一種基板清洗裝置制造方法
【專利摘要】本發明涉及一種基板清洗裝置，具體地講涉及一種半導體工藝中的基板清洗裝置。該清洗裝置包括清洗刷和刷架，所述刷架為長方體狀，并垂直于所述基板的傳送方向設置，所述刷架的相對于所述基板的一面上設置有所述清洗刷。本發明的基板清洗裝置有效增大了清洗刷與基板間的接觸面積，增強了清洗效果，從而降低了清洗劑的消耗量，節約了工藝成本。
【專利說明】一種基板清洗裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種基板清洗裝置，具體地講涉及一種半導體工藝中的基板清洗裝置。
【背景技術】
[0002]半導體工藝對清潔度和聯結有效性有很大的要求，因此，生產過程中需要對基板進行表面清洗，以減少基板表面的顆粒、油污、斑點等表面異物，從而提高基板的表面附著力。
[0003]清洗原理:清洗劑中的有機分子通常含有親水基和憎水基，根據“物質結構相似者相溶”，當有油污存在時，有機分子憎水基一端與油吸引，親水基一端朝向水，形成一層薄膜將小油滴包圍，阻止小油滴彼此結合，從而得到以油為分散質，以水為分散劑的乳濁液，達到了去油的目的。現有技術中，一般采用滾刷清洗機對基板表面進行清洗，其是利用圓柱狀滾刷的旋轉對其下方的基板進行清洗。清洗過程中，滾刷與基板之間形成一個切面的接觸面積，但該接觸面積較小；為了有效清除基板表面異物，通常需要增大清洗劑濃度，并在接觸表面噴灑大量的清洗劑。這就造成了清洗劑的大量消耗。在半導體工藝中，清洗劑一般采用含表面活化劑的KOH溶液，價格昂貴，清洗劑的大量消耗勢必造成半導體工藝成本的上升。
[0004]因此，亟需一種基板清洗裝置，能夠在保證清洗效果的前提下，減少清洗劑的消耗量，降低工藝成本。

【發明內容】

[0005]本發明的目的是提供一種基板清洗裝置，通過增大清洗刷與基板的接觸面積來增強清洗效果，從而減少清洗劑的消耗量，降低工藝成本。
[0006]為了達到上述目的，本發明提供一種基板清洗裝置，包括清洗刷和刷架，所述刷架為長方體狀，并垂直于所述基板的傳送方向設置，所述刷架的相對于所述基板的一面上設置有所述清洗刷。采用所述基板清洗裝置清洗基板表面時，清洗刷和基板間的接觸面積即清洗刷的面積。在所述清洗刷的寬與現有技術中的滾刷的直徑一致的前提下，本發明的基板清洗裝置有效增大了清洗刷與基板間的接觸面積。
[0007]優選地，所述基板清洗裝置還包括旋轉軸、導軌和直線驅動器，所述旋轉軸穿過所述刷架，并以所述刷架的縱向對稱軸為中心軸線；所述導軌平行于所述基板的傳送方向設置，所述刷架通過所述旋轉軸架設在所述導軌上，并在所述直線驅動器的驅動下沿所述導軌往復運動。所述清洗刷隨著所述刷架沿基板傳送方向往復運動，從而進一步提高了對基板的清洗效率。
[0008]所述旋轉軸為中空結構，內部設有至少一根導流管，導流管的數目優選為四根，所述導流管的管壁上分布有小孔。旋轉軸的軸壁上以及刷架側壁上均設有供清洗劑流出的通道。清洗劑通過導流管管壁上的小孔以及旋轉軸軸壁上和刷架側壁上的通道噴向基板表面，從而無需單獨設置噴淋管。
[0009]所述刷架的平行于所述旋轉軸的四個面上均設置有所述清洗刷。當使用一定時間后，將刷架沿所述旋轉軸旋轉90度，更換一個干凈的清洗刷進行清洗，從而可以延長清洗裝置的保養周期，節約保養成本。
[0010]所述清洗刷可拆卸地安裝在所述刷架上。當清洗刷使用一段時間需要清理或者更換時，只需將清洗刷拆下即可，而無需拆卸整個刷架。
[0011]所述刷架的垂直于縱向的橫截面為正方形。所述清洗刷的刷毛的材質為尼龍。
[0012]與現有技術相比，本發明的基板清洗裝置具有以下優點:
1)采用長方體的刷架結構，有效增大了清洗刷與基板的接觸面積，增強了清洗效果，從而有利于減少清洗劑的消耗量，降低工藝成本；
2)清洗刷隨著刷架沿導軌往復運動，從而進一步提高了對基板的清洗效率；
3)多孔導流管的設計，使清洗劑通過導流管管壁上的小孔噴向基板表面，從而無需單獨設置噴淋管；
4)刷架平行于旋轉軸的四面上均設置有清洗刷，從而可以通過旋轉刷架來更換清洗刷，延長了清洗裝置的保養周期，節約了保養成本；
5)清洗刷可拆卸地安裝在刷架上，便于清洗刷的清理和更換，從而節約了清洗裝置的維護成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本發明的基板清洗裝置的結構示意圖；
圖2是本發明的基板清洗裝置的導流管的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖和【具體實施方式】對本發明作進一步詳細的說明。
[0015]實施例1
一種基板清洗裝置，如圖1所示，包括清洗刷、刷架1、導軌2、旋轉軸3和直線驅動器，刷架I為長方體狀，其短邊所圍成的兩個側面為正方形。刷架I垂直于基板的傳送方向設置，刷架I相對于基板的一面上設置有清洗刷。旋轉軸3穿過刷架1，并以刷架I的縱向對稱軸為中心軸線；導軌2平行于基板的傳送方向，刷架I通過旋轉軸3架設在導軌2上，并在直線驅動器的驅動下沿導軌2往復運動。
[0016]旋轉軸3為中空結構，內部設有四根導流管4 (如圖2所示)，導流管4的管壁上分布有小孔5 ;旋轉軸3的軸壁上及刷架I的平行于旋轉軸3的四個面上均設有小孔。清洗劑通過導流管管壁上的小孔、旋轉軸3軸壁上的小孔以及刷架I側壁上的小孔噴向基板表面，從而無需單獨設置噴淋管。
[0017]清洗刷的刷毛的材質為尼龍。清洗刷可拆卸地安裝在刷架I上。當清洗刷使用一段時間后需要清理或者更換時，只需將清洗刷拆下即可，而無需拆卸整個刷架。
[0018]采用本發明的基板清洗裝置清洗基板表面時，清洗刷與基板間的接觸面積即清洗刷的面積。在所述清洗刷的寬與現有技術中的滾刷的直徑一致的前提下，本發明的基板清洗裝置有效增大了清洗刷與基板間的接觸面積，增強了清洗效果，從而有利于降低清洗劑的消耗量，節約工藝成本。清洗刷可隨著刷架沿基板傳送方向往復運動，進一步提高了對基板的清洗效率。
[0019]實施例2
本實施例中與實施例1相同的內容不再贅述。
[0020]本實施例中，刷架I的平行于旋轉軸3的四個面上均設置有清洗刷。為了有效清洗基板表面，清洗刷需要定期更換。當需要更換清洗刷時，將刷架I沿旋轉軸3旋轉90度，更換一個干凈的清洗刷繼續進行清洗，從而可以延長清洗裝置的保養周期，節約保養成本。
[0021]以上所述，僅為本發明的較佳實施例而已，不能以此來限定本發明之權利范圍，依本發明權利要求所作的等同變化，仍屬于本發明所涵蓋的范圍。
【權利要求】
1.一種基板清洗裝置，其特征在于，包括清洗刷和刷架，所述刷架為長方體狀，并垂直于所述基板的傳送方向設置，所述刷架的相對于所述基板的一面上設置有所述清洗刷。
2.根據權利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于還包括旋轉軸、導軌和直線驅動器，所述旋轉軸穿過所述刷架，并以所述刷架的縱向對稱軸為中心軸線；所述導軌平行于所述基板的傳送方向，所述刷架通過所述旋轉軸架設在所述導軌上，并在所述直線驅動器的驅動下沿所述導軌往復運動。
3.根據權利要求1或2所述的基板清洗裝置，其特征在于所述旋轉軸為中空結構，內部設有至少一根導流管，所述導流管的管壁上分布有小孔。
4.根據權利要求3所述的基板清洗裝置，其特征在于所述導流管的數目為4根。
5.根據權利要求3所述的基板清洗裝置，其特征在于所述刷架的平行于所述旋轉軸的四個面上均設置有所述清洗刷。
6.根據權利要求5所述的基板清洗裝置，其特征在于所述清洗刷可拆卸地安裝在所述刷架上。
7.根據權利要求5所述的基板清洗裝置，其特征在于所述刷架的垂直于縱向的橫截面為正方形。
8.根據權利要求5所述的基板清洗裝置，其特征在于所述清洗刷的刷毛的材質為尼龍。
【文檔編號】B08B1/02GK103894354SQ201210579739
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2012年12月27日 優先權日:2012年12月27日
【發明者】劉洋, 李永軍, 沈奇奇, 丁建, 鄒勇軍, 季京輝 申請人:北京漢能創昱科技有限公司