, CN205692816 U, CN205692816U
【發明人】周萬群, 程艷, 黃維倉
【申請人】旭豐（天津）電子設備有限公司