本技術涉及電氣貫穿接頭設備，具體地說是一種承壓平面密封型電氣饋通結構。

背景技術：

1、低溫電氣貫穿件在lng接收站、lng液化工廠、lng運輸船、浮式lng液化儲存裝置、煤焦爐氣甲烷化制取lng裝置、以及化工裝置中的烷烴、烯烴等低溫介質的輸送項目中，用于對于低溫介質的輸送以及在裝、卸車等工作中的配套使用。由于低溫介質具有低溫、易燃、易爆及易汽化的特性，因此要求低溫電氣貫穿件具有密封、安全可靠的要求。

2、現有技術中的低溫電氣貫穿件由兩片法蘭組成，饋通線通過密封圈、導向圈、鎖緊螺母與法蘭固定，這樣的結構在安裝空間有限的環境下存在使用局限性。

3、基于以上原因，本實用新型設計了一種承壓平面密封型電氣饋通結構，具備饋通線可更換，滿足沒有內腔要求且空間緊湊環境下便于安裝等單法蘭片結構低溫電氣貫穿件的優點。

技術實現思路

1、本實用新型的目的是克服現有技術的不足，提供一種承壓平面密封型電氣饋通結構，具備饋通線可更換，滿足沒有內腔要求且空間緊湊環境下便于安裝等單法蘭片結構低溫電氣貫穿件的優點。

2、為了達到上述目的，本實用新型提供一種承壓平面密封型電氣饋通結構，包括饋通線，法蘭，密封件，墊圈，壓緊螺母結構，鎖緊螺母和導體，法蘭的中部貫穿設置有饋通線，饋通線的內部設置有導體，法蘭的右側與壓緊螺母結構的螺栓部分通過螺紋連接，壓緊螺母結構的螺栓部分的外側與鎖緊螺母螺紋連接，壓緊螺母結構螺栓部分內側與饋通線之間設置有墊圈，饋通線與法蘭之間安裝有密封件。

3、鎖緊螺母的外徑大于壓緊螺母結構中螺母的外徑，并且位于壓緊螺母結構中螺母的內側。

4、壓緊螺母結構的外側端部為旋轉螺母。

5、饋通線在法蘭上呈等邊形分布。

6、法蘭的右側的內螺紋不貫穿法蘭。

7、饋通線位于法蘭右側的部分設置在壓緊螺母結構的螺栓部分內部。

8、饋通線設置有導體的部分的外徑小于其貫穿法蘭的部分的外徑。

9、饋通線緊貼密封件與墊圈之間的部分的外徑略大于其貫穿法蘭的部分的外徑。

10、導體位于所述法蘭左側的部分上設置有所述螺栓孔。

11、同現有技術相比，本實用新型具備以下有益效果：

12、本實用新型整體部件少，結構關系合理簡化，安裝高效簡便，僅需旋緊兩個螺母就可以完成安裝，通過壓緊螺母結構與法蘭的螺紋連接起到承壓作用，通過墊圈和密封件的壓緊效果實現密封作用，且饋通線與接線端子可直接壓接或卡箍壓接，也可以通過螺栓連接，滿足不同的安裝場景，節省了安裝空間，整體便于生產與后期維護，具備良好的應用前景。

技術特征：

1.一種承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，包括饋通線（1），法蘭（2），密封件（3），墊圈（4），壓緊螺母結構（5），鎖緊螺母（6）和導體（7），所述法蘭（2）的中部貫穿設置有所述饋通線（1），所述饋通線（1）的內部設置有所述導體（7），所述法蘭（2）的右側與所述壓緊螺母結構（5）的螺栓部分通過螺紋連接，所述壓緊螺母結構（5）的螺栓部分的外側與所述鎖緊螺母（6）螺紋連接，所述壓緊螺母結構（5）螺栓部分內側與所述饋通線（1）之間設置有墊圈（4），所述饋通線（1）與所述法蘭（2）之間安裝有所述密封件（3）。

2.根據權利要求1所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述鎖緊螺母（6）的外徑大于所述壓緊螺母結構（5）中螺母的外徑，并且位于所述壓緊螺母結構（5）中螺母的內側。

3.根據權利要求2所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述壓緊螺母結構（5）的外側端部為旋轉螺母。

4.根據權利要求1所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述饋通線（1）在所述法蘭（2）上呈等邊形分布。

5.根據權利要求1所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述法蘭（2）的右側的內螺紋不貫穿所述法蘭（2）。

6.根據權利要求1所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述饋通線（1）位于所述法蘭（2）右側的部分設置在所述壓緊螺母結構（5）的螺栓部分內部。

7.根據權利要求6所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述饋通線（1）設置有所述導體（7）的部分的外徑小于其貫穿所述法蘭（2）的部分的外徑。

8.根據權利要求7所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述饋通線（1）緊貼所述密封件（3）與所述墊圈（4）之間的部分的外徑略大于其貫穿所述法蘭（2）的部分的外徑。

9.根據權利要求1所述的承壓平面密封型電氣饋通結構，其特征在于，所述導體（7）位于所述法蘭（2）左側的部分上設置有螺栓孔（8）。

技術總結
本技術涉及電氣貫穿接頭設備技術領域，具體地說是一種承壓平面密封型電氣饋通結構，本技術通過壓緊螺母結構與法蘭的螺紋連接起到承壓作用，通過墊圈和密封件的壓緊效果實現密封作用，且饋通線與接線端子可直接壓接或卡箍壓接，也可以通過螺栓連接，滿足不同的安裝場景，節省了安裝空間，整體便于生產與后期維護，具備良好的應用前景。

技術研發人員：李國平,俞棟雷,陶小紅,金峰,沈順福,楊振
受保護的技術使用者：上海東緣機電設備有限公司
技術研發日：20240705
技術公布日：2025/4/28