本技術(shù)屬于美發(fā)工具,尤其涉及一種吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子。
背景技術(shù):
1、頭發(fā)造型有吹發(fā)造型、燙發(fā)造型以及護(hù)發(fā)造型,簡稱吹燙護(hù)造型。目前市場上梳子主要為兩大類:
2、一類是帶有鬃毛的圓柱型毛滾梳,其特點(diǎn)是美發(fā)行業(yè)一直在流通使用,歷年來基本沒有更新?lián)Q代,只是在外觀上或顏色上進(jìn)行調(diào)整,所以其功能性、技術(shù)性、實(shí)用性一直沒有明顯突破;同時(shí)也極其容易損壞,屬于半永久性消耗品;另外在實(shí)用中因?yàn)槭嶙佑袕埩屠Φ牟僮鳎€極其容易損傷顧客頭發(fā)的現(xiàn)象,即便是理發(fā)從業(yè)操作人員,都無法很好掌握;而對于廣大普通老百姓的日常家用吹風(fēng)造型,也很難使用此種梳子,也費(fèi)時(shí)費(fèi)力費(fèi)電。
3、另外一類是常見的扁平狀尖尾梳,由于梳子厚度有限,加上這類梳子上的直角、菱角比較明顯,大多都是用來梳理頭發(fā)或剪發(fā)時(shí)使用,但是無法用于、吹發(fā)、燙發(fā)和護(hù)發(fā)造型。另外,由于這種梳子直角和菱角比較多的原因,所以也比較傷頭發(fā),也沒有得到很好地廣泛使用。此外,對于這種扁平狀尖尾梳,即便是用于吹風(fēng)時(shí),需要控制吹風(fēng)機(jī)風(fēng)嘴距離梳子一定距離,但是不容易準(zhǔn)確控制,如果距離偏近,可能會(huì)燙傷用戶頭發(fā)和頭皮;如果距離偏遠(yuǎn),則起不到吹風(fēng)效果,因此對于使用者的操作要求較高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、鑒于上述問題,本實(shí)用新型的目的在于提供一種吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,旨在解決上述技術(shù)問題。
2、本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
3、所述吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,包括梳體和梳柄,所述梳體包括梳脊以及形成于梳脊底部的一排梳齒,所述梳脊上還有多條凸起的定位圈。
4、進(jìn)一步的,所述定位圈成排設(shè)置,與梳齒一一對應(yīng)。
5、進(jìn)一步的,所述定位圈為半環(huán)型,兩端延伸至對應(yīng)梳齒兩側(cè)。
6、進(jìn)一步的,所述梳柄靠近梳體一側(cè)有手持部,其中手持部三角塊和凸塊的前后兩節(jié)結(jié)構(gòu)。
7、進(jìn)一步的,所述梳齒上粗下細(xì),為錐形結(jié)構(gòu)。
8、進(jìn)一步的,所述梳體的前端為粗細(xì)大于梳齒的防護(hù)齒。
9、進(jìn)一步的,所述梳齒的末端以及防護(hù)齒的末端均有小球,且所有小球成弧形布置。
10、進(jìn)一步的,所述梳脊位于相鄰定位圈之間位置向下形成斜面。
11、本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型在梳齒根部的梳脊上設(shè)置多條凸起的定位圈,定位圈為環(huán)繞式,可以用作固定風(fēng)嘴的加熱著力點(diǎn),用戶在操作吹風(fēng)機(jī)時(shí),將風(fēng)嘴抵在定位圈上,形成固定的吹風(fēng)安全距離,風(fēng)嘴在安全距離下加熱不傷頭發(fā),讓操作更加容易掌控。
1.一種吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,包括梳體和梳柄,所述梳體包括梳脊以及形成于梳脊底部的一排梳齒,其特征在于,所述梳脊上還有多條凸起的定位圈;所述定位圈成排設(shè)置,與梳齒一一對應(yīng);所述定位圈為半環(huán)型,兩端延伸至對應(yīng)梳齒兩側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,其特征在于,所述梳柄靠近梳體一側(cè)有手持部,其中手持部為三角塊和凸塊的前后兩節(jié)結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1或2所述吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,其特征在于,所述梳齒上粗下細(xì),為錐形結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,其特征在于,所述梳體的前端為粗細(xì)大于梳齒的防護(hù)齒。
5.如權(quán)利要求4所述吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,其特征在于,所述梳齒的末端以及防護(hù)齒的末端均有小球,且所有小球成弧形布置。
6.如權(quán)利要求5所述吹發(fā)燙發(fā)護(hù)發(fā)造型用多用途梳子,其特征在于,所述梳脊位于相鄰定位圈之間位置向下形成斜面。