技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種納米線柵結(jié)構(gòu)的制作方法，該方法先通過(guò)壓印模具在熱塑性基板上熱壓出交替的多個(gè)凹槽和多個(gè)凸起，再將金屬薄膜制作在所述多個(gè)凹槽和多個(gè)凸起上，接著利用金屬粘結(jié)膠材將所述凸起上的金屬薄膜轉(zhuǎn)移到線柵載體基板上，最后剝離熱塑性基板，制得納米線柵結(jié)構(gòu)，相比于現(xiàn)有技術(shù)，整個(gè)過(guò)程無(wú)需光阻涂布、光阻殘余層去除、以及金屬刻蝕制程，避免了現(xiàn)有技術(shù)中刻蝕精度不佳、光阻殘余層難以去除、以及金屬刻蝕過(guò)程中的線柵結(jié)構(gòu)塌陷的問(wèn)題，能夠簡(jiǎn)化納米線柵結(jié)構(gòu)的制作流程，縮短納米線柵結(jié)構(gòu)的制作時(shí)間，提升納米線柵結(jié)構(gòu)的制作效率和制程良率。

技術(shù)研發(fā)人員：李明輝
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.23
技術(shù)公布日：2017.09.15